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1.

发明授权
VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR PLASMA-ERZEUGUNG 失效
标题翻译：方法和系统用于产生等离子体

公开(公告)号：EP0685117B1

公开(公告)日：1996-09-04

申请号：EP94907553.5

申请日：1994-02-11

申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.

发明人： LANG, Walter , KOZLOWSKI, Frank , RICHTER, Axel , SAUTER, Martin , STEINER, Peter

IPC分类号： H01L33/00 , H05H1/00

CPC分类号： H01L33/346 , H01L2924/0002 , H05H1/00 , H01L2924/00

摘要： A plasma is generated by applying a voltage on mutually spaced apart spots of a microporous body. This may be done for example by applying a 50 to 100 V voltage through a microporous layer of a silicium wafer.

2.

发明公开
VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR PLASMA-ERZEUGUNG 失效
标题翻译：方法和系统产生等离子体。

公开(公告)号：EP0685117A1

公开(公告)日：1995-12-06

申请号：EP94907553.0

申请日：1994-02-11

申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.

发明人： LANG, Walter , KOZLOWSKI, Frank , RICHTER, Axel , SAUTER, Martin , STEINER, Peter

IPC分类号： H01L33 , H05H1

CPC分类号： H01L33/346 , H01L2924/0002 , H05H1/00 , H01L2924/00

摘要： A plasma is generated by applying a voltage on mutually spaced apart spots of a microporous body. This may be done for example by applying a 50 to 100 V voltage through a microporous layer of a silicium wafer.