公开(公告)号：EP0432599A3

公开(公告)日：1992-02-26

申请号：EP90123055.7

申请日：1990-12-01

申请人： BASF Aktiengesellschaft

发明人： Nguyen Kim, Son, Dr.

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/039

摘要： Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, im wesentlichen bestehend aus
(a) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen Bindemittel oder Bindemittelgemisch und (b) einer bei Bestrahlung eine starke Säure bildenden Verbindung, wobei Komponente (a) mindestens eine Gruppierung

enthält. Das erfindungsgemäße strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen.

公开(公告)号：EP0424766A2

公开(公告)日：1991-05-02

申请号：EP90119671.7

申请日：1990-10-15

申请人： BASF Aktiengesellschaft

发明人： Nguyen Kim, Son, Dr.

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039

摘要： Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, das im wesentlichen besteht aus

(a) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen Bindemittel oder Bindemittelgemisch,
(b) einer bei Bestrahlung eine starke Säure bildenden Verbindung, und
(c) einer organischen Verbindung die eine durch Säure spaltbare Carbamateinheit enthält.

Dieses strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen.

摘要翻译： 本发明涉及一种基本上由......组成的辐射敏感性混合物（a）可溶于碱性水溶液的水不溶性粘合剂或粘合剂混合物，（b）在照射下形成强酸的化合物和 c）含有可酸分解碳酸酯单元的有机化合物。 ......这种辐射敏感的混合物适用于浮雕结构的形成。

公开(公告)号：EP1002811B1

公开(公告)日：2002-02-13

申请号：EP99122635.8

申请日：1999-11-13

申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT

发明人： Nguyen Kim, Son, Dr. ,  Sanner, Axel, Dr. ,  Hössel, Peter, Dr. ,  Schehlmann, Volker, Dr.

IPC分类号： C08F271/02 ,  A61K7/06

CPC分类号： A61Q5/06 ,  A61K8/91 ,  C08F271/02 ,  C08L51/003

公开(公告)号：EP0821933A1

公开(公告)日：1998-02-04

申请号：EP97113351.7

申请日：1997-08-01

申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT

发明人： Nguyen Kim, Son, Dr. ,  Sanner, Axel, Dr. ,  Hössel, Peter, Dr. ,  Kroner, Matthias, Dr.

IPC分类号： A61K7/06 ,  C08G69/10 ,  C08G73/06

CPC分类号： A61K8/88 ,  A61K8/8182 ,  A61Q5/02 ,  A61Q5/12 ,  C08G73/1092

摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft wasserlösliche oder wasserdispergierbare Polyasparaginsäurederivate, ihre Herstellung und ihre Verwendung in der Kosmetik, insbesondere in der Haarkosmetik.

摘要翻译： 式（I）或它们的（聚）羧酸盐或季铵化合物的水溶性和/或可分散的聚天冬氨酸衍生物。 衍生物已声明。 在（I），（X1 + X2）= 30-99.9; （Y1 + Y2）= 0.1-70; Z = 0-20; A =至少一个整洁，秒或叔 2-6C烷基胺，任选地被1-3个取代基选自OH选择或者烷基上的烷氧基，式中的至少一种二胺（R <2>）（R <3>）N（CH 2）MN（R <1> ）（R <4>）（II）（其中m = 2-6; R <1>，R <4> = H或烷基; R <2>，R <3> =烷基或它们结合的N原子 它们所键合形成下式的5-7元饱和杂环（III）（其中，n 'O'= 1-5; X“= CH 2，S，O，NR <5）<，其中R <5 > = H或烷基（））或式中的至少一种环状二胺（III）其中N，O = 1-5，X = NR <5>（其中R <5> = H或烷基））; B =至少一个的式R <6> Y（CH 2）p N（R <7>）（R <8>）（IV）（其中基团R <6> -Y（CH 2）p包含-6-胺 24C原子，p = 1-23; Y = CH 2，O，N，CONH或N-COR <9>（其中CO基团键合至R <6>）; R <6> = H或（未） 饱和脂肪酸的烃; R <7> - [R <8> = H，（羟基）烷基或-CH 2 - ACH2OÜrH（其中，r = 1-30; R <9> =烷基））; C =至少一个素数的衍生物。 或仲胺（A）与氨基H原子的去除。 和D =至少一个素数的衍生物。 或秒胺（B）与氨基氢原子除去，通过设置确实X1 + X2 + Y1 + Y2 + Z = 100和至少一种胺（A）或（B）含有一个叔 氨基。 所以要求保护的是：（ⅰ）的（I）的制备通过使聚天冬氨酸或与至少一种胺（A）和至少一种胺（B）和（ii）头发处理产品含有至少一种化合物（I）bispolysuccinimides ，

