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    Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von gehärteten Lackschichten
    1.
    发明公开
    Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von gehärteten Lackschichten 有权
    用于生产固化的涂层的方法和装置

    公开(公告)号：EP1002587A3

    公开(公告)日：2003-12-03

    申请号：EP99121912.2

    申请日：1999-11-05

    申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Schrof, Wolfgang, Dr. ,  Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Beck, Erich, Dr. ,  Meisenburg, Uwe, Dr.

    IPC分类号： B05D3/06 ,  B05D3/00 ,  B05B17/04 ,  B05C9/10

    CPC分类号： B05D3/061

    摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung mindestens einer Lackschicht an mindestens einer Stelle einer Substratoberfläche, das mindestens die folgenden Schritte in der folgenden Reihenfolge aufweist: a) Initiieren mindestens einer Vernetzungsreaktion in mindestens einer reaktiven Lackformulierung; b) Aufbringen der mindestens einen reaktiven Lackformulierung vor Einsetzen der mindestens einen Vernetzungsreaktion an der mindestens einen Stelle der Substratoberfläche. Des weiteren betrifft die vorliegende Erfindung eine entsprechende Vorrichtung zur Herstellung mindestens einer Lackschicht an mindestens einer Stelle einer Substratoberfläche, die mindestens die folgenden Elemente aufweist: a) mindestens einen Vorratsbehälter für mindestens eine reaktive Lackformulierung, b) mindestens eine Belichtungseinheit, bevorzugt eine UV-Belichtungseinheit, weiter bevorzugt einen UV-Laser, und c) mindestens eine Applikationseinheit mit einer Düse, insbesondere ein Sprühkopf und/oder d) eine Glocke für eine elektrostatische Applikation (ESTA-Glocke), wobei die mindestens eine Belichtungseinheit so ausgebildet ist, daß die in der mindestens einen Belichtungseinheit generierte Strahlung in der mindestens einen Apptikationseinheit mit der mindestens einen reaktiven Lackformulierung in Kontakt gebracht wird. Letztlich wird auch eine Lackschicht beansprucht, die durch das erfindungsgemäße Verfahren herstellbar ist.

    Verfahren zur Herstellung von p-Hydroxystyrolpolymerisaten und deren Verwendung
    4.
    发明公开
    Verfahren zur Herstellung von p-Hydroxystyrolpolymerisaten und deren Verwendung 失效
    Verfahren zur Herstellung von p-Hydroxystyrolpolymerisaten und deren Verwendung。

    公开(公告)号：EP0605856A3

    公开(公告)日：1994-10-26

    申请号：EP93120857.3

    申请日：1993-12-23

    申请人： BASF Aktiengesellschaft

    发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Funhoff, Dirk, Dr. ,  Binder, Horst ,  Smuda, Hubert, Dr.

    IPC分类号： C08F8/04 ,  C08F8/14

    CPC分类号： C08F8/00 ,  C08F8/04

    摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von p-Hydroxystyrolpolymerisaten durch radikalische Polymerisation von p-Hydroxystyrol, dessen phenolische Hydroxylgruppe durch eine säurespaltbare Gruppe geschützt ist, oder von Gemischen derart geschützten p-Hydroxystyrols mit anderen polymerisierbaren ethylenisch ungesättigten organischen Verbindungen bis zu einem Polymerisationsumsatz von über 95 % und anschließende Behandlung des Polymerisats mit einer Säure, wobei das Polymerisat während oder nach der Säurebehandlung mit einem Reduktionsmittel behandelt wird. Die erfindungsgemäß hergestellten p-Hydroxystyrolpolymerisate eignen sich für die Deep-UV-Lithographie.

    摘要翻译： 本发明涉及通过自由基聚合对羟基苯乙烯制备对羟基苯乙烯聚合物的方法，该对羟基苯乙烯的酚羟基被酸可裂解基团保护，或者以这种方式保护的对羟基苯乙烯与其它物质的混合物 可聚合烯键式不饱和有机化合物，其聚合转化率大于95％，随后用酸处理聚合物，其中聚合物在酸处理期间或之后用还原剂处理。 根据本发明制备的对羟基苯乙烯聚合物适用于深UV光刻。

    Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit Disulfonsäurespendern
    7.
    发明公开
    Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit Disulfonsäurespendern 失效
    具有疏水性酸性发生器的正性工作辐射敏感组合物

    公开(公告)号：EP0520265A3

    公开(公告)日：1993-09-22

    申请号：EP92109980.0

    申请日：1992-06-13

    申请人： BASF Aktiengesellschaft

    发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Binder, Horst ,  Funhoff, Dirk, Dr. ,  Roser, Joachim, Dr. ,  Funhoff, Angelika, Dr.

