公开(公告)号：EP0634449A3

公开(公告)日：1995-09-27

申请号：EP94810399.9

申请日：1994-07-05

申请人： CIBA-GEIGY AG

发明人： Steinmann, Alfred, Dr.

IPC分类号： C08K5/3435 ,  C08G65/22 ,  C08L71/02

CPC分类号： C08G65/22 ,  C08L71/02 ,  C08L2666/02

摘要： Es werden Polyether der Formel I beschrieben,

worin m 0 oder 1 ist; n eine ganze Zahl aus dem Bereich von 3 bis 100 bedeutet;
R¹ im Fall, daß m 0 oder 1 ist, C₁-C₃₆-Alkyl, oder C₇-C₃₆-Aralkyl, die jeweils unsubstituiert oder durch C₅-C₈-Cycloalkyl substituiert, im aliphatischen Teil durch C₅-C₈-Cycloalkylen oder durch Sauerstoff oder Schwefel oder -NR¹¹-unterbrochen oder im aromatischen Teil durch 1 bis 3 C₁-C₄-Alkyl- und/oder C₁-C₄-Alkoxyreste substituiert sind; C₃-C₃₆-Alkenyl; C₅-C₁₂-Cycloalkyl, welches unsubstituiert oder durch 1 bis 4 der C₁-C₄-Alkyl- und/oder C₁-C₄-Alkoxyreste substituiert ist; C₆-C₁₀-Aryl, welches unsubstituiert oder durch 1 bis 4 C₁-C₄-Alkyl- und/oder C₁-C₄-Alkoxyreste substituiert ist, bedeutet; und R¹ im Fall, daß m 0 ist, zusätzlich Wasserstoff; C₁-C₃₆-Alkoxy oder C₇-C₃₆-Aralkoxy, die jeweils unsubstituiert oder durch C₅-C₈-Cycloalkyl substituiert, im aliphatischen Teil durch C₅-C₈-Cycloalkylen oder durch Sauerstoff oder Schwefel oder -NR¹¹- unterbrochen oder im aromatischen Teil durch 1 bis 3 C₁-C₄-Alkyl- und/oder C₁-C₄-Alkoxyreste substituiert sind; C₃-C₃₆-Alkenyloxy; C₅-C₁₂-Cycloalkoxy, welches unsubstituiert oder durch 1 bis 4 C₁-C₄-Alkyl- und/oder C₁-C₄-Alkoxyreste substituiert ist;
und C₆-C₁₀-Aryloxy, welches unsubstituiert oder durch 1 bis 4 C₁-C₄-Alkyl- und/oder C₁-C₄-Alkoxyreste substituiert ist, umfaßt; R¹¹ C₁-C₁₈-Alkyl, C₅-C₈-Cycloalkyl, Phenyl oder C₇-C₉-Phenylalkyl; und X ein Sauerstoff- oder Schwefelatom darstellt. Die erfindungsgemäßen Polyether lassen sich vorteilhaft zur Stabilisierung organischer Polymere gegen den schädigenden Einfluß von Licht, Sauerstoff und/oder Wärme einsetzen.

摘要翻译： 本发明涉及式I“IMAGE”的聚醚，其中m为0或1; n为3〜100的整数; R 1在m为0或1的情况下是C 1 -C 36 - 烷基或C 7 -C 36 - 芳烷基，其各自未被取代或被C 5 -C 8 - 环烷基取代，在C5- 或由氧或硫或-NR 11取代，或在芳香部分被1至3个C 1 -C 4 - 烷基和/或C 1 -C 4 - 烷氧基取代; C3-C36烯基; 未被取代或被1至4个C 1 -C 4 - 烷基和/或C 1 -C 4烷氧基取代的C 5 -C 12 - 环烷基; 未被取代或被1至4个C 1 -C 4烷基和/或C 1 -C 4烷氧基取代的C 6 -C 10 - 芳基; 在m为0的情况下，R 1可另外为氢; C 1 -C 36 - 烷氧基或C 7 -C 36 - 芳烷氧基，其各自未被取代或被C 5 -C 8 - 环烷基取代，在C 5 -C 8环亚烷基或氧或硫或-NR 11 - 在芳族部分被1至3个C 1 -C 4烷基和/或C 1 -C 4 - 烷氧基取代; C3-C36烯; 未被取代或被1至4个C 1 -C 4 - 烷基和/或C 1 -C 4 - 烷氧基取代的C 5 -C 12 - 环烷氧基; 或未被取代或被1至4个C 1 -C 4 - 烷基和/或C 1 -C 4 - 烷氧基取代的C 6 -C 10 - 芳氧基; R 11是C 1 -C 18烷基，C 5 -C 8 - 环烷基，苯基或C 7 -C 9 - 苯基烷基; X是氧或硫原子。 新颖的聚醚可以有利地用于稳定有机聚合物以抵抗光，氧和/或热的破坏作用。

公开(公告)号：EP0236261A2

公开(公告)日：1987-09-09

申请号：EP87810014.8

申请日：1987-01-12

申请人： CIBA-GEIGY AG

发明人： Steinmann, Alfred, Dr.