公开(公告)号：EP0459260A2

公开(公告)日：1991-12-04

申请号：EP91108090.1

申请日：1991-05-18

申请人： BASF Aktiengesellschaft

发明人： Nguyen Kim, Son, Dr.

IPC分类号： C08G8/38 ,  C08L61/04 ,  G03F7/038

CPC分类号： C08G8/38

摘要： Die Anmeldung betrifft ein Kondensation sprodukt aus einem phenolische Gruppierungen enthaltenden Polymeren und einer Di- oder Polymethylolverbindung, das mindestens eine Gruppierung der allgemeinen Formel

aufweist, worin R für Wasserstoff oder eine säurelabile Gruppe, R¹, R² und R³ für Wasserstoff, OH, Alkyl oder einen an eine Polymerkette gebundenen Rest stehen.
Dieses Kondensationsprodukt eignet sich zur Herstellung strahlungsempfindlicher Gemische für lichtempfindliche Beschichtungsmaterialien und Reliefstrukturen.

摘要翻译： 本发明涉及包含酚基的聚合物与含有至少一个式（IMAGE）的基团的二羟甲基化合物或多羟甲基化合物缩合的产物，其中R是氢或酸不稳定基团R 1， R 2和R 3是氢，OH，烷基或与聚合物链键合的基团。 该缩合产物适用于光敏涂料和浮雕结构的辐射敏感性混合物的制备。

公开(公告)号：EP0911024B1

公开(公告)日：2004-02-04

申请号：EP98118228.0

申请日：1998-09-25

申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT

发明人： Nguyen Kim, Son, Dr. ,  Sanner, Axel, Dr. ,  Kolter, Karl, Dr.

IPC分类号： A61K9/28 ,  A61K47/34

CPC分类号： A61K9/2853 ,  A61K9/2031

公开(公告)号：EP1035144A2

公开(公告)日：2000-09-13

申请号：EP00104984.0

申请日：2000-03-09

申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT

发明人： Nguyen Kim, Son, Dr. ,  Sanner, Axel, Dr. ,  Hössel, Peter, Dr.

IPC分类号： C08G18/32 ,  C08G18/50 ,  C08G18/61 ,  A61K7/06

CPC分类号： A61K8/87 ,  A61Q5/02 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/12 ,  A61Q19/00 ,  C08G18/0823 ,  C08G18/0833 ,  C08G18/3228 ,  C08G18/5024 ,  C08G18/61 ,  C08G18/6659 ,  C08L75/02

摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft Polymere, Polyharnstoffe sowie wasserlösliche oder wasserdispergierbare polymere Salze, ein kosmetisches oder pharmazeutisches Mittel, das wenigstens ein solches Polymer enthält, sowie die Verwendung der Polymere.

摘要翻译： 衍生自烷氧基化二胺，氨基或羟基官能聚硅氧烷和二异氰酸酯的离子型聚脲（I）是新的。 新离子聚脲（I）衍生自：（1）含有式 - （CH 2 CH 2 O-） - （C 3 H 6 -O-）m（2）至少一个氨基或羟基官能聚硅氧烷基团的二胺; （3）至少一种二异氰酸酯; （4）任选的含有至少一个离子基团的二 - ，三 - ，四 - 或多胺; 和（5）任选的一种或多种分子量为60-6000的二胺。 m，n = 0-50; m + n = 5-60。 还包括以下独立权利要求：（1）制备（I）的方法，其包括在50℃或更低的醇或含水醇中聚合，条件是聚硅氧烷和二异氰酸酯首先如果聚硅氧烷是羟基官能团 ; （2）包含离子聚合物A和中和聚合物B的水溶性或可分散的盐（II），其中聚合物A中的离子基团的数目是聚合物B中离子基团数量的2-30倍; （3）制备（II）的方法，包括在溶剂中用单价中和剂部分中和聚合物A，然后加入聚合物B.

