公开(公告)号：EP0814382A1

公开(公告)日：1997-12-29

申请号：EP97109966

申请日：1997-06-18

申请人： PRINTING DEV INC

发明人： HOLMAN BRUCE III ,  ZALOOM JEFFREY G ,  ZHOU PEIGUANG ,  SHARKOZY LARRY ,  MULVEY MERLIN L

IPC分类号： G03F7/004 ,  B41C1/05 ,  B41C1/055 ,  B41C1/10 ,  C07C247/18 ,  G03F7/00 ,  G03F7/008 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/38 ,  H05K3/06

CPC分类号： G03F7/008 ,  B41C1/1008 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/10 ,  B41C2210/24 ,  C07C247/18 ,  Y10S430/145 ,  Y10S430/146

摘要： Printing plates having a photoresist layer thereon that can be exposed by a computer controller laser have improved sensitivity and do not require a photomask step. We have found photoresists that include a film forming polymer, an organo azide and a photosensitive dye that absorbs light at the frequency of the patterning laser and converts it to heat energy. The heat energy in turn elevates the temperature of the organo azide above its dissociation temperature, destroying the azide in areas exposed to the light source, and solubilizing those regions. A flood exposure with ultraviolet light hardens the unexposed resist, improving its resistance to etch solvents. Thus a flood exposure with ultraviolet light can be performed prior to or after pattern exposure, to harden the resist.

摘要翻译： 其上具有可由计算机控制器激光器曝光的光致抗蚀剂层的印刷板具有改进的灵敏度，并且不需要光掩模步骤。 我们已经发现光致抗蚀剂包括成膜聚合物，有机叠氮化物和感光染料，其以图案化激光的频率吸收光并将其转化为热能。 热能又将有机叠氮化物的温度升高到其解离温度以上，破坏暴露于光源的区域中的叠氮化物，并溶解这些区域。 用紫外线的泛滥曝光使未曝光的抗蚀剂变硬，从而提高其对蚀刻溶剂的抵抗力。 因此，在图案曝光之前或之后可以进行具有紫外线的泛光曝光，以使抗蚀剂硬化。