IPC分类号： C08G2/14 ,  C08G2/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08G2/14 ,  C08G2/20 ,  G03F7/039

摘要： Homopolymere oder Copolymere organometallhaltige endverkappte Polyphthalaldehyde mit der wiederkehrenden Einheit der Formel I
worin R 1 , R 2 , R 3 und R 4 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, Nitril, Nitro, Carboxyl, Hydroxyl, C l -C 4 -Alkoxy, C 1 -C 4 -Alkylthio oder Alkoxycarbonyl mit 1-4 C-Atomen im Alkoxyteil bedeuten und mindestens einer der Reste R 1 , R 2 , R 3 und R 4 eine Gruppe -Q(R 5 ) 3 oder -Q(R 6 ) 3 ist, wobei Q für Si, Sn, Ge, CH 2 -Si oder 0-Si steht, R 5 C 1 -C 12 -Alkyl ist und R 6 C 6 -C 10 -Aryl bedeutet, eignen sich zur Herstellung von trokkenentwickelbaren plasmaresistenten Photoresists, wie sie bei der Herstellung von strukturierten Bildern, insbesondere in der Mikroelektronik, benötigt werden.

摘要翻译： 均聚物或共聚物organometallhaltige封端聚邻苯与式I，其中R1，R2，R3和R4独立地是氢，卤素，腈，硝基，羧基，羟基，CL-C4烷氧基，C1-C4烷硫基或烷氧基羰基具有1的重复单元 -4指的是在烷氧基部分的C原子和基团R1，R2，R3和R4中的至少一个是基团-Q（R5）3，或-Q（R6）3，其中Q为Si，锡，锗，硅或CH2- 0-的Si，R 5的C 1 -C 12烷基，R 6是C 6 -C 10芳基，适用于生产trokkenentwickelbaren抗等离子光致抗蚀剂的，如那些在生产纹理图像的需要，特别是在微电子。

公开(公告)号：EP0638597A1

公开(公告)日：1995-02-15

申请号：EP94810398.1

申请日：1994-07-05

申请人： CIBA-GEIGY AG

发明人： Steinmann, Alfred, Dr.

IPC分类号： C08F20/36 ,  C08F22/22 ,  C08F22/40 ,  C08F12/22 ,  C07D211/06 ,  C07D211/76 ,  C07D241/08 ,  C07D471/10 ,  C07D491/10 ,  C07D498/10 ,  C09D133/04

CPC分类号： C07D405/12 ,  C07D211/94 ,  C08F12/26 ,  C08F20/36 ,  C08F20/60

摘要： Es werden Verbindungen beschrieben, welche durch Polymerisation von Estern oder Phenolethern der Formel V

und/oder der Formel VI

worin m und n jeweils 0 oder 1 sind und A, E, R¹ bis R⁶ und X die in Anspruch 1 angegebenen Bedeutungen umfassen,
und bis zu 50 Mol-% anderer, ethylenisch ungesättigter Verbindungen erhältlich sind. Die erfindungsgemäßen Homo- oder Copolymere lassen sich vorteilhaft zur Stabilisierung organischer Polymere gegen den schädigenden Einfluß von Licht, Sauerstoff und/oder Wärme einsetzen.

摘要翻译： 本发明涉及通过聚合式V的酯或苯酚醚和/或式VI“IMAGE”而得到的化合物，其中m和n各自为0或1，A，E，R 1至 R 6和X如权利要求1中所定义，和至多50mol％的其它烯属不饱和化合物。 根据本发明的均聚物或共聚物可有利地用于稳定有机聚合物以抵抗光，氧和/或热的有害影响。

公开(公告)号：EP0467841A3

公开(公告)日：1992-10-28

申请号：EP91810545.3

申请日：1991-07-09

申请人： CIBA-GEIGY AG

发明人： Steinmann, Alfred, Dr.

