摘要:
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (2) zum Erfassen einer Abbildungsqualität eines optischen Systems (4) mit zumindest einer Linse (6) oder Linsengruppe. Die Vorrichtung (2) umfasst eine MTF-Messvorrichtung (10) zum Messen einer Modulationstransferfunktion an mehreren Feldpunkten im Bildfeld des optischen Systems (4) und eine Zentriermessvorrichtung (18) zum Messen eines Zentrierzustands des optischen Systems (4). Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Erfassen einer Abbildungsqualität eines optischen Systems (4) mit einer solchen Vorrichtung (2).
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Messung der Positionen von Krümmungsmittelpunkten (K1, K2, K3) optischer Flächen (S1, S2, S3) eines mehrlinsigen optischen Systems (62). Zunächst werden die Abstände zwischen den Flächen (S1, S2, S3) entlang einer Bezugsachse (34) unter Verwendung eines Interferometers (24) gemessen. Anschließend werden die Krümmungsmittelpunkte (K1, K2, K3) der Flächen (S1, S2, S3) unter Verwendung einer optischen Winkelmesseinrichtung (22) gemessen. Bei der Messung der Position des Krümmungsmittelpunkts einer innerhalb des optischen Systems (62) liegenden Fläche (S2, S3) werden die gemessenen Positionen der Krümmungsmittelpunkte (K1, