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发明授权
UPPER LAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN 有权

公开(公告)号：EP1708027B1

公开(公告)日：2019-03-13

申请号：EP05703585.9

申请日：2005-01-14

申请人： JSR Corporation

发明人： KIMURA, Toru , NISHIMURA, Yukio , UTAKA, Tomohiro , NEMOTO, Hiroaki , NAKAMURA, Atsushi , CHIBA, Takashi , NAKAGAWA, Hiroki

IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/20 , H01L21/027