摘要:
Die Erfindung betrifft eine Schaltungsanordnung zur Stromversorgung bei Prozessen der elektrochemisch initiierten plasmachemischen Schichterzeugung. Sie findet vorzugsweise bei der plasmachemischen Umwandlung elektrochemisch vorgebildeter Schichten, z. B. auf Leichtmetallen, Anwendung. Erfindungsgemäß ist der Ausgang des stellbaren Drehstrom-Transformators (1) mit nachgeschalteter 6-Puls-Gleichrichterschaltung (2) zweifach verzweigt, wobei eine erste Brückenschaltung aus einem zu einem Spannungssensor (9) parallel geschalteten Kondensator (8) besteht, eine zweite Brückenschaltung eine Freilaufdiode (10) parallel zur Strombegrenzungsdrossel (3) und dem Bad (5) zur Prozeßdurchführung, zu dem ein Impulsanalysator (4) parallel liegt, enthält und beide Brückenschaltungen durch ein Schalterbauelement (6) getrennt sind. Zur Indikation der mit der Schaltungsanordnung gesteuerten gepulsten Plasmaentladungen ist im Bad (5) zur Prozeßdurchführung ein optoelektronischer Sensor (11) eingebracht, der wie der Impulsanalysator (4), der Spannungssensor (9) und ein Stromsensor (7) mit der Steuereinheit (12) in Verbindung steht, wobei die Steuereinheit (12) das Schalterbauelement (6) mit dem Drehstrom-Transformator (1) gezielt beeinflußt, um Impulsfrequenz und Tastverhältnis optimal einzustellen.
摘要:
Die Erfindung betrifft eine Schaltungsanordnung zur Stromversorgung bei Prozessen der elektrochemisch initiierten plasmachemischen Schichterzeugung. Sie findet vorzugsweise bei der plasmachemischen Umwandlung elektrochemisch vorgebildeter Schichten, z. B. auf Leichtmetallen, Anwendung. Erfindungsgemäß ist der Ausgang des stellbaren Drehstrom-Transformators (1) mit nachgeschalteter 6-Puls-Gleichrichterschaltung (2) zweifach verzweigt, wobei eine erste Brückenschaltung aus einem zu einem Spannungssensor (9) parallel geschalteten Kondensator (8) besteht, eine zweite Brückenschaltung eine Freilaufdiode (10) parallel zur Strombegrenzungsdrossel (3) und dem Bad (5) zur Prozeßdurchführung, zu dem ein Impulsanalysator (4) parallel liegt, enthält und beide Brückenschaltungen durch ein Schalterbauelement (6) getrennt sind. Zur Indikation der mit der Schaltungsanordnung gesteuerten gepulsten Plasmaentladungen ist im Bad (5) zur Prozeßdurchführung ein optoelektronischer Sensor (11) eingebracht, der wie der Impulsanalysator (4), der Spannungssensor (9) und ein Stromsensor (7) mit der Steuereinheit (12) in Verbindung steht, wobei die Steuereinheit (12) das Schalterbauelement (6) mit dem Drehstrom-Transformator (1) gezielt beeinflußt, um Impulsfrequenz und Tastverhältnis optimal einzustellen.