IMAGEUR MONOLITHIQUE MULTISPECTRAL VISIBLE ET INFRAROUGE
    5.
    发明公开
    IMAGEUR MONOLITHIQUE MULTISPECTRAL VISIBLE ET INFRAROUGE 审中-公开
    整体式多光谱图像传感器,可见光和近红外

    公开(公告)号:EP2636068A1

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:EP11787702.7

    申请日:2011-11-03

    IPC分类号: H01L27/146 G02B5/28

    摘要: The invention relates to a radiation detection device including a silicon substrate and an infrared photodiode made of a material optimized for infrared detection. The substrate comprises a photosensitive area, readout circuits, and interconnects formed in an electrically-insulating material. The interconnects and the metal contact connect the readout circuits, the photosensitive areas, and the infrared photodiode. The detection device also comprises an infrared radiation filtering structure which covers the photosensitive area without covering the infrared photodiode.

    PHOTODIODE DE TYPE SPAD
    8.
    发明公开
    PHOTODIODE DE TYPE SPAD 有权
    SPAD光电二极管

    公开(公告)号:EP3151290A1

    公开(公告)日:2017-04-05

    申请号:EP16189323.5

    申请日:2016-09-16

    IPC分类号: H01L31/107

    摘要: L'invention concerne une photodiode SPAD (200) comportant, dans un substrat (101) d'un premier type de conductivité : une première région (103) du deuxième type de conductivité s'étendant depuis la face supérieure du substrat ; une deuxième région (105) du premier type de niveau de dopage supérieur à celui du substrat, s'étendant depuis la face inférieure de la première région (103), ayant une surface inférieure à celle de la première région (103) et étant située en regard d'une partie centrale (103a) de la première région ; une troisième région (201) du premier type de niveau de dopage supérieur à celui du substrat s'étendant depuis la face supérieure du substrat, entourant latéralement la première région (103) ; et une quatrième région (203) enterrée du premier type de niveau de dopage supérieur à celui du substrat, formant un anneau périphérique reliant la deuxième région (105) à la troisième région (201).

    摘要翻译: 一种SPAD,包括在第一导电类型的衬底中:从衬底的上表面延伸的第二导电类型的第一区域; 从第一区域的下表面延伸的第一类型的第一类型的掺杂水平的第二区域的表面积小于第一区域的表面积,并且与第一区域的中心部分相对; 第一类型的第三类型比衬底从衬底的上表面延伸的更大的掺杂水平,横向围绕第一区域; 以及第一种类型的比衬底更大掺杂水平的第四掩埋区,形成将第二区连接到第三区的外围环。