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    Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung der Innenfläche stark gewölbter im wesentlichen kalottenförmiger Substrate mittels CVD
    2.
    发明公开
    Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung der Innenfläche stark gewölbter im wesentlichen kalottenförmiger Substrate mittels CVD 失效
    对于通过CVD涂覆强烈弯曲的大致圆顶状的基板的内表面的方法和装置。

    公开(公告)号：EP0595159A1

    公开(公告)日：1994-05-04

    申请号：EP93116837.1

    申请日：1993-10-19

    申请人： Schott Glaswerke ,  Carl-Zeiss-Stiftung trading as SCHOTT GLASWERKE

    发明人： Mörsen, Ewald, Dr. ,  Vogt, Helge ,  Segner, Johannes, Dr.

    IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/50 ,  C03C17/00

    CPC分类号： C23C16/455 ,  C03C17/004 ,  C23C16/045

    摘要： Es werden ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Beschichtung der Innenfläche stark gewölbter, im wesentlichen kalottenförmiger Substrate mittels CVD beschrieben. Bei diesem Verfahren werden die Reaktionsgase, welche die Schichtbildnermoleküle enthalten, durch wenigstens eine gegenüber dem Kalottenscheitelpunkt beabstandet von der zu beschichtenden Fläche angeordneten Gaseintrittsöffnung in die Reaktionskammer mit dem(n) zu beschichtenden Substrat(en) geleitet und sodann wird in an sich bekannter Weise durch Erzeugung einer Reaktionszone an der zu beschichtenden Substratinnenfläche die Abscheidung des Schichtmaterials auf dem Substrat bewirkt. Nach der Erfindung ist vorgesehen, die Reaktionsgase nicht, wie bei bekannten Verfahren üblich, langsam in die Reaktionskammer einströmen zu lassen, sondern zur Herstellung einer gleichmäßigen Beschichtung mit einer solch hohen Geschwindigkeit in die Reaktionskammer einzuleiten, daß für das Produkt aus Reynoldszahl R des Gasstrahls in bzw. in unmittelbarer Nähe der Gaseintrittsöffnung und dem Abstand h zwischen der Gaseintrittsöffnung und dem Kalottenscheitelpunkt gilt:

    400

    Das erfindungsgemäße Verfahren hat den Vorteil, daß auf sonst übliche Maßnahmen zur Erzeugung eines laminaren Gasstromes der Reaktionsgase sowie auf Maßnahmen zur räumlichen Begrenzung der Reaktionszone zur Vermeidung von Glasrußbildung ohne Verschlechterung der Schichtqualität verzichtet werden kann. Der Gasstrahl kann mittels einfacher, auch bei voneinander abweichenden Substratgeometrien universell einsetzbarer Düsenkörper erzeugt werden.

    摘要翻译： 在此过程中，将反应气体，其中含有成膜分子，被传递到反应室中包含的（一个或多个），以通过位于所述圆顶的顶点相反在距衬底的距离的至少一个气体入口被涂覆 待涂覆的表面。 然后将涂层材料沉积在由在所述内表面的基板产生的反应区被涂布本身已知的方式将基片。 。根据本发明，反应气体不使其缓慢流入反应室如在已知的方法中，但是，为了产生均匀的涂层，它们被馈送到反应室中，在寻求高的速度做的条件：400

    Bildschirme für Kathodenstrahlröhren mit einem einstellbaren spektralen Transmissionsverlauf aus Glas und Verfahren zu ihrer Herstellung
    4.
    发明公开
    Bildschirme für Kathodenstrahlröhren mit einem einstellbaren spektralen Transmissionsverlauf aus Glas und Verfahren zu ihrer Herstellung 失效
    屏幕阴极射线管具有玻璃的它们的制备可调节的光谱透射曲线和过程

    公开(公告)号：EP0722912A1

    公开(公告)日：1996-07-24

    申请号：EP96100111.2

    申请日：1996-01-05

    申请人： Schott Glaswerke ,  Carl-Zeiss-Stiftung trading as SCHOTT GLASWERKE

    发明人： Segner, Johannes, Dr. ,  Heming, Martin, Dr. ,  Freundel, Manfred, Dr.

