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发明授权
Oxide semiconductor sputtering target, method of manufacturing thin-film transistors using the same, and thin-film transistor manufactured using the same 有权
标题翻译：，使用相同的生产薄膜晶体管，以及薄膜晶体管使用相同的氧化物半导体溅射工艺

公开(公告)号：EP2669950B1

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：EP13169986.0

申请日：2013-05-31

申请人： Samsung Corning Advanced Glass, LLC

发明人： Ha, Jinjoo , Lee, Seungju , Oh, Joo Hye , Cho, Johann , Park, Ju Ok , Sohn, In Sung , Lee, Hyungrok , Han, Jin Woo

IPC分类号： H01L29/66 , H01L29/786 , C23C14/34 , H01L21/02 , H01L29/24

CPC分类号： H01L29/24 , C23C14/3414 , H01L21/02565 , H01L21/02631 , H01L29/66969 , H01L29/7869 , H01L29/78693