摘要:
Bekannt sind Verfahren zum Entfernen von an Oberflächen von Behandlungsgut anhaftender Flüssigkeit mittels Druckluftstrahlen, die aus Öffnungen in Luftstrahleinrichtungen austreten und auf das Behandlungsgut gerichtet sind. Derartige Verfahren werden beispielsweise für die Entfernung von an Oberflächen anhaftender Galvanisierflüssigkeit angewendet. Die bekannten Verfahren haben den Nachteil, daß eine fleckenfreie Trocknung nicht oder nur mit erheblichem apparativen Aufwand möglich ist. Daher werden ein Verfahren und eine Anordnung beschrieben, in der zur fleckenfreien Trocknung Luftstrahleinrichtungen, aus denen die Druckluftstrahlen austreten, in mindestens einer Ebene in oszillierende Bewegungen versetzt. Dadurch wird die Flüssigkeit an der Oberfläche des Behandlungsgutes im wesentlichen zerstäubt und damit schnell von dieser entfernt. Die restliche Oberflächenfeuchtigkeit kann verdunsten. Zur Unterstützung der Verdunstung wird erwärmte Druckluft verwendet.
摘要:
Die Erfindung geht aus von einem Verfahren zum Transportieren und Anbringen von chemisch zu behandelndem, insbesondere zu galvanisierenden, plattenförmigem Gut (4) zu und an Warenträgern (16), die Klammern (15) zum lösbaren Halt des Gutes aufweisen, sowie zur Abnahme der behandelten Platten vom Warenträger und zu deren Abtransport. Beim Stand der Technik sich einstellende Beschädigungen der Platten während des Transportierens und Anbringens des Gutes sollen vermieden werden. Hierzu ist vorgesehen, daß die bevorzugt in senkrechter Lage angelieferten Platten in dieser Lage durch maschinelle Erfassung lediglich an ihren Galvanorändern (4'') vereinzelt und nacheinander in einem definierten Abstand (14) unter einen Warenträger (16) transportiert werden, wobei diese definierten Abstände auf die Abstände und Position der Klammern (15) des Warenträgers (16) abgestimmt sind. Anschließend erfolgt ein Anheben der Platten (4) und deren Erfassen durch die Klammern (15) des Warenträgers (16) ebenfalls nur am Galvanorand (4''). Nach Behandlung der Platten in den Behandlungsstationen einer chemischen, insbesondere galvanischen Anlage oder dergleichen erfolgen im Prinzip die vorstehend erläuterten Maßnahmen, jedoch im umgekehrten Funktionsablauf, d.h. zunächst Lösen der Platten vom Warenträger, Absenken der Platten und Weitertransport zu einer Ablage.