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1.发明授权Catoptric projection system, exposure apparatus and device fabrication method using the same 有权反射投影系统，曝光装置以及制造过程中与它们的使用
公开(公告)号：EP1335228B1
公开(公告)日：2006-01-11
申请号：EP03250720.4
申请日：2003-02-05
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0652 , G02B17/0657 , G03F7/70275
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2.发明公开Catoptric projection system, exposure apparatus and device fabrication method using the same 有权Katoptrisches Projektionssystem，Belichtungsvorrichtung und Herstellungsprozess mit deren Verwendung
公开(公告)号：EP1335228A1
公开(公告)日：2003-08-13
申请号：EP03250720.4
申请日：2003-02-05
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0652 , G02B17/0657 , G03F7/70275
摘要： A cataoptric projection optical system for projecting a pattern on an object surface onto an image surface and for serving as an imaging system that forms an intermediate image includes first, second, third and fourth mirrors serving substantially as a coaxial system so as to sequentially reflect light from an object side to an image side, and being arranged so that light from the object surface to the first mirror may intersect light from the second mirror to the third mirror.
摘要翻译： 用于将物体表面上的图案投影到图像表面上并用作形成中间图像的成像系统的计算投影光学系统包括基本上用作同轴系统的第一，第二，第三和第四反射镜，以顺序地反射光 从物体侧到图像侧，并且被布置成使得从物体表面到第一反射镜的光可以与从第二反射镜到第三反射镜的光相交。
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