公开(公告)号：EP3155481B1

公开(公告)日：2019-04-24

申请号：EP15721224.2

申请日：2015-05-07

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： CORTIE, Rogier, Hendrikus, Magdalena ,  BERENDSEN, Christianus, Wilhelmus, Johannes ,  JEUNINK, Andre, Bernardus ,  KOEVOETS, Adrianus, Hendrik ,  OVERKAMP, Jim, Vincent ,  TROMP, Siegfried, Alexander ,  VY, Van, Vuong ,  AUDENAERDT, Daniel, Elza, Roeland

IPC分类号： G03F7/20

公开(公告)号：EP3155481A1

公开(公告)日：2017-04-19

申请号：EP15721224.2

申请日：2015-05-07

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： CORTIE, Rogier, Hendrikus, Magdalena ,  BERENDSEN, Christianus, Wilhelmus, Johannes ,  JEUNINK, Andre, Bernardus ,  KOEVOETS, Adrianus, Hendrik ,  OVERKAMP, Jim, Vincent ,  TROMP, Siegfried, Alexander ,  VY, Van, Vuong ,  AUDENAERDT, Daniel, Elza, Roeland

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/7095 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70891

摘要： A lithographic apparatus comprising: a channel (46) for the passage therethrough of a two phase flow, wherein the channel is formed within a block, the block being of a first material (100); a second material (160) between the first material and the channel, wherein the second material has a specific heat capacity higher than that of the first material; and a third material (90) between the second material and the channel, wherein the third material has a thermal conductivity higher than that of the second material.

摘要翻译： 一种光刻设备，包括：用于通过其中的两相流的通道（46），其中所述通道形成在块内，所述块为第一材料（100）; 在所述第一材料和所述通道之间的第二材料（160），其中所述第二材料具有比所述第一材料高的比热容量; 以及在所述第二材料和所述通道之间的第三材料（90），其中所述第三材料的导热率高于所述第二材料的热导率。