公开(公告)号：EP3158579A1

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：EP15808907.8

申请日：2015-06-17

申请人： L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude

发明人： SHEN, Peng ,  DUSSARRAT, Christian ,  GUPTA, Rahul ,  ANDERSON, Curtis ,  STAFFORD, Nathan ,  OMARJEE, Vincent M.

IPC分类号： H01L21/3065

CPC分类号： H01L21/30655 ,  C09K13/00

摘要： Replacement chemistries for the cC4F8 passivation gas in the Bosch etch process and processes for using the same are disclosed. These chemistries have the formula CxHyFz, with 1 ≦x

摘要翻译： 披露了Bosch蚀刻工艺中用于cC4F8钝化气体的替换化学品及其使用方法。 这些化学成分具有式C x H y F z，其中1≤x<7,1≤y≤13和1≤z≤13。 替代化学物质可以减少与深硅孔蚀刻相关的RIE滞后。

公开(公告)号：EP3563406A1

公开(公告)日：2019-11-06

申请号：EP17889218.8

申请日：2017-12-29

申请人： L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude

发明人： SURLA, Vijay ,  GUPTA, Rahul ,  SUN, Hui ,  PALLEM, Venkateswara R. ,  STAFFORD, Nathan ,  MARCHEGIANI, Fabrizio ,  OMARJEE, Vincent M. ,  ROYER, James

IPC分类号： H01L21/311 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/308 ,  H01L27/115