公开(公告)号：EP0526650A1

公开(公告)日：1993-02-10

申请号：EP92905096.1

申请日：1992-02-25

申请人： CHISSO CORPORATION

发明人： KATOU, Kouichi 10-3, Otsutomocho ,  MAEDA, Hirotoshi 10-2, Otsutomocho ,  KUNIMUNE, Kouichi 12-2, Ichihara

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0233

摘要： A photosensitive polymer composition comprising mainly a poly(amide)imide precursor containing repeating units represented by general formula (I), at least one quinone diazide compound and an organic solvent; and a method of pattern formation by using the composition (I), wherein R 1 represents a tri- or tetravalent carbocyclic aromatic or heterocyclic group; R 2 represents a C 2 or higher aliphatic, alicyclic, araliphatic, carbocyclic aromatic or heterocyclic group, or a polysiloxane group; X represents -O- or -NR 5 -, wherein R 5 represents hydrogen or a C 10 or lower organic group; R 3 represents a divalent organic group; R 4 represents hydrogen or a monovalent C 20 or lower organic group; Ar represents the hexa- or decavalent organic group: a, β, ψ or δ; k is an integer of 1 to 5; the sum of j, k and I is equal to the number of free valencies of Ar; m is 1 or 2; n is 0 or 1; and 1 m + n

摘要翻译： 一种主要包含含有由通式（I）表示的重复单元的聚（酰胺）酰亚胺前体，至少一种醌二叠氮化合物和有机溶剂的光敏聚合物组合物; 和使用组合物（I）的图案形成方法，其中R 1表示三价或四价碳环芳族或杂环基团; R 2表示C2或更高级脂族，脂环族，芳脂族，碳环芳族或杂环基或聚硅氧烷基; X表示-O-或-NR 5 - ，其中R 5表示氢或C10或更低级的有机基团; R 3表示二价有机基团; R 4表示氢或一价C 20或更低级有机基团; Ar表示六价或十价有机基团：α，β，psi或δ; k为1〜5的整数， j，k和l的和等于Ar的自由价数; m为1或2; n为0或1; 该组合物包含容易生产且仅含有少量杂质的光敏聚合物，并且可以提供具有优异储存稳定性的聚酰胺酰亚胺膜，良好的 灵敏度和良好的浮雕格局。