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    Catalyst-aided chemical processing method and apparatus
    3.
    发明公开
    Catalyst-aided chemical processing method and apparatus 审中-公开
    Katalysatorgestützteschemisches Verarbeitungsverfahren und entsprechende Vorrichtung

    公开(公告)号：EP2381008A2

    公开(公告)日：2011-10-26

    申请号：EP11006032.4

    申请日：2007-08-27

    申请人： Osaka University ,  EBARA CORPORATION

    发明人： Yamauchi, Kazuto ,  Sano, Yasuhisa ,  Hara, Hideyuki ,  Murata, Junji ,  Yagi, Keita

    IPC分类号： C23C8/40 ,  C23C18/14 ,  C25D5/06 ,  C25D5/22 ,  C25D21/12 ,  H01L21/306 ,  H01L21/321 ,  H01L21/3213

    CPC分类号： H01L21/3212 ,  B01J23/28 ,  C23C8/40 ,  C23C18/14 ,  C25D5/06 ,  C25D5/22 ,  C25D21/12 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/30612 ,  H01L21/31051 ,  H01L21/32115 ,  H01L21/32134

    摘要： A catalyst-aided chemical processing method can process hard-to-process materials, especially SiC, GaN, etc. whose importance as electronic device materials is increasing these days, with high processing efficiency and high precision even for a space wavelength range of not less than several tens of [mu]m. The catalyst-aided chemical processing method comprises: putting a workpiece in a processing liquid in which halogen-containing molecules are dissolved; and moving the workpiece and a catalyst composed of molybdenum or a molybdenum compound relative to each other while keeping the catalyst in contact with or close proximity to a surface to be processed of the workpiece, thereby processing the surface of the workpiece.

    摘要翻译： 催化辅助化学处理方法可以处理难加工材料，特别是SiC，GaN等，其电子器件材料的重要性日益增加，即使对于不小于等于的空间波长范围，处理效率高，精度高 比几十微米。 催化剂辅助化学处理方法包括：将工件放入其中溶解含卤素分子的处理液中; 并且使工件和由钼或钼化合物组成的催化剂相对于彼此移动，同时保持催化剂与待加工的表面接触或接近工件，从而处理工件的表面。

    Salzbad zur stromlosen Erzeugung verschleissfester Boridschichten
    7.
    发明公开
    Salzbad zur stromlosen Erzeugung verschleissfester Boridschichten 失效
    盐浴电解产生更多磨损硼化物层。

    公开(公告)号：EP0132602A1

    公开(公告)日：1985-02-13

    申请号：EP84107296.0

    申请日：1984-06-26

    申请人： Degussa Aktiengesellschaft

    发明人： Beyer, Hans-Hermann, Dr. Dipl.Chem. ,  Baudis, Ulrich, Dr. Dipl.Chem. ,  Biberbach, Peter, Dipl.Ing. ,  Weber, Wolfgang

    IPC分类号： C23C8/40 ,  C23C8/42 ,  C23C8/68 ,  C23C8/70

    CPC分类号： C23C8/40

    摘要： Es wird ein Salzbad beschrieben auf der Basis von Alkali-und/oder Erdalkalihalogeniden, mit dem sich stromlos haftfeste und verschleißfeste Boridschichten auf metallischen Werkstoffen erzeugen lassen. Dieses Bad enthält Bormonofluorid oder Verbindungen, aus denen sich intermediär Bormonofluorid bildet. Vorzugsweise benutzt man Salzbäder mit 30-60% BaCl, 10-25% NaCl, 1-20% Boroxid oder Borat, 10-30% NaF und 1-15% B 4 C.

    摘要翻译： 将碱金属和/或Erdaikalihalogeniden基础使金属材料上的通常粘附和耐磨硼化物层，盐浴的生成进行说明。 此浴含有一氟化硼或化合物从其中以形成中间一氟化硼。 优选使用的盐浴用30-60％氯化钡，10-25％的NaCl，1-20％的氧化硼或硼酸盐，10-30％NaF和1-15％B4C。