    IPC分类号： C03C17/23 ,  C03C17/02 ,  C03C17/00 ,  C03C17/22 ,  H01J29/89 ,  C03C3/087

    CPC分类号： C03C17/3649 ,  C03C3/087 ,  C03C17/008 ,  C03C17/009 ,  C03C17/02 ,  C03C17/22 ,  C03C17/23 ,  C03C17/36 ,  C03C2217/212 ,  C03C2217/282 ,  H01J29/86

    摘要： Bildschirm für Kathodenstrahlröhren mit einem einstellbaren Transmissionsverlauf im sichtbaren Spektralbereich zwischen λ = 380 - 780 nm, aus einem ohne Veränderung seiner Eigenschaften und seiner Farbe durch Einschmelzen unter oxidierenden Bedingungen recyclierbaren Glas, mit einer Transmission zwischen größer 70 % und 92 % und mindestens einer auf dem Glas aufgebrachten Beschichtung, mit der der jeweils niedrigere spektrale Transmissionsverlauf zwischen 30 % und 70 % eingestellt ist, die

    aus mindestens einer der oxidischen Verbindungen besteht oder sie umfaßt, die das Bildschirmglas selbst enthält, und/oder
    aus einer oder mehreren der Komponenten besteht oder sie umfaßt, aus der/denen sich beim Einschmelzen des beschichteten Bildschirms in der Schmelze die oxidischen Verbindungen ausbilden, die das Bildschirmglas selbst enthält, und/oder
    TiO 2 enthält, und/oder
    Titan oder Verbindungen des Titans enthält aus dem/denen sich beim Einschmelzen des beschichteten Bildschirms in der Schmelze TiO 2 ausbildet und/oder
    in der Schmelze flüchtige Verbindungen ausbildet, die aus der Schmelze gasförmig entweichen, wenn die sich in der Schmelze bildenden Verbindungen andere Komponenten enthalten, als Titanoxid oder das Bildschirmglas selbst.
    Die Beschichtung beeinträchtigt beim Einschmelzen des Bildschirms die Schmelze, den Schmelzprozeß und das Schmelzprodukt, insbesondere wieder Bildschirme nicht. Des weiteren werden Verfahren zur Herstellung solcher Bildschirme aufgezeigt.

    摘要翻译： 的阴极射线管的屏幕，以在280〜780nm的轮廓的可调整的传输。可见光谱范围内，besteht的（A），它可以通过在氧化条件下熔化而不性质或颜色变化并且具有> 70吨传输被回收的玻璃 92％; 和（b）的涂层从而降低了传输至30-70％，并且（i）包括或包含氧化的CPDS≥1。 玻璃中所含的屏幕上，（ii）包括，或者包含≥1组分，涂覆的屏幕的熔化过程中，形成氧化CPDS。 包含在屏幕玻璃，（ⅲ）包含二氧化钛，（IV）包含Ti或Ti CPDS。 其上形成熔化涂覆屏幕和/或（v）形成的挥发性CPDS二氧化钛。 其演变为从熔体当CPDS气体。 在熔体中形成含有除TiO 2或屏幕玻璃本身的其它部件。 该涂层可以包括一个`ORMOCER®contg”的。 染料，尤指。 的偶氮，硝基，三苯基甲烷或carboyl染料。 声称拥有是prodn过程。 的上面的屏幕。

    Verfahren zur Herstellung einer Gradientenschicht
    5.
    发明公开
    Verfahren zur Herstellung einer Gradientenschicht 失效
    一种用于生产梯度层处理

    公开(公告)号：EP0718418A1

    公开(公告)日：1996-06-26

    申请号：EP95114298.3

    申请日：1995-09-12

    申请人： Schott Glaswerke ,  Carl-Zeiss-Stiftung trading as SCHOTT GLASWERKE

    发明人： Otto, Jürgen, Dr. ,  Paquet, Volker ,  Segner, Johannes, Dr.

