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    Slipring with integrated heating unit
    1.
    发明公开
    Slipring with integrated heating unit 有权
    Schleifring mit integrierter Heizvorrichtung

    公开(公告)号：EP2696449A1

    公开(公告)日：2014-02-12

    申请号：EP12179434.1

    申请日：2012-08-06

    申请人： Schleifring und Apparatebau GmbH

    发明人： Heinbuch, Peter ,  Rehder, Jan ,  Kirzdörfer, Albert

    IPC分类号： H01R39/08

    CPC分类号： H01R39/64 ,  H01R13/66 ,  H01R39/08 ,  H01R39/58 ,  H02K9/28

    摘要： A slipring assembly comprises a slipring module having at least one slipring track which is in electrical contact with at least one slipring brush. The slipring module comprises an isolating body holding the at least one slipring track. Furthermore a heating element is embedded in the slipring module to generate heat within the slipring module and to increase the temperature of the at least one slipring track. This allows increasing the temperature of the slipring module to an optimum operation temperature and further to remove humidity from the surface of the slipring track.

    摘要翻译： 滑动组件包括具有至少一个与至少一个滑动刷电气接触的滑动轨道的滑动模块。 滑动模块包括保持该至少一个滑动轨道的隔离体。 此外，加热元件嵌入在滑动模块中以在滑动模块内产生热量并且增加至少一个滑动轨道的温度。 这允许将滑动模块的温度提高到最佳操作温度，并且进一步从滑动轨道的表面去除湿度。

    SCHLEIFRING MIT REDUZIERTEM KONTAKTRAUSCHEN
    2.
    发明公开
    SCHLEIFRING MIT REDUZIERTEM KONTAKTRAUSCHEN 审中-公开
    滑环减少接触消耗

    公开(公告)号：EP3252187A1

    公开(公告)日：2017-12-06

    申请号：EP16197807.7

    申请日：2016-11-08

    申请人： Schleifring und Apparatebau GmbH ,  Umicore Galvanotechnik GmbH

    发明人： Holzapfel, Christian ,  Heinbuch, Peter ,  Christmann, Sascha ,  Ritz, Michael

    IPC分类号： C25D3/40 ,  C25D5/12 ,  C25D7/00 ,  C25D3/38

    CPC分类号： C25D7/00 ,  C25D3/38 ,  C25D3/40 ,  C25D5/12

    摘要： Verfahren zur Herstellung eines vergoldeten Schleifringkontaktes mit folgenden Verfahrensschritten: Bereitstellen eines elektrisch leitfähigen Substrats; galvanisches Auftragen einer Kupferschicht (12) auf das Substrat; galvanisches Auftragen einer Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht (14) auf die Kupferschicht (12); und galvanisches Auftragen einer Goldschicht (16) auf die Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht (14). Hierbei wird beim galvanischen Auftragen der Kupferschicht (12) auf das Substrat in dem verwendeten Galvanikbad mindestens ein Glanzbilder nicht verwendet wird, welcher in der Liste der Glanzbilder, welche aus 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, kationische Polymere mit Harnstoffgruppen, 1-(3-Sulfopropyl)-Pyridinium Betain, 1-(2-Hydroxy-3-sulfopropyl)-Pyridinium Betain, Propargyl (3-sulfopropyl) Ether Natriumsalz, Natrium-Saccharin, Natrium-Allylsulfonat, N,N-Dimethyl-N-(3-cocoamidopropyl)-N-(2-hydroxy-3-sulfopropyl) Ammonium Betain, Polyamine, 1H-Imidazol Polymer mit (Chloromethyl)Oxiran, 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, 1-Benzyl-3-Sodiumcarboxy-Pyridinium Chlorid, Arsentrioxid, Kalium-Antimon-Tartrat, Kaliumtellurat, Alkaliarsenit, Kaliumtellerit, Kaliumselenocyanat, Alkaliantimonyltartrat, Natriumselenit, Thalliumsulfat und Kohlenstoffdisulfid besteht, enthalten ist.

    摘要翻译： 一种制造镀金滑环接触件的方法，包括以下方法步骤：提供导电衬底; 在衬底上电镀铜层（12） 在铜层（12）上电镀镍和/或镍 - 磷光体层（14）; 和在镍和/或镍磷光体层（14）上电镀金层（16）。 在此，在衬底上的铜层（12）的电化应用不使用在所使用的电镀至少一个废料，这在废料的列表中，由3-羧基-1-（苯甲基）吡啶鎓氯化物钠盐，具有脲基的阳离子聚合物， ，1-（3-磺丙基） - 吡啶鎓甜菜碱，1-（2-羟基-3-磺丙基） - 吡啶鎓甜菜碱，炔丙基（3-磺丙基）盐醚钠，糖精钠，烯丙基磺酸钠，N，N-二甲基 N-（3-椰油酰氨基丙基）-N-（2-羟基-3-磺基丙基）铵甜菜碱，聚胺，与（氯甲基）环氧乙烷，3-羧基-1-（苯甲基）吡啶鎓氯化物钠盐-1H-咪唑聚合物，1-苄基 是-3-Sodiumcarboxy-氯化吡啶鎓，三氧化砷，酒石酸钾锑，Kaliumtellurat，碱砷，Kaliumtellerit，硒氰酸钾，Alkaliantimonyltartrat，亚硒酸钠，硫酸铊和二硫化碳存在。