公开(公告)号：EP0459260A3

公开(公告)日：1993-01-07

申请号：EP91108090.1

申请日：1991-05-18

申请人： BASF Aktiengesellschaft

发明人： Nguyen Kim, Son, Dr.

IPC分类号： C08G8/38 ,  C08L61/04 ,  G03F7/038

CPC分类号： C08G8/38

摘要： Die Anmeldung betrifft ein Kondensation sprodukt aus einem phenolische Gruppierungen enthaltenden Polymeren und einer Di- oder Polymethylolverbindung, das mindestens eine Gruppierung der allgemeinen Formel

aufweist, worin R für Wasserstoff oder eine säurelabile Gruppe, R¹, R² und R³ für Wasserstoff, OH, Alkyl oder einen an eine Polymerkette gebundenen Rest stehen. Dieses Kondensationsprodukt eignet sich zur Herstellung strahlungsempfindlicher Gemische für lichtempfindliche Beschichtungsmaterialien und Reliefstrukturen.

公开(公告)号：EP0425891A3

公开(公告)日：1992-11-19

申请号：EP90119878.8

申请日：1990-10-17

申请人： BASF Aktiengesellschaft

发明人： Nguyen Kim, Son, Dr.

IPC分类号： C08L61/06 ,  C08K5/59 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/038 ,  C08G8/08 ,  C08K5/0025

摘要： Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, aus
a) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen Bindemittel oder Bindemittelgemisch auf Basis parasubstituierter Phenol/Formaldehyd-Harze, die an ihren Kettenenden in ortho-Stellung teilweise Methylolgruppen oder Gruppierungen, die bei Einwirkung von Säure Methylolgruppen ergeben, und in para-Stellung -OR-Gruppen, worin R für Alkyl, Aralkyl oder Acyl steht, enthalten und b) einer bei Bestrahlung eine starke Säure bildenden Verbindung Das strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung lichtempfindlicher Beschichtungsmaterialien und Reliefstrukturen.

摘要翻译： 本发明涉及一种辐射敏感性混合物，其包含a）基于对位取代的酚醛树脂的水不溶性但碱水溶性粘合剂或粘合剂混合物，其在其末端含有羟甲基或形成 在一些邻位反应的羟甲基，以及其中R为烷基，芳烷基或酰基的对位基团，和b）在照射下形成强酸的化合物。 辐射敏感的混合物适用于生产光敏涂层材料和浮雕结构。

公开(公告)号：EP0372408A2

公开(公告)日：1990-06-13

申请号：EP89122182.2

申请日：1989-12-01

申请人： BASF Aktiengesellschaft

发明人： Nguyen Kim, Son, Dr. ,  Hoffmann, Gerhard, Dr. ,  Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Binder, Horst ,  Schuhmacher, Rudolf, Dr.

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045

摘要： Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, im wesentlichen bestehend aus

(a) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen Bindemittel oder Bindemittelgemisch,
(b) einer bei Bestrahlung eine starke Säure bildenden Verbindung und
(c) einer oder mehreren die Löslichkeit von (a) in wäßrig-alkalischen Lösungen inhibierenden organischen Verbindungen,
wobei die organische Verbindung (c) ein Monoketal einer β-Dicarbonylverbindung ist.
Dieses strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Photoresists.

摘要翻译： 本发明涉及一种辐射敏感性混合物，其基本上包含（a）不溶于水但可溶于水性 - 碱性溶液的粘合剂或粘合剂混合物，（b）在照射时形成强酸的化合物，和（c） 一种或多种抑制（a）在碱性水溶液中的溶解度的有机化合物，有机化合物（c）是β-二羰基化合物的单酯。 该辐射敏感混合物适用于制备光致抗蚀剂。