    IPC分类号： C23C16/02 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52

    CPC分类号： C08J7/123 ,  C23C16/029 ,  C23C16/401 ,  C23C16/515 ,  C23C16/52 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14

    摘要： Die Erfindung betrifft ein Plasma CVD-Verfahren zur Herstellung einer Gradientenschicht, bei welchem der Schichtgradient in Schichtwachstumsrichtung durch Änderung wenigstens eines Plasmaleistungsparameters währens des Beschichtungsprozesses erzeugt wird. Gemäß der Erfindung werden dünne Gradientenschichten mit hoher Ortsauflösung dadurch erzeugt, daß die Plasmaleistung gepulst zugeführt wird und der Schichtgradient durch Änderung der Plasmaleistungsparameter Impulshöhe, Impulsdauer und/oder Impulspause eingestellt wird.

    摘要翻译： 本发明涉及一种等离子CVD工艺制造的梯度层，其中，在膜生长的通过修改至少一个等离子体功率参数的方向上的层梯度Waehrens产生涂覆工艺。 据具有高空间分辨率的本发明薄梯度层产生，其特征在于所述等离子体功率在脉冲供给与层梯度通过改变脉冲幅度，脉冲宽度和/或脉冲间周期的等离子体功率参数进行设置。

    Verfahren zur Herstellung anorganischer diffraktiver Elemente und Verwendung derselben
    6.
    发明公开
    Verfahren zur Herstellung anorganischer diffraktiver Elemente und Verwendung derselben 失效
    Verfahren zur Herstellung anorganischer diffraktiver Elemente und Verwendung derselben。

    公开(公告)号：EP0629592A1

    公开(公告)日：1994-12-21

    申请号：EP94104387.9

    申请日：1994-03-21

    申请人： Schott Glaswerke ,  Carl-Zeiss-Stiftung trading as SCHOTT GLASWERKE

    发明人： Heming, Martin, Dr. ,  Segner, Johannes, Dr. ,  Danielzik, Burkhard, Dr. ,  Speit, Burkhard, Dr. ,  Vogt, Helge ,  Spüengler, Stefan

    IPC分类号： C03C15/00 ,  C03C17/23 ,  G02B5/18 ,  G02B6/12

    CPC分类号： C03C15/00 ,  C03C17/23 ,  G02B5/1857 ,  G02B6/124 ,  G02B6/136

    摘要： Es wird ein Verfahren zur Herstellung anorganischer diffraktiver Elemente, insbesondere aus Glas, durch Ätzen beschrieben, bei welchem ein Substrat mit einer die nicht zu ätzenden Partien abdeckenden, gegenüber dem Ätzmedium widerstandsfähigen Maske, die der zu erzeugenden Reliefstruktur entspricht, überzogen wird, danach in dem Substrat an den nicht von der Maske bedeckten Stellen mittels eines Ätzverfahrens das gewünschte Relief erzeugt wird und anschließend, falls erforderlich, die Maske wieder entfernt wird. Die Erfindung besteht darin, daß vor dem Aufbringen der Maske in dem Substrat zur Einstellung einer definierten Ätztiefe in einem definierten Abstand von der Substratoberfläche, welcher der einzustellenden Strukturtiefe entspricht, eine Grenzfläche zwischen zwei verschiedenen Materialien mit unterschiedlichem Ätzverhalten erzeugt wird, die als Ätzstop ausgenutzt wird. Dies hat den Vorteil, daß selbst flache Reliefstrukturen mit geringer Strukturtiefe mit großer Genauigkeit und reproduzierbar hergestellt werden können.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于通过蚀刻来生产无机衍射元件，特别是玻璃的方法，其中衬底被掩模覆盖，所述掩模对腐蚀介质有抗性并且覆盖不被蚀刻的区域并对应于 要产生的浮雕结构，然后通过蚀刻工艺在衬底中未被掩模覆盖的区域中在衬底中产生所需的浮雕，随后如果需要，再次去除掩模。 本发明在于，在施加掩模之前，在衬底中产生用作抗蚀剂的具有不同蚀刻行为的两种不同材料之间的界面，以便将限定的蚀刻深度固定在距衬底表面一定距离处 这对应于要产生的结构深度。 这具有能够以高精度和再现性产生具有低结构深度的均匀的平面浮雕结构的优点。

    Verfahren und Vorrichtung zur Aussenbeschichtung von Lampen
    7.
    发明公开
    Verfahren und Vorrichtung zur Aussenbeschichtung von Lampen 失效

    公开(公告)号：EP0849769A2

    公开(公告)日：1998-06-24

    申请号：EP97121925.8

    申请日：1997-12-12

    申请人： Schott Glas ,  CARL-ZEISS-STIFTUNG trading as SCHOTT GLASWERKE

    发明人： Hack, Hrabanus, Dr. ,  Holdmann, Torsten ,  Paquet, Volker ,  Segner, Johannes, Dr.

