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    VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR INTERFEROMETRISCHEN PRÜFUNG
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    发明公开
    VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR INTERFEROMETRISCHEN PRÜFUNG 审中-公开
    VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR INTERFEROMETRISCHENPRÜFUNG

    公开(公告)号：EP3224570A1

    公开(公告)日：2017-10-04

    申请号：EP15812971.8

    申请日：2015-11-26

    申请人： Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. ,  Friedrich-Schiller-Universität Jena

    发明人： BEIER, Matthias ,  STUMPF, Daniela ,  GEBHARDT, Andreas ,  RISSE, Stefan ,  ZEITNER, Uwe D.

    IPC分类号： G01B9/02 ,  G01M11/00 ,  G03H1/08 ,  G02B27/42

    摘要： The invention relates to a method and a device for the interferometric testing of the shape and/or position of at least two optical functional surfaces (13, 14) using an interferometric testing structure comprising an interferometer (9), a beam-shaping optical element (1), and alignment marks (15, 16, 17, 18). The beam-shaping optical element (1) is used to generate alignment wave fronts and testing wave fronts which are transmitted to or reflected at the alignment marks (15, 16, 17, 18) and/or the optical functional surfaces (13, 14), whereby measurement wave fronts are generated. The method and the device allow a measurement of the position of the optical functional surfaces (13, 14) with respect to one another and/or with respect to the alignment marks (15, 16, 17, 18) and a determination of shape and/or positional deviations of the optical functional surfaces (13, 14) from the target geometry and/or position of said surfaces by analyzing the measurement wave fronts in the interferometer (9).

    摘要翻译： 本发明涉及一种使用干涉测试结构对至少两个光学功能表面（13,14）的形状和/或位置进行干涉测试的方法和设备，所述干涉测试结构包括干涉仪（9），束成形光学元件 （1）和对准标记（15,16,17,18）。 光束整形光学元件（1）用于产生对准波前和测试波阵面，所述波阵面被传输到或反射在对准标记（15,16,17,18）和/或光学功能表面（13,14 ），由此产生测量波阵面。 该方法和装置允许测量光学功能表面（13,14）相对于彼此和/或相对于对准标记（15,16,17,18）的位置以及确定形状和 /或通过分析干涉仪（9）中的测量波阵面，光学功能表面（13,14）与目标几何形状和/或所述表面的位置的位置偏差。