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1.

发明公开
BULK RUTHENIUM CHEMICAL MECHANICAL POLISHING COMPOSITION 审中-公开

公开(公告)号：EP3774647A1

公开(公告)日：2021-02-17

申请号：EP19776280.0

申请日：2019-03-12

申请人： FUJIFILM Electronic Materials U.S.A, Inc.

发明人： LIN, David (Tawei) , HU, Bin , WEN, Liqing (Richard)

IPC分类号： C01B11/22 , C01B33/12 , C01C1/00 , C09G1/02 , C09G1/04

2.

发明公开
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING COMPOSITIONS AND METHODS OF USE THEREOF 审中-公开

公开(公告)号：EP4263748A1

公开(公告)日：2023-10-25

申请号：EP21911884.1

申请日：2021-12-10

申请人： Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc.

发明人： CHENG, Qingmin , HU, Bin , LIANG, Yannan , WEN, Liqing (Richard)

IPC分类号： C09K13/00 , C03C15/00 , C03C25/68

3.

发明公开
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING COMPOSITIONS AND METHODS OF USE THEREOF 审中-公开

公开(公告)号：EP4263734A1

公开(公告)日：2023-10-25

申请号：EP21911881.7

申请日：2021-12-10

申请人： FUJIFILM Electronic Materials U.S.A, Inc.

发明人： LIANG, Yannan , HU, Bin , HUANG, Ting-Kai , CHANG, Shu-Wei , WEN, Liqing (Richard)

IPC分类号： C09G1/02