公开(公告)号：EP3071728B1

公开(公告)日：2019-07-03

申请号：EP14799468.5

申请日：2014-11-18

申请人： Element Six Technologies Limited

发明人： KHAN, Rizwan ,  COE, Steven ,  WILMAN, Jonathan ,  TWITCHEN, Daniel ,  SCARSBROOK, Geoffrey ,  BRANDON, John ,  WORT, Christopher ,  MARKHAM, Matthew ,  FRIEL, Ian ,  ROBERTSON, Katharine

IPC分类号： C23C16/27 ,  C23C16/511 ,  C30B29/04 ,  C30B25/10

公开(公告)号：EP3071728A1

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：EP14799468.5

申请日：2014-11-18

申请人： Element Six Technologies Limited

发明人： KHAN, Rizwan ,  COE, Steven ,  WILMAN, Jonathan ,  TWITCHEN, Daniel ,  SCARSBROOK, Geoffrey ,  BRANDON, John ,  WORT, Christopher ,  MARKHAM, Matthew ,  FRIEL, Ian ,  ROBERTSON, Katharine

IPC分类号： C23C16/27 ,  C30B25/10 ,  C30B29/04

CPC分类号： C30B25/105 ,  C23C16/274 ,  C23C16/511 ,  C30B29/04

摘要： A method of fabricating synthetic diamond material using a microwave plasma activated chemical vapour deposition technique is provided which utilizes high and uniform microwave power densities applied over large areas and for extended periods of time. Products fabricated using such a synthesis technique are described including a single crystal CVD diamond layer which has a large area and a low nitrogen concentration, and a high purity, fast growth rate single crystal CVD diamond material.

摘要翻译： 提供了一种使用微波等离子体活化化学气相沉积技术制造的合成金刚石材料的方法，它利用应用超大面积和高均匀的微波功率密度和延长的时间段。 产品采用寻求合成技术中描述了包括单晶CVD金刚石层，其具有大面积和低的氮浓度，和高纯度，几乎单晶生长速率CVD金刚石材料制成。