公开(公告)号：EP2943769A4

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：EP14737997

申请日：2014-01-10

申请人： FEI CO

发明人： FOORD DAVID ,  RUE CHAD

IPC分类号： H01J37/305 ,  G01N1/32 ,  H01J37/317

CPC分类号： H01J37/3056 ,  G01N1/32 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/31713 ,  H01J2237/31745 ,  H01J2237/31749 ,  Y10T428/24479

摘要： Implanting a material in a pattern hardens the material in the pattern for subsequent etching. When the region is etched, by ion beam sputtering, chemically enhanced charged particle beam etching, or chemical etching, a thicker structure remains because of the reduced etch rate of the hardened pattern. The invention is particularly useful for the preparation of thin lamella for viewing on a transmission electron microscope.

摘要翻译： 将图案中的材料植入硬化图案中的材料以进行后续蚀刻。 当该区域被蚀刻时，通过离子束溅射，化学增强的带电粒子束蚀刻或化学蚀刻，由于硬化图案的蚀刻速率降低，保留较厚的结构。 本发明特别可用于制备用于在透射电子显微镜上观察的薄片层。