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1.

发明公开
MASSIVE OVERLAY METROLOGY SAMPLING WITH MULTIPLE MEASUREMENT COLUMNS 审中-公开

公开(公告)号：EP4211450A1

公开(公告)日：2023-07-19

申请号：EP21895325.5

申请日：2021-10-28

申请人： KLA Corporation

发明人： MADSEN, Jonathan , SHCHEGROV, Andrei V. , MANASSEN, Amnon , HILL, Andrew V. , SIMON, Yossi , LAREDO, Gilad , UZIEL, Yoram

IPC分类号： G01N21/88 , G01N21/956

2.

发明公开
SYSTEM AND METHOD FOR DETERMINING TARGET FEATURE FOCUS IN IMAGE-BASED OVERLAY METROLOGY 审中-公开

公开(公告)号：EP4200599A1

公开(公告)日：2023-06-28

申请号：EP21876216.9

申请日：2021-09-21

申请人： KLA Corporation

发明人： LAVERT, Etay , MANASSEN, Amnon , SIMON, Yossi , SANKO, Dimitry , SAFRANI, Avner

IPC分类号： G01N21/956 , G01N21/88 , G03F7/20 , G06N3/04 , G06N20/00 , G06T7/00

3.

发明公开
SENSITIVE OPTICAL METROLOGY IN SCANNING AND STATIC MODES 审中-公开

公开(公告)号：EP4025903A1

公开(公告)日：2022-07-13

申请号：EP20870343.9

申请日：2020-09-22

申请人： KLA Corporation

发明人： HILL, Andrew , MANASSEN, Amnon , UZIEL, Yoram , SIMON, Yossi , LAREDO, Gilad

IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/89 , G01N21/88 , G01B11/02 , G01B11/26