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    Plasma apparatus
    1.
    发明公开
    Plasma apparatus 失效
    Plasmavorrichtung。

    公开(公告)号：EP0674471A1

    公开(公告)日：1995-09-27

    申请号：EP95108095.1

    申请日：1988-01-23

    申请人： MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA

    发明人： Nishimae, Junichi, c/o Mitsubishi Denki K.K. ,  Yoshizawa, Kenji, c/o Mitsubishi Denki K.K. ,  Taki, Masakazu, c/o Mitsubishi Denki K.K. ,  Ueda, Yoshihioro, c/o Mitsubishi Denki K.K. ,  Yanagi, Tadashi, c/o Mitsubishi Denki K.K. ,  Iwata, Akihiko, c/o Mitsubishi Denki K.K.

    IPC分类号： H05H1/18 ,  H05H1/46 ,  H01S3/097

    CPC分类号： H01J37/32192 ,  H01J37/32339 ,  H01S3/0315 ,  H01S3/0975 ,  H05H1/46

    摘要： The invention relates to a plasma apparatus where plasma is generated utilizing microwave discharge and laser excitation is performed and plasma processing is performed. More specifically, in a plasma apparatus where microwave from a microwave oscillator (1) is transmitted through a microwave transmission path (2) to a microwave circuit (6), and plasma is generated by microwave discharge within the microwave circuit, a plasma generating medium for generating the plasma is filled in a space formed between the conductor wall to constitute a part of the microwave circuit and dielectrics installed opposite to the conductor wall, and the microwave circuit forms microwave mode having the electric field component orthogonal to the boundary between the dielectrics and the plasma.

    摘要翻译： 本发明涉及一种使用微波放电产生等离子体并进行激光激发并进行等离子体处理的等离子体装置。 更具体地，在微波振荡器（1）的微波通过微波传输路径（2）传输到微波电路（6）的等离子体装置中，通过微波电路内的微波放电产生等离子体，等离子体产生介质 为了产生等离子体，填充在形成在导体壁之间的空间中，以构成微波电路的一部分和与导体壁相对安装的电介质，并且微波电路形成具有与电介质之间的边界正交的电场分量的微波模式 和等离子体。