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    A method and apparatus for germanium reclamation from chemical vapor deposition exhaust gas streams
    2.
    发明公开
    A method and apparatus for germanium reclamation from chemical vapor deposition exhaust gas streams 失效
    从化学气相沉积工艺的废气中回收锗的方法和装置

    公开(公告)号：EP0863218A1

    公开(公告)日：1998-09-09

    申请号：EP98400056.2

    申请日：1998-01-14

    申请人： ALCATEL ALSTHOM COMPAGNIE GENERALE D'ELECTRICITE

    发明人： Lankewicz, David W. ,  Reilly, Bruce D.

    IPC分类号： C22B41/00 ,  B01D53/64 ,  B01D53/73 ,  C03B37/018 ,  C01G17/00 ,  C22B7/00

    CPC分类号： C22B41/00 ,  B01D53/64 ,  B01D53/73 ,  C01G17/00 ,  C03B37/0144 ,  C03B37/01846

    摘要： A continuous system recovers germanium (Ge) from a chemical vapor deposit. A chemical vapor deposit scrubber scrubs a chemical vapor deposit to form a chemical vapor deposit scrubber solution. An equalization and neutralization mixer adds a caustic soda to the chemical vapor deposit scrubber solution to form an equalization and neutralization mixer solution having a pH above 12.0 to maintain the solubility of silicon oxide (SiO 2 ) and hypochlorite (ClO - ). A hypochlorite reduction mixer adds a peroxide to the equalization and neutralization solution to form a hypochlorite reduction solution to reduce hypochlorites. A precipitant and neutralization mixer adds a metal cation such as Epsom Salts (MgSO 4 ) and a caustic soda (NAOH) to the hypochlorite reduction solution to form a precipitant and neutralization solution to precipitate magnesium germanate (MgGeO 3 ) and magnesium silicon trioxide (MgSiO 3 ). A reactor tank adds a cationic polymer to the precipitant and neutralization solution to flocculate the germanium (Ge) and silicon (Si) solids and form a flocculation solution. A plate clarifier collects the flocculation solution to form a flocculated material. A filter press and the dryer processes and drys the flocculated material to produce a dry sludge of germanium (Ge) within a range of 5%-10% by weight.

    摘要翻译： 连续系统中从化学气相沉积恢复锗（Ge）。 一种化学气相沉积洗涤器磨砂的化学气相沉积，以形成化学气相沉积洗涤器溶液。 均衡和中和混合器添加苛性钠的化学气相沉积的洗涤器溶液中，形成的均衡和中和混合器溶液具有高于12.0的pH，以保持氧化硅（SiO 2）的溶解度和次氯酸盐（CLO < - >）。 次氯酸盐还原混合器添加过氧化物的均衡和中和溶液，以形成次氯酸盐还原溶液，以减少次氯酸盐。 甲沉淀剂和中和混合器增加了一个金属阳离子：例如泻盐（MgSO 4）并苛性钠（NaOH）与次氯酸盐还原溶液中以形成沉淀，并中和溶液中沉淀镁锗（MgGeO3）和镁硅三氧化二砷（结构MgSiO3）。 的反应器罐添加阳离子性聚合物的沉淀剂和中和溶液絮凝锗（Ge）和硅（Si）的固体和形成絮凝溶液。 性A板澄清收集絮凝溶液中以形成絮凝的物质。 甲压滤机和干燥过程和DRYS絮凝物质至10％的范围内，5％重量的范围内产生锗（Ge）的干污泥。