专利检索 ap:("Carl Zeiss SMT GmbH") AND inv:"AMELING, Ralf" 第 1 页

1.

发明公开
OPTISCHE VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR STEUERUNG EINER OPTISCHEN VORRICHTUNG 审中-公开

公开(公告)号：EP4275095A1

公开(公告)日：2023-11-15

申请号：EP21839595.2

申请日：2021-12-29

申请人： Carl Zeiss SMT GmbH

发明人： AMELING, Ralf

IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08

2.

发明公开
EUV MULTI-MIRROR ARRANGEMENT 审中-实审

公开(公告)号：EP4416537A1

公开(公告)日：2024-08-21

申请号：EP22793578.0

申请日：2022-10-06

申请人： Carl Zeiss SMT GmbH

发明人： AMELING, Ralf , HAACKER, Fabian , HOLZ, Markus , EISENMENGER, Johannes

IPC分类号： G02B5/08 , G02B26/08 , G03F7/20

CPC分类号： G02B26/0858 , G02B5/0891 , G03F7/70075 , G03F7/70116

3.

发明公开
FACET SYSTEM AND LITHOGRAPHY APPARATUS 审中-公开

公开(公告)号：EP4314948A1

公开(公告)日：2024-02-07

申请号：EP22716934.9

申请日：2022-03-21

申请人： Carl Zeiss SMT GmbH

发明人： AMELING, Ralf

IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/182 , G02B26/08

4.

发明公开
SENSOR-EINRICHTUNG 审中-公开

公开(公告)号：EP3485313A1

公开(公告)日：2019-05-22

申请号：EP17740658.4

申请日：2017-07-05

申请人： Carl Zeiss SMT GmbH

发明人： AMELING, Ralf , HAUF, Markus

IPC分类号： G02B26/08 , G02B19/00 , G03F7/20