公开(公告)号：EP0772801A1

公开(公告)日：1997-05-14

申请号：EP96909310.0

申请日：1996-04-29

申请人： PHILIPS ELECTRONICS N.V. ,  ASM LITHOGRAPHY B.V.

发明人： VAN ENGELEN, Gerard ,  SPERLING, Frank, Bernhard ,  JANSSEN, Henricus, Wilhelmus, Aloysius ,  BOUWER, Adianus, Gerardus ,  VAN DIJK, Cornelis, Dionysius ,  VAN KIMMENADE, Johannes, Mathijs, Maria ,  VAN EIJK, Jan ,  VAN DER PAL, Adrianus

IPC分类号： G03F7 ,  G03F9

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70833 ,  G03F9/70

摘要： The positioning appts. includes an substrate table (1), a subsystem for processing an object on the table, a drive unit (21) displacing the table, and a system (39) measuring the position of table w.r.t. the subsystem. The drive unit has a stationary part fastened to the positioning appts. machine frame co-operating with the measuring system's stationary and movable parts fastened to the table. The measuring system stationary part is fastened to the positioning appts. reference frame dynamically isolated from the machine frame.

摘要翻译： 定位appts。 包括衬底台（1），用于处理工作台上的物体的子系统，移动工作台的驱动单元（21）和测量工作台w.r.t的位置的系统（39）。 子系统。 驱动单元具有固定在定位孔上的固定部分。 机架与测量系统的固定和可移动部件相配合，固定在工作台上。 测量系统固定部分固定在定位孔上。 参考框架与机架动态隔离。

公开(公告)号：EP0799439B1

公开(公告)日：2000-09-13

申请号：EP96912187.0

申请日：1996-05-17

申请人： ASM LITHOGRAPHY B.V.

发明人： VAN KIMMENADE, Johannes, Mathijs, Maria ,  VAN DER PAL, Adrianus ,  VAN EIJK, Jan

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

公开(公告)号：EP0799439A1

公开(公告)日：1997-10-08

申请号：EP96912187.0

申请日：1996-05-17

申请人： PHILIPS ELECTRONICS N.V. ,  ASM Lithography

发明人： VAN KIMMENADE, Johannes, Mathijs, Maria ,  VAN DER PAL, Adrianus ,  VAN EIJK, Jan

IPC分类号： G03F9 ,  G03F7 ,  H01L21

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

摘要： The positioning mechanism has a force actuator system controlled by an electric controller, and which exerts a compensation force on the frame (45) during operation. The force has a mechanical moment about a reference point of the frame. This moment has a value equal to a value of a mechanical moment of a force of gravity acting on the object table (5) about the reference point, and a direction opposed to a direction of the mechanical moment of the force of gravity.

摘要翻译： 定位机构具有由电控制器控制的力致动器系统，并且在操作期间在框架（45）上施加补偿力。 该力具有围绕框架的参考点的机械力矩。 该时刻的值等于作为基准点的物体台（5）的重力的机械力矩的值和与重力的机械力矩的方向相反的方向的值。