IPC分类号： C07C69/76 ,  C07C67/04 ,  C07D307/12 ,  C07D309/10 ,  C08F12/22 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/039 ,  C07C67/04 ,  C07C69/76 ,  C08F12/22 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0233

摘要： Aus einen olefinisch ungesättigten Substituenten aufweisenden Benzoesäureestern der Formel I

worin R₁ und R₂ unabhängig voneinander je ein Wasserstoffatom, C₁-C₄-Alkyl oder Phenyl, R₃ ein Wasserstoffatom, Methyl oder ein Halogenatom, R₄ ein Wasserstoffatom oder Methyl und R₅ ein C₁-C₄-Alkyl oder C₆-C₁₂-Aryl und R₆ und R₇ unabhängig voneinander je ein Wassterstoffatom, ein C₁-C₄-Alkyl oder ein C₆-C₁₂-Aryl bedeuten, wobei R₅ und R₇ zusammen auch einen unsubstituierten oder einen C₁-C₄-alkyl-, C₁-C₄-alkoxy-, C₆-C₁₂-aryl- oder C₆-C₁₂-aryloxysubstituierten Ethylen-, Propylen- oder Butylenrest bedeuten können, lassen sich gegebenenfalls in Gegenwart von anderen olefinisch ungesättigten Monomeren Polymere herstellen, die für positiv arbeitende Photoresists verwendet werden können.

摘要翻译： 可用于正性光致抗蚀剂的聚合物可以由具有烯属不饱和取代基的苯甲酸酯制备并对应于式I ...其中R 1和R 2彼此独立地表示氢原子，C 1 -C 4 - 烷基或苯基，R3表示氢原子，甲基或卤原子，R4表示氢原子或甲基，R5表示C1- C4烷基或C6-C12-芳基，R6和R7彼此独立地表示氢 原子，C 1 -C 4 - 烷基或C 6 -C 12 - 芳基，R 5和R 6一起也可以是未被取代或被C 1 -C 4 - 烷基，C 1 -C 4 - 烷氧基，C 6 -C 12 - 烷基取代的亚乙基， -C 12 - 芳基或C 6 -C 12 - 芳氧基，任选在其它烯属不饱和单体的存在下。

公开(公告)号：EP0685465A1

公开(公告)日：1995-12-06

申请号：EP95810345.9

申请日：1995-05-23

申请人： CIBA-GEIGY AG

发明人： Steinmann, Alfred, Dr.

IPC分类号： C07D211/46 ,  C08K5/3435 ,  C07D211/58 ,  C07D491/10 ,  C07D471/10

CPC分类号： C07D211/46 ,  C08K5/3435 ,  C08K5/3445

摘要： Verbindungen der Formel I

worin n 1 oder 2 ist und die übrigen Symbole die in Anspruch 1 angegebenen Bedeutungen haben, eignen sich hervorragend zur Stabilisierung von organischem Material gegen oxidativen, thermischen oder aktinischen Abbau.
Verbindungen der Formel (I) lassen sich vorteilhaft durch Umsetzung sterisch gehinderter sekundärer Amine mit entsprechenden Butinol- oder Hexadiinolestern einer aromatischen Sulfonsäure herstellen.

摘要翻译： CPDS。 式（I）的化合物是新的。 在（I）中，n = 1-2; A = -CH2-或-CH-，当A为亚甲基时，E为 - （CR1，R2） - ，当A为羰基时，E为-N（R3） - ; R1 = H; R2 = OH，-O-R8，-S-R8，-OCO-R8，-NHCOR8或-N（R13）R14或式（i） - （vi）; k = 2-3; R3 = 1-18C烷基，3-18C烯基，5-8C环烷基，苯基，萘基，7-9C戊基烷基或11-14C萘基烷基; R4，R5，R6，R7 = H或甲基; R8 = 1-50C烷基，2-18C烯基或缩水甘油基; 或为2-50℃的烷基。 0，S，-NR19和/或5-8C环烷基; 或5-12C环烷基选择。 具有1-4个R12取代基; 6-10C芳基选择。 substd。 与1-4 R12或-OR12; 或7-50C芳烷基选择。 substd。 与5-8C环烷基和/或5-8C环烷基 O或S原子。 和/或子。 与1-4 R12 gps。 在芳基上; R12 = 1-18C烷基，2-18C烯基5-8C环烷基苯基或苄基; R 13，R 14 = R8或与N原子一起是式（vii）的环状酰亚胺; R15，R16 = H，1-12C烷基或α，OMEGA键合4-13C亚烷基; R 17 = H或R 3; R18 = 2-18C亚烷基或2-5C亚烯基; R19 = R3。 也声称是一个compsn。 contg。 这些cpds中的至少一个。 和易受氧化，光照或热降解的物质; 使用这些cpds中的至少一种来稳定有机材料以防止热，氧化或光化学降解的方法; 和产品的过程。 的这些cpds。

公开(公告)号：EP0634399A1

公开(公告)日：1995-01-18

申请号：EP94810397.3

申请日：1994-07-05

申请人： CIBA-GEIGY AG

发明人： Steinmann, Alfred, Dr.

