公开(公告)号：EP2750726B1

公开(公告)日：2019-03-13

申请号：EP12775306.9

申请日：2012-08-30

申请人： IHI Ionbond AG

发明人： PETTERSSON, Maria ,  ENGQVIST, Håkan ,  OLOFSSON, Johanna ,  HULTMAN, Lars

IPC分类号： A61L27/04 ,  A61L27/06 ,  A61L27/10 ,  A61L27/16 ,  A61L27/30

公开(公告)号：EP2750726A1

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：EP12775306.9

申请日：2012-08-30

申请人： IHI Ionbond AG

发明人： PETTERSSON, Maria ,  ENGQVIST, Håkan ,  OLOFSSON, Johanna ,  HULTMAN, Lars

IPC分类号： A61L27/30 ,  A61L27/50

CPC分类号： A61L27/306 ,  A61F2/30767 ,  A61F2/3094 ,  A61F2002/3098 ,  A61F2310/00317 ,  A61F2310/00874 ,  A61L27/042 ,  A61L27/045 ,  A61L27/06 ,  A61L27/10 ,  A61L27/16 ,  A61L27/28 ,  A61L27/303 ,  A61L27/50 ,  A61L31/022 ,  A61L31/026 ,  A61L31/048 ,  A61L31/084 ,  A61L31/088 ,  A61L2400/10 ,  A61L2400/12 ,  A61L2420/02 ,  A61L2420/08 ,  A61L2430/12 ,  A61L2430/24 ,  H05K999/99 ,  C08L23/06

摘要： An implant comprises a substrate and a coating on a surface of the substrate, and the coating comprises silicon nitride and has a thickness of from about 1 to about 15 micrometer. A method of providing the implant comprises coating a surface of the implant substrate with the coating comprising silicon nitride and having a thickness of from about 1 to about 15 micrometer by physical vapor deposition.

摘要翻译： 植入物包括基底和基底表面上的涂层，并且涂层包含氮化硅并且具有约1至约15微米的厚度。 提供植入物的方法包括用包含氮化硅的涂层涂覆植入物基底的表面，并且通过物理气相沉积具有约1至约15微米的厚度。