公开(公告)号：EP2400344A1

公开(公告)日：2011-12-28

申请号：EP11166082.5

申请日：2011-05-13

申请人： Everlight USA, Inc.

发明人： Li, Yen-Cheng ,  Chou, Nai-Tien ,  Wei, Jung-Hsin

IPC分类号： G03F7/023 ,  H05K3/10

CPC分类号： G03F7/0233 ,  G03F7/0236

摘要： The present invention provides a positive photosensitive resin composition, including an alkali soluble phenolic resin; an alkali soluble acrylic resin; and a photosensitive compound having quinone diazide. The positive photosensitive resin composition is applicable to a semi-additive process for forming tiny and fine wirings.

摘要翻译： 本发明提供了包含碱溶性酚醛树脂的正型感光性树脂组合物， 碱溶性丙烯酸树脂; 和具有醌二叠氮化物的光敏化合物。 正型感光性树脂组合物适用于形成微小的细线的半添加方法。