IPC分类号： C07D211/46 ,  C07D405/12 ,  C08K5/3435

CPC分类号： C08K5/3492 ,  C07D211/46 ,  C08K5/3435

摘要： Es werden Ester oder Phenolether der Formel I oder II beschrieben.


worin m und n jeweils eine ganze Zahl aus dem Bereich von 1 bis 6 darstellen;
A¹ einen m-wertigen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 30 Kohlenstoffatomen darstellt; oder einen m-wertigen Kohlenwasserstoffrest mit 2 bis 30 Kohlenstoffatomen darstellt, der die Heteroatome Sauerstoff, Stickstoff und/oder Schwefel enthält und dessen freie Valenzen an Kohlenstoffatomen lokalisiert sind; wobei A¹ im Fall m = 2 zusätzlich eine direkte Bindung umfaßt;
A² einen n-wertigen aromatischen oder araliphatischen Kohlenwasserstoffrest mit 6 bis 30 Kohlenstoffatomen darstellt; oder einen n-wertigen aromatischen oder araliphatischen Kohlenwasserstoffrest mit 5 bis 30 Kohlenstoffatomen darstellt, der die Heteroatome Sauerstoff, Stickstoff und/oder Schwefel enthält und dessen n freie Valenzen an solchen Kohlenstoffatomen lokalisiert sind, die Bestandteil aromatischer Ringe sind;
R¹ Wasserstoff; einen Kohlenwasserstoff- oder Kohlenwasserstoffoxyrest mit 1 bis 36 Kohlenstoffatomen, der unsubstituiert oder durch -CO-N(R³)₂ substituiert oder durch -CO-N(R³)- oder -N(R³)-CO- oder 1 bis 6 Sauerstoff- oder Schwefelatome unterbrochen ist; Benzoyl oder Naphtoyl, welches jeweils durch 1 bis 3 C₁-C₄-Alkyl- oder C₁-C₄-Alkoxyreste substituiert ist; oder -CO-R² bedeutet; wobei
R² C₁-C₁₈-Alkyl; C₅-C₈-Cycloalkyl; Phenyl; Naphthyl; C₇-C₉-Phenylalkyl; oder
C₁₁-C₁₄-Naphthylalkyl bedeutet; und R³ dieselben Bedeutungen umfaßt wie R² oder Wasserstoff bedeutet.
Die Verbindungen eignen sich zur Stabilisierung organischen Materials gegen den schädigenden Einfluß von Licht, Sauerstoff und/oder Wärme.

摘要翻译： 描述了式I或II的苯酚醚的酯，其中m和n在每种情况下是选自1至6的整数; A 1代表具有1至30个碳原子的m价烃基; 或含有杂原子氧，氮和/或硫并且其自由价位于碳原子上的具有2-30个碳原子的m价烃基; 在m = 2的情况下，A <1>另外包括直接键; A 2表示碳原子数为6〜30的n价芳香族或芳脂族烃基， 或具有5至30个碳原子的n价芳族或芳脂族烃基，其含有杂原子氧，氮和/或硫，并且其n个无定价位于作为芳环的一部分的那些碳原子上; R 1表示氢; 未取代或被-CO-N（R 3）2取代或被-CO-N（R 3） - 或-N（R 3）取代的碳原子数为1〜36的烃基或烃氧基， ）-CO-或1至6个氧或硫原子; 苯甲酰基或萘甲酰基，其各自被1至3个C 1 -C 4 - 烷基或C 1 -C 4 - 烷氧基取代; 或-CO-R 2; R 2是C 1 -C 18 - 烷基; C5-C8环烷基; 苯基; 萘; C7-C9苯基烷基; 或C 11 -C 14 - 萘基烷基; 和R 3包含与R 2相同的含义或氢。 这些化合物适合于稳定有机材料以抵抗光，氧和/或热的破坏性影响。

公开(公告)号：EP0236261B1

公开(公告)日：1992-04-08

申请号：EP87810014.8

申请日：1987-01-12

申请人： CIBA-GEIGY AG

发明人： Steinmann, Alfred, Dr.

IPC分类号： C08G2/14 ,  C08G2/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08G2/14 ,  C08G2/20 ,  G03F7/039

公开(公告)号：EP0473547A1

公开(公告)日：1992-03-04

申请号：EP91810657.6

申请日：1991-08-20

申请人： CIBA-GEIGY AG

发明人： Steinmann, Alfred, Dr. ,  Schädeli, Ulrich, Dr.

