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1.发明公开
公开(公告)号：EP3390686A1
公开(公告)日：2018-10-24
申请号：EP16831495.3
申请日：2016-12-17
申请人： Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives , Institut National Polytechnique de Toulouse
发明人： SCHUSTER, Frédéric , MAURY, Francis , MICHAU, Alexandre , PONS, Michel , BOICHOT, Raphaël , LOMELLO, Fernando
IPC分类号： C23C16/448 , C23C16/44 , C23C16/32 , C23C16/18 , B01D5/00
摘要： The invention relates to a method for chemical vapour deposition, onto a substrate, of a protective coating made up of at least one protective layer comprising a transition metal M: a) providing, in a supply vessel, a stock solution containing a hydrocarbon solvent free of oxygen atoms and a bis(arene) precursor containing the transition metal M to be deposited; b) vaporising said stock solution and injecting same into a CVD reaction chamber in order to deposit the protective layer onto said substrate and, if need be, a carbon incorporation inhibitor; c) collecting, at the outlet of the reaction chamber, a fraction of the gaseous effluent comprising the non-consumed precursor, the aromatic sub-products of the precursor and the solvent, these species together forming a working solution; and d) pouring the working solution thus obtained into the supply vessel in order to obtain a new stock solution capable of being used in step a).
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公开(公告)号：EP3519605A1
公开(公告)日：2019-08-07
申请号：EP17793687.9
申请日：2017-09-28
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公开(公告)号：EP3520118B1
公开(公告)日：2020-08-05
申请号：EP17793688.7
申请日：2017-09-28
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公开(公告)号：EP3519605B1
公开(公告)日：2020-08-05
申请号：EP17793687.9
申请日：2017-09-28
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5.发明公开
公开(公告)号：EP3519604A1
公开(公告)日：2019-08-07
申请号：EP17793686.1
申请日：2017-09-28
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公开(公告)号：EP4249632A1
公开(公告)日：2023-09-27
申请号：EP23160228.5
申请日：2023-03-06
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/448 , G21C3/04 , B05B1/20 , B05D1/02 , G21C3/07 , G21C3/20 , C23C16/04
摘要： L'invention concerne un dispositif de diffusion (1) d'un précurseur configuré pour diffuser un précurseur de croissance vers une surface de croissance (s101) externe comprise sur un organe de croissance (100) externe, ledit dispositif de diffusion (1) comprenant un contenant (10) comprenant au moins un élément poreux (30) présentant une porosité configurée pour permettre ou empêcher à un fluide précurseur (15) de traverser une épaisseur (e31) de l'élément poreux (30), l'élément poreux (30) étant configuré de sorte que le fluide précurseur (15) qui traverse l'épaisseur (e31) de l'élément poreux (30) génère un aérosol (17) par fragmentation du fluide précurseur (15), ledit aérosol (17) étant formé de gouttelettes du fluide précurseur (15).
L'invention concerne également un procédé de dépôt d'une couche (103) sur une surface de croissance (s101) par un tel dispositif de diffusion (1).-
7.发明公开
公开(公告)号：EP3520119A1
公开(公告)日：2019-08-07
申请号：EP17793689.5
申请日：2017-09-28
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公开(公告)号：EP3520118A1
公开(公告)日：2019-08-07
申请号：EP17793688.7
申请日：2017-09-28
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9.发明公开
公开(公告)号：EP4194073A1
公开(公告)日：2023-06-14
申请号：EP22210920.9
申请日：2022-12-01
摘要： L'invention concerne un filtre métallique (1) comprenant une architecture (2) microstructurée définie dans un espace tridimensionnel présentant des axes orthogonaux (X, Y, Z), l'architecture (2) microstructurée comprenant :
- un réseau (10) métallique formé d'une pluralité de brins (12) de liaison longitudinaux, à savoir s'étendant selon une direction d'axe longitudinal (X), et
- un réseau (20) de pores formé d'une pluralité d'interstices (22) longitudinaux localisés le long de brins (12) de liaison longitudinaux, chaque interstice (22) longitudinal correspondant à un sous-ensemble de pores (24) dudit réseau (20) de pores, sous-ensemble de pores (24) pour lequel les pores sont alignés le long de l'axe longitudinal (X),
les interstices (22) longitudinaux définissant ainsi un axe d'anisotropie de l'architecture microstructurée.-
公开(公告)号：EP3520119B1
公开(公告)日：2020-07-29
申请号：EP17793689.5
申请日：2017-09-28
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