公开(公告)号：EP1439571A1

公开(公告)日：2004-07-21

申请号：EP02775374.8

申请日：2002-10-18

申请人： Goto, Naohisa ,  Ohmi, Tadahiro ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

发明人： GOTO, Naohisa ,  OHMI, Tadahiro ,  HIRAYAMA, M., Tohoku University ,  GOTO, Tetsuya, Tohoku University

IPC分类号： H01L21/205 ,  C23C16/511 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H05H1/46

CPC分类号： H01J37/32229 ,  H01J37/32192

摘要： A microwave plasma processing apparatus includes a processing vessel, a microwave generator, a waveguide guiding a microwave formed by the microwave generator, and a microwave emitting member emitting the microwave with wavelength compression by a retardation plate, wherein the waveguide has a single microwave output opening in a location corresponding to a central par of the microwave emitting member.

摘要翻译： 的微波等离子体处理装置包括处理容器，微波发生器，波导引导由微波发生器形成的微波，以及微波发射部件由一个相位差板发射具有波长压缩的微波，worin波导具有单个微波输出开口 在一个位置对应于所述微波发射部件的中央公园。