公开(公告)号：EP1847877A3

公开(公告)日：2009-02-11

申请号：EP07015576.7

申请日：2006-11-28

申请人： ASML Netherlands B.V. ,  ASML Holding N.V.

发明人： Visser, Huibert ,  Callan, David William ,  Munnig Schmidt, Robert-Han ,  Wiener, Roberto B ,  Van de Ven, Johannes Theodorus Guillelmus Maria ,  Robbins, George Howard

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70425

摘要： Apparatus and methods for compensating for the movement of a substrate (W) in a lithographic apparatus during a pulse of radiation include providing a pivotable mirror (10) configured to move a patterned radiation beam incident on the substrate in substantial synchronism with the substrate.

公开(公告)号：EP1847877A2

公开(公告)日：2007-10-24

申请号：EP07015576.7

申请日：2006-11-28

申请人： ASML Netherlands B.V. ,  ASML Holding N.V.

发明人： Visser, Huibert ,  Callan, David William ,  Munnig Schmidt, Robert-Han ,  Wiener, Roberto B ,  Van de Ven, Johannes Theodorus Guillelmus Maria ,  Robbins, George Howard

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70425

摘要： Apparatus and methods for compensating for the movement of a substrate (W) in a lithographic apparatus during a pulse of radiation include providing a pivotable mirror (10) configured to move a patterned radiation beam incident on the substrate in substantial synchronism with the substrate.

公开(公告)号：EP1327912B1

公开(公告)日：2007-01-03

申请号：EP02258143.3

申请日：2002-11-27

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Jacobs, Hernes ,  Vosters, Piet ,  Hol, Sven Antoln Johan ,  van der Schoot, Harmen Klass ,  van Diesen, Robert Johannes Petrus ,  Callan, David William

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70991

公开(公告)号：EP1327912A1

公开(公告)日：2003-07-16

申请号：EP02258143.3

申请日：2002-11-27

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Jacobs, Hernes ,  Vosters, Piet ,  Hol, Sven Antoln Johan ,  van der Schoot, Harmen Klass ,  van Diesen, Robert Johannes Petrus ,  Callan, David William

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70991

摘要： A lithographic projection apparatus, in which a conduit (C2,C3) supplies utilities to a movable component in a vacuum chamber such as an object table (W2T,W3T) , associated motor or sensor. The conduit comprises flexible metal bellows preventing out-gassing of the conduit due to the vacuum in the vacuum chamber while allowing movement of the movable component in at least a first degree of freedom.

摘要翻译： 一种光刻投影设备，其中导管（C2，C3）向诸如物体台（W2T，W3T），相关马达或传感器之类的真空室中的可移动部件提供功用。 该导管包括柔性金属波纹管，该柔性金属波纹管防止由于真空室中的真空引起的导管的气体泄漏，同时允许可移动部件至少在第一自由度上移动。

公开(公告)号：EP1795966B1

公开(公告)日：2008-06-18

申请号：EP06256076.8

申请日：2006-11-28

申请人： ASML Netherlands BV ,  ASML Holding N.V.

发明人： Visser, Huibert ,  Callan, David William ,  Munnig Schmidt, Robert-Han ,  Wiener, Roberto ,  Van De Ven, Johannes, T. G. ,  Robbins, George Howard

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70425

公开(公告)号：EP1795966A1

公开(公告)日：2007-06-13

申请号：EP06256076.8

申请日：2006-11-28

申请人： ASML Netherlands BV ,  ASML Holding N.V.

发明人： Visser, Huibert ,  Callan, David William ,  Munnig Schmidt, Robert-Han ,  Wiener, Roberto ,  Van De Ven, Johannes, T. G. ,  Robbins, George Howard

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70425

摘要： Apparatus and methods for compensating for the movement of a substrate (W) in a lithographic apparatus during a pulse of radiation include providing a pivotable mirror (10) configured to move a patterned radiation beam incident on the substrate in substantial synchronism with the substrate.

摘要翻译： 用于在辐射脉冲期间补偿光刻设备中的衬底（W）的移动的装置和方法包括提供可枢转镜（10），该可旋转镜配置为与衬底基本同步地移动入射在衬底上的图案化辐射束。