IPC分类号： C07C381/12 ,  G03F7/027

CPC分类号： G03F7/039 ,  C07C381/12

摘要： Olefinisch ungesättigte Oniumsalze der Formeln I und II


worin R₁ ein Wasserstoffatom oder Methyl und A eine direkte Bindung, Phenylen oder einen der folgenden Reste

bedeuten, wobei n und o unabhängig voneinander je für eine Zahl von 1 bis 10 stehen, Y₁ für J oder S-R₂ und Y₂ für S-R₂ stehen, wobei R₂ ein C₁-C₄-Alkyl, unsubstituiertes oder C₁-C₄-alkylsubstituiertes Phenyl bedeutet, m für Null oder eine Zahl von 1 bis 10 und X für BF₄, PF₆, AsF₆, SbF₆, SbCl₆, FeCl₄, SnF₆, BiF₆, CF₃SO₃ oder SbF₅OH stehen, lassen sich mit einem olefinisch ungesättigten, eine säurelabile Gruppe enthaltenden Comonomer copolymerisieren und ergeben strahlungsempfindliche Copolymere, die direkt als Photoresists eingesetzt werden können.

摘要翻译： 式I和II的烯属不饱和鎓盐，其中R 1是氢原子或甲基，A是直接键，亚苯基或以下基团之一，其中n和o彼此独立地表示 1至10的数，Y1表示I或S-R2，Y2表示S-R2，其中R2为C1-C4-烷基，未取代的或C1-C4-烷基取代的苯基，m为0或1 至10和X为BF 4，PF 6，AsF 6，SbF 6，SbCl 6，FeCl 4，SnF 6，BiF 6，Fe 3 SO 3或SbF 5 OH，可以与含有酸不稳定基团的烯属不饱和共聚单体共聚，得到对辐射敏感的共聚物 直接用作光致抗蚀剂。

公开(公告)号：EP0467841A2

公开(公告)日：1992-01-22

申请号：EP91810545.3

申请日：1991-07-09

申请人： CIBA-GEIGY AG

发明人： Steinmann, Alfred, Dr.

IPC分类号： C07C69/76 ,  C07C67/04 ,  C07D307/12 ,  C07D309/10 ,  C08F12/22 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/039 ,  C07C67/04 ,  C07C69/76 ,  C08F12/22 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0233

摘要： Aus einen olefinisch ungesättigten Substituenten aufweisenden Benzoesäureestern der Formel I

worin R₁ und R₂ unabhängig voneinander je ein Wasserstoffatom, C₁-C₄-Alkyl oder Phenyl, R₃ ein Wasserstoffatom, Methyl oder ein Halogenatom, R₄ ein Wasserstoffatom oder Methyl und R₅ ein C₁-C₄-Alkyl oder C₆-C₁₂-Aryl und R₆ und R₇ unabhängig voneinander je ein Wassterstoffatom, ein C₁-C₄-Alkyl oder ein C₆-C₁₂-Aryl bedeuten, wobei R₅ und R₇ zusammen auch einen unsubstituierten oder einen C₁-C₄-alkyl-, C₁-C₄-alkoxy-, C₆-C₁₂-aryl- oder C₆-C₁₂-aryloxysubstituierten Ethylen-, Propylen- oder Butylenrest bedeuten können, lassen sich gegebenenfalls in Gegenwart von anderen olefinisch ungesättigten Monomeren Polymere herstellen, die für positiv arbeitende Photoresists verwendet werden können.

摘要翻译： 可用于正性光致抗蚀剂的聚合物可以由具有烯属不饱和取代基的苯甲酸酯制备并对应于式I ...其中R 1和R 2彼此独立地表示氢原子，C 1 -C 4 - 烷基或苯基，R3表示氢原子，甲基或卤原子，R4表示氢原子或甲基，R5表示C1- C4烷基或C6-C12-芳基，R6和R7彼此独立地表示氢 原子，C 1 -C 4 - 烷基或C 6 -C 12 - 芳基，R 5和R 6一起也可以是未被取代或被C 1 -C 4 - 烷基，C 1 -C 4 - 烷氧基，C 6 -C 12 - 烷基取代的亚乙基， -C 12 - 芳基或C 6 -C 12 - 芳氧基，任选在其它烯属不饱和单体的存在下。

公开(公告)号：EP0229745A3

公开(公告)日：1987-10-21

申请号：EP87810013

申请日：1987-01-12

申请人： CIBA-GEIGY AG

发明人： Steinmann, Alfred, Dr.

IPC分类号： C07F07/08

CPC分类号： C08G2/00 ,  C07F7/0818 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0758