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/039

    摘要： Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, enthaltend
    (a1) ein säurelabile Ether-, Ester- oder Carbonatgruppen enthaltendes organisches Bindemittel, oder (a2) ein in Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches polymeres Bindemittel und (a2.1) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, oder (a2.2) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird und die mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung sowie zusätzlich eine Gruppierung, die unter Einwirkung von Strahlung eine starke Säure bildet, enthält oder ein Gemisch der organischen Verbindungen (a2.1) und (a2.2) und (b) ein Disulfon der allgemeinen Formel
            R¹-SO₂-SO₂-R²
    worin R¹ und R² für, gegebenenfalls substituiertes, Alkyl, Cycloalkyl, Aryl, Aralkyl oder Heteroaryl mit bis zu 12 Kohlenstoffatomen stehen. Dieses strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefmustern.

    Strahlungsempfindliches Gemisch
    8.
    发明公开
    Strahlungsempfindliches Gemisch 失效
    。。。

    公开(公告)号：EP0553737A1

    公开(公告)日：1993-08-04

    申请号：EP93101036.7

    申请日：1993-01-23

    申请人： BASF Aktiengesellschaft

    发明人： Binder, Horst ,  Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Funhoff, Dirk, Dr.

    IPC分类号： G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/11 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122

    摘要： Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, im wesentlichen bestehend aus

    (a) einem in Wasser unlöslichen Bindemittel oder Bindemittelgemisch und
    (b) einer bei Bestrahlung eine starke Säure bildenden Verbindung,
    wobei Komponente (a) ein phenolisches Harz ist, dessen phenolische Hydroxylgruppen vollständig oder teilweise durch Gruppierungen (IA) oder (IB) ersetzt sind

    worin R¹, R² und R³ für Alkylreste stehen oder R¹ mit R² zusammen einen Ring bildet, X = CH₂, O, S, SO₂ oder NR⁴.
    Dieses strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen.

    摘要翻译： 本发明涉及一种基本上包含（a）水不溶性粘合剂或粘合剂混合物的辐射敏感性混合物，和（b）在照射下形成强酸的化合物，其中组分（a）是酚醛树脂，全部或一些 其酚羟基已被基团（IA）或（IB）替代，其中R 1，R 2和R 3是烷基，或R 1与R 2一起， 形成环，X是CH 2，O，S，SO 2或NR 4。 这种辐射敏感的混合物适用于生产浮雕结构。

    Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit Disulfonsäurespendern
    10.
    发明公开
    Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit Disulfonsäurespendern 失效
    积极主义者（Strahlungsempfindliches）Gemisch mitDisulfonsäurespendern。

    公开(公告)号：EP0520265A2

    公开(公告)日：1992-12-30

    申请号：EP92109980.0

    申请日：1992-06-13

    申请人： BASF Aktiengesellschaft

    发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Binder, Horst ,  Funhoff, Dirk, Dr. ,  Roser, Joachim, Dr. ,  Funhoff, Angelika, Dr.

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/039

    摘要： Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, enthaltend

    (a1) ein säurelabile Ether-, Ester- oder Carbonatgruppen enthaltendes organisches Bindemittel, oder
    (a2) ein in Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches polymeres Bindemittel und
    (a2.1) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, oder
    (a2.2) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird und die mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung sowie zusätzlich eine Gruppierung, die unter Einwirkung von Strahlung eine starke Säure bildet, enthält oder ein Gemisch der organischen Verbindungen (a2.1) und (a2.2) und
    (b) ein Disulfon der allgemeinen Formel



            R¹-SO₂-SO₂-R²



    worin R¹ und R² für, gegebenenfalls substituiertes, Alkyl, Cycloalkyl, Aryl, Aralkyl oder Heteroaryl mit bis zu 12 Kohlenstoffatomen stehen.

    Dieses strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefmustern.

    摘要翻译： 本发明涉及一种正性辐射敏感性组合物，其含有（a1）含有醚，酯或碳酸酯基团的酸不稳定有机粘合剂，或（a2）可溶于碱性水溶液的水不溶性聚合物粘合剂，和 a2.1）其在碱性显影剂中的溶解度通过暴露于酸而增加的有机化合物，或（a2.2）其在碱性显影剂中的溶解度在暴露于酸中并且含有至少一种酸的有机化合物 另外，在暴露于辐射时形成强酸的分组，或有机化合物（a2.1）和（a.2.2）的混合物和（b）通式R 1的二元环， 1 -SO 2 -SO 2 -R 2其中R 1和R 2是任选取代的含有至多12个碳原子的烷基，环烷基，芳基，芳烷基或杂芳基。 所述辐射敏感组合物适于制备浮雕图案。