    IPC分类号： H01K3/00 ,  H01J9/20 ,  H01J37/32

    CPC分类号： H01J37/32192 ,  C23C16/455 ,  C23C16/511 ,  H01J9/20

    摘要： Um die äußere Oberfläche von Lampen auf einfache Weise bei kurzer Prozeßdauer mit einer hochwertigen Beschichtung versehen zu können, wird ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Außenbeschichtung von Lampen beschrieben. Das Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung in einem Mikrowellenreaktor mittels eines Mikrowellen-CVD-Verfahrens durchgeführt wird. Die in den Mikrowellenreaktor eingekoppelte Mikrowellenleistung wird ≥ einem Schwellenwert gewählt, bei dem sich ein Plasma mit verminderter Durchlässigkeit für Mikrowellen-Strahlung einstellt. Die Mikrowellenleistung wird vorzugsweise mit ≥ 1/50 kW/ms ein- und ausgeschaltet. Die Vorrichtung weist einen Mikrowellenreaktor (1) auf, der Mittel aufweist, mit denen die Lampe (6) mit ihrer Symmetrieachse parallel zur Strömungsrichtung des Beschichtungsgases ausrichtbar ist. Mindestens eine der Begrenzungswände des Mikrowellenreaktors weist eine Lochplatte (13, 14) zum Zuführen und/oder Abführen des Beschichtungsgases auf.

    摘要翻译： 外部涂覆方法使用微波反应器（1）通过微波等离子体气相沉积工艺涂覆灯的外部，微波功率保持在给定的阈值以上。 高于1/50kW / ms的微波功率可以被接通和关断，其中微波反应器中的灯被支撑在其对称轴线平行于涂覆气体的流动方向。

    Verfahren und Vorrichtung zur Aussenbeschichtung von Lampen
    9.
    发明公开
    Verfahren und Vorrichtung zur Aussenbeschichtung von Lampen 失效
    对于灯的外部涂层的方法和装置

    公开(公告)号：EP0849769A3

    公开(公告)日：1999-06-09

    申请号：EP97121925.8

    申请日：1997-12-12

    申请人： Schott Glas ,  CARL-ZEISS-STIFTUNG trading as SCHOTT GLASWERKE

    发明人： Hack, Hrabanus, Dr. ,  Holdmann, Torsten ,  Paquet, Volker ,  Segner, Johannes, Dr.

    IPC分类号： H01K3/00 ,  H01J9/20 ,  H01J37/32

    CPC分类号： H01J37/32192 ,  C23C16/455 ,  C23C16/511 ,  H01J9/20

    摘要： Um die äußere Oberfläche von Lampen auf einfache Weise bei kurzer Prozeßdauer mit einer hochwertigen Beschichtung versehen zu können, wird ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Außenbeschichtung von Lampen beschrieben. Das Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung in einem Mikrowellenreaktor mittels eines Mikrowellen-CVD-Verfahrens durchgeführt wird. Die in den Mikrowellenreaktor eingekoppelte Mikrowellenleistung wird ≥ einem Schwellenwert gewählt, bei dem sich ein Plasma mit verminderter Durchlässigkeit für Mikrowellen-Strahlung einstellt. Die Mikrowellenleistung wird vorzugsweise mit ≥ 1/50 kW/ms ein- und ausgeschaltet. Die Vorrichtung weist einen Mikrowellenreaktor (1) auf, der Mittel aufweist, mit denen die Lampe (6) mit ihrer Symmetrieachse parallel zur Strömungsrichtung des Beschichtungsgases ausrichtbar ist. Mindestens eine der Begrenzungswände des Mikrowellenreaktors weist eine Lochplatte (13, 14) zum Zuführen und/oder Abführen des Beschichtungsgases auf.