摘要:
Détecteur à éclairage arrière pour la détection d'un rayonnement électromagnétique autour d'une longueur d'onde prédéterminée, comprenant : - une couche semi-conductrice d'absorption (14), formée au dessus d'un milieu transparent, et apte à transmettre au moins une partie dudit rayonnement; et - un miroir (22) au dessus de la couche semi-conductrice (14), et - disposé entre le miroir (22) et la couche semi-conductrice (14), un réseau périodique (18) de motifs métalliques (20), le miroir (22) et le réseau (18) étant compris dans une couche de matériau (16) transparente audit rayonnement et formée sur la couche semi-conductrice (14). Le miroir (22) et le réseau (18) vérifient : d ≤ λ Re n 1 λ 16 × Re n 2 + m × λ 2 × Re n 2 ≤ h ≤ 3 × λ 8 × Re n 2 + m × λ 2 × Re n 2 Re n 2 ≤ 1 , 3 × Re n 1 Re n 1 ≥ Re n substrat où ∎ d est la distance entre la couche semi-conductrice (14) et le réseau (18), ∎ h est la distance entre le miroir (22) et le réseau (18), ∎ m est un entier positif ou nul, ∎ λ est une longueur d'onde à laquelle la couche semi-conductrice (14) est absorbante, ∎ n 1 , n 2 et n substrat sont les indice de réfraction de la couche semi-conductrice (14), de la couche (16) et du milieu (12)
摘要:
Détecteur à éclairage arrière pour la détection d'un rayonnement électromagnétique autour d'une longueur d'onde prédéterminée, comprenant : - une couche semi-conductrice d'absorption (14), formée au dessus d'un milieu transparent, et apte à transmettre au moins une partie dudit rayonnement; et - un miroir (22) au dessus de la couche semi-conductrice (14), et - disposé entre le miroir (22) et la couche semi-conductrice (14), un réseau périodique (18) de motifs métalliques (20), le miroir (22) et le réseau (18) étant compris dans une couche de matériau (16) transparente audit rayonnement et formée sur la couche semi-conductrice (14). Le miroir (22) et le réseau (18) vérifient : d ≤ λ Re n 1 λ 16 × Re n 2 + m × λ 2 × Re n 2 ≤ h ≤ 3 × λ 8 × Re n 2 + m × λ 2 × Re n 2 Re n 2 ≤ 1 , 3 × Re n 1 Re n 1 ≥ Re n substrat où ∎ d est la distance entre la couche semi-conductrice (14) et le réseau (18), ∎ h est la distance entre le miroir (22) et le réseau (18), ∎ m est un entier positif ou nul, ∎ λ est une longueur d'onde à laquelle la couche semi-conductrice (14) est absorbante, ∎ n 1 , n 2 et n substrat sont les indice de réfraction de la couche semi-conductrice (14), de la couche (16) et du milieu (12)
摘要:
Ce photodétecteur comprend : ■ une couche semiconductrice dopée (12); ■ une couche réflectrice (22), agencée sous la couche semiconductrice (12); ■ une structure métallique (16), agencée sur la couche semiconductrice (12), et formant avec la couche semiconductrice (12) un résonateur par excitation d'un mode plasmon de surface, ■ une pluralité de zones semiconductrices (24), formées dans la couche semiconductrice (12) et présentant un dopage opposé au dopage de celle-ci ; et ■ pour chaque zone semiconductrice (24), un conducteur (26) traversant le photodétecteur depuis la couche réflectrice (22) jusqu'au moins la zone semiconductrice (24), et isolé électriquement de la structure métallique (16), la zone semiconductrice (24) associée au conducteur (26) correspondant déterminant ainsi une surface élémentaire de détection du photodétecteur.
摘要:
Ce photodétecteur apte à détecter un rayonnement électromagnétique comprend : ■ une couche semi-conductrice dopée (12) d'absorption dudit rayonnement apte à transformer ledit rayonnement en porteurs de charge ; ■ une couche réflectrice (22) du rayonnement incident non absorbé par la couche semi-conductrice (12) en direction de cette dernière, agencée sous la couche semi-conductrice (12); et ■ une structure métallique (16) agencée sur la couche semi-conductrice (12), et formant avec la couche semi-conductrice (12) un résonateur par excitation d'un mode plasmon de surface de manière à concentrer le rayonnement électromagnétique incident sur la structure métallique (16) dans des zones de concentration de champ de la couche semi-conductrice (12).
Des zones semi-conductrices de collecte (24) des porteurs de charge, de dopage opposé au dopage de la couche semi-conductrice (12), sont formées dans ladite couche semi-conductrice (12) et présentent une topologie complémentaire de celle des zones de concentration de champ.