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    Plating bath composition for immersion plating of gold
    2.
    发明公开
    Plating bath composition for immersion plating of gold 审中-公开
    Plattierungsbadzusammensetzungfürdie Tauchplattierung von Gold

    公开(公告)号：EP2698449A1

    公开(公告)日：2014-02-19

    申请号：EP12180227.6

    申请日：2012-08-13

    申请人： Atotech Deutschland GmbH

    发明人： Niemann, Sandra ,  Schafsteller, Britta Dr. ,  Schulz, Jenny ,  Habig, Ellen ,  Brunner, Dr. Heiko ,  Kohlmann, Lars ,  Rückbrod, Sven

    IPC分类号： C23C18/54

    CPC分类号： C23C18/54

    摘要： The present invention relates to a cyanide-free aqueous immersion-type plating bath for deposition of gold, comprising gold ions, at least one complexing agent, sulfite ions, thiosulfate ions, and at least one ureylene polymer additive. The gold layer deposited from the plating bath according to the present invention shows a lemon-yellow colour and a sufficient wettability for tin based solder materials.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于沉积金的无氰化合物浸渍型电镀液，其包含金离子，至少一种络合剂，亚硫酸根离子，硫代硫酸根离子和至少一种乙烯基聚合物添加剂。 根据本发明从镀浴沉积的金层显示柠檬黄色和对锡基焊料材料具有足够的润湿性。

    Polymere mit Aminoendgruppen und deren Verwendung als Additive für galvanische Zink- und Zinklegierungsbäder
    4.
    发明公开
    Polymere mit Aminoendgruppen und deren Verwendung als Additive für galvanische Zink- und Zinklegierungsbäder 审中-公开
    Polymere mit Aminoendgruppen und deren Verwendung als Additivefürgalvanische Zink- undZinklegierungsbäder

    公开(公告)号：EP2292679A1

    公开(公告)日：2011-03-09

    申请号：EP09169786.2

    申请日：2009-09-08

    申请人： ATOTECH Deutschland GmbH

    发明人： Brunner, Heiko ,  Kohlmann, Lars ,  Habig, Ellen ,  Vogel, Roland ,  Dingwerth, Björn ,  Bedrnik, Lukas

    IPC分类号： C08G71/02 ,  C25D3/22 ,  C25D3/56

    摘要： Es werden Additive für Elektrolytbäder zur galvanischen Abscheidung einer Zink- oder Zinklegierungsschicht beschrieben. Bei den Additiven handelt es sich um Polymere mit Aminoendgruppen. Diese Polymere sind erhältlich durch Umsetzung mindestens einer Diaminoverbindung (mit zwei tertiären Aminogruppen) mit mindestens einer Di(pseudo)halogenverbindung, wobei die Diaminoverbindung im stöchiometrischen Überschuss eingesetzt wird. Die Additive bewirken insbesondere nur eine geringe Blasenbildung und nur geringe Abbrennungen sowie eine gleichmäßige Schichtdickenverteilung bei der galvanischen Abscheidung von Zink- oder Zinklegierungsschichten.

    摘要翻译： 电解浴包含聚合物（I），其中聚合物链在两端都显示出单元A. 电解浴包含式（A - [ - L-A-]）n-L-A）（I）的聚合物，其中聚合物链在两端呈现单元A. A：衍生自式（R2-N（R1）-R3-NH-C（= X）-NH-R4-N（R5）-R6）（II）的二氨基化合物的单元，（R2-N（R1） -R 3 -N-C（= X）-NH-C（= Y1）-NH-R4-N（R5）-R6）（III），R2-N（R1）-R3-NH-C（= X） （Ⅴ），（Ⅵ）或（Ⅶ）的化合物。 X，Y 1：O或NR; R：H或1-6C烷基; Z：O或S; R1，R2，R5，R6：任选取代的1-10C烃; R3，R4，R8：（CH 2）por - [CH 2CH 2 O] n1-CH 2CH 2; p：2-12; n1：1-40; L： - （CH 2）r - ， - CH 2 -CH（OH）-CH 2 - 或 - [CH 2 CH 2 O] q-CH 2 CH 2 - r：1-12; q：1-40; 并且n：大于0的整数。还包括以下的独立权利要求：（1）聚合物和（2）明亮和平原的锌或锌合金涂层的电沉积，包括将可涂覆的基材 电解液浴。 A：衍生自二氨基化合物（III）的单元。 [图像] [图像] [图像]。