公开(公告)号：EP0275864B1

公开(公告)日：1991-03-06

申请号：EP87890293.1

申请日：1987-12-18

申请人： EVG Entwicklungs- u. Verwertungs- Gesellschaft m.b.H.

发明人： Ritter, Gerhard, Dipl.-Ing. Dr. ,  Ritter, Klaus, Dipl.-Ing. ,  Stoisser, Günther, Dipl.-Ing.

IPC分类号： C21D9/56

CPC分类号： C21D9/56 ,  C21D9/561 ,  C21D9/68

公开(公告)号：EP0071596B1

公开(公告)日：1986-11-20

申请号：EP82890096.9

申请日：1982-06-29

申请人： EVG Entwicklungs- u. Verwertungs- Gesellschaft m.b.H.

发明人： Gött, Hans, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Josef, Dipl.-Ing. Dr. ,  Ritter, Gerhard, Dipl.-Ing. Dr. ,  Ritter, Klaus, Dipl.-Ing.

IPC分类号： F16H3/08

CPC分类号： F16H3/08 ,  Y10T74/19037 ,  Y10T74/19288 ,  Y10T74/19326

公开(公告)号：EP0101675B1

公开(公告)日：1986-11-12

申请号：EP83890136.1

申请日：1983-08-19

申请人： EVG Entwicklungs- u. Verwertungs- Gesellschaft m.b.H.

发明人： Klaus, Ritter, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Gerhard, Dipl.-Ing. Dr. ,  Schmidt, Gerhard, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Josef, Dipl.-Ing. Dr.

IPC分类号： B21D7/02 ,  B21D11/12 ,  B21F27/14

CPC分类号： B21F1/00 ,  B21D11/12 ,  B21F27/14

公开(公告)号：EP0111474B1

公开(公告)日：1986-05-28

申请号：EP83890223.7

申请日：1983-12-09

申请人： EVG Entwicklungs- u. Verwertungs- Gesellschaft m.b.H.

发明人： Ritter, Gerhard, Dipl.-Ing. Dr. ,  Ritter, Klaus, Dipl.-Ing. ,  Jahrbacher, Gerhard, Dipl.-Ing.

IPC分类号： B23K11/32 ,  B21F27/10

CPC分类号： B23K11/008

公开(公告)号：EP0042833B1

公开(公告)日：1985-09-18

申请号：EP81890100.1

申请日：1981-06-15

申请人： EVG Entwicklungs- u. Verwertungs- Gesellschaft m.b.H.

发明人： Schmidt, Gerhard, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Klaus, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Gerhard, Dipl.-Ing. Dr.

IPC分类号： B65G57/06

CPC分类号： B65G57/06 ,  B21F33/002

公开(公告)号：EP0071595B1

公开(公告)日：1984-09-26

申请号：EP82890095.1

申请日：1982-06-29

申请人： EVG Entwicklungs- u. Verwertungs- Gesellschaft m.b.H.

发明人： Gött, Hans, Dipl.-Ing. ,  Scherr, Rudolf, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Josef, Dipl.-Ing.Dr. ,  Ritter, Klaus, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Gerhard, Dipl.-Ing. Dr.

IPC分类号： B21F27/10 ,  B23K11/10

CPC分类号： B23K11/008 ,  B21F27/10

公开(公告)号：EP0053601B1

公开(公告)日：1984-08-01

申请号：EP81890172.0

申请日：1981-10-20

申请人： EVG Entwicklungs- u. Verwertungs- Gesellschaft m.b.H.

发明人： Gött, Hans, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Josef, Dipl.-Ing. Dr. ,  Ritter, Klaus, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Gerhard, Dipl.-Ing. Dr.

IPC分类号： B21F1/04 ,  B21F27/10

CPC分类号： B21F1/04 ,  B21F27/10

公开(公告)号：EP0101675A3

公开(公告)日：1984-04-25

申请号：EP83890136

申请日：1983-08-19

申请人： EVG Entwicklungs- u. Verwertungs- Gesellschaft m.b.H.

发明人： Klaus, Ritter, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Gerhard, Dipl.-Ing. Dr. ,  Schmidt, Gerhard, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Josef, Dipl.-Ing. Dr.

IPC分类号： B21D07/02 ,  B21D11/12 ,  B21F27/14

CPC分类号： B21F1/00 ,  B21D11/12 ,  B21F27/14

公开(公告)号：EP0071595A1

公开(公告)日：1983-02-09

申请号：EP82890095.1

申请日：1982-06-29

申请人： EVG Entwicklungs- u. Verwertungs- Gesellschaft m.b.H.

发明人： Gött, Hans, Dipl.-Ing. ,  Scherr, Rudolf, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Josef, Dipl.-Ing.Dr. ,  Ritter, Klaus, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Gerhard, Dipl.-Ing. Dr.

IPC分类号： B21F27/10 ,  B23K11/10

CPC分类号： B23K11/008 ,  B21F27/10

摘要： Vielpunktschweißmaschine hat ein für Doppelpunktschweißungen In Richtung der Längselemente (L) geeignetes Schweißelektrodensystem (50, 51, 52) mit zwei Schweißlinien (S1, S2), zwei lagenfest in einem gegenseitigen Abstand (A) angeordnete Querdraht-Einschußlinien (E1, E2), zwei Querdrahtzubringer (4, 5), die auf einem gemeinsamen Träger (1) angeordnet sind, welcher in Richtung des Gittervorschubes um einen dem Abstand der Symmetrieebene (ME) der Einschußlinien von der Symmetrieebene (MS) der Schweißlinien (S1, S2) des Schweißelektrodensystems entsprechenden Hubweg (H) verschiebbar ist, sowie eine Gittervorschubeinrichtung (67). Zur Ermöglichung einer Änderung der Querdrahtabstände ist eine Einrichtung (2, 3, 21, 23) vorgesehen, mit welcher die Querdrahtzubringer (4, 5) am gemeinsamen Träger (1) während der Zubringerbewegung gegensinnig um gleich große Beträge (x) in Richtung der Längselemente (L) verstellbar sind, so daß ihre Hubwege (H ± x) gegenüber dem Hubweg (H) des Trägers (1) gegensinnig verändert werden.

摘要翻译： 多点焊机是Doppelpunktschweißungen在纵向元件（L）合适的焊接电极系统（50，51，52）具有两个焊接线（S1，S2），在相互距离（A）的两个固定位置设置横向线Einschlußlinien（E1，E2），两个方向 横向送丝器（4，5），其被布置在共同的载体（1），在其上对应于对称焊接电极系统的焊接线（MS）（S1，S2）的平面的Einschlußlinien光栅进料一对称平面的距离（ME）的方向 行程（H）是可滑动的，并且格子进给装置（67）。 为了允许在交叉线的距离的装置的变化（2,3，21，23）设置，与该横向送丝器（4，5）（1）上往复运动以相反的方向大约相等的量在相同的发射机（x）的在纵向构件的方向 （L）是可调节的，使得它们的行程（H±x）的相对于所述载体（1）的行程（H）以相反的方向改变。

公开(公告)号：EP0022123B1

公开(公告)日：1983-02-09

申请号：EP80890062.5

申请日：1980-06-04

申请人： EVG Entwicklungs- u. Verwertungs- Gesellschaft m.b.H.

发明人： Schmidt, Gerhard, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Klaus, Dipl.-Ing. ,  Ritter, Gerhard, Dipl.-Ing. Dr.

IPC分类号： B23K11/32 ,  B23K11/06

CPC分类号： B23K11/06 ,  B23K11/008