利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

3 条记录 (耗时 0.008 秒)

    Polishing machine
    1.
    发明公开
    Polishing machine 失效
    抛光机

    公开(公告)号：EP0803329A2

    公开(公告)日：1997-10-29

    申请号：EP97302667.7

    申请日：1997-04-18

    申请人： Fujikoshi Kikai Kogyo Kabushiki Kaisha

    发明人： Kudo, Michio, c/o Fujikoshi Kikai Kogyo K.K. ,  Inada, Yasuo, c/o Fujikoshi Kikai Kogyo K.K. ,  Nakajima, Makoto, Fujikoshi Kikai Kogyo K.K. ,  Fukushima, Masanori, Fujikoschi Kikai Kogyo K.K.

    IPC分类号： B24B37/04

    CPC分类号： B24B37/105 ,  B24B47/10

    摘要： A polishing machine of the present invention is capable of uniformly polishing a member (20) to be polished with high flatness, and polishing cloth, which is employed in the polishing machine, can be uniformly abraded. In the polishing machine, a polishing plate (10) is capable of rotating. A supporting table (22) rotatably supports the polishing plate (10). A rotary driving mechanism (25) is mounted on the supporting table (22), and it (25) rotates the polishing plate (10). A base (30) supports the supporting table (22). An orbital driving mechanism (32) moves the supporting table (22) along a circular orbit without spinning about its own axis.

    摘要翻译： 本发明的抛光机能够以高的平坦度均匀地抛光要被抛光的构件（20），并且可以均匀地研磨抛光机中使用的抛光布。 在抛光机中，抛光板（10）能够旋转。 支撑台（22）可旋转地支撑抛光板（10）。 旋转驱动机构（25）安装在支撑台（22）上，并且它（25）旋转抛光板（10）。 底座（30）支撑支撑台（22）。 轨道驱动机构（32）使支撑台（22）沿着圆形轨道移动，而不绕其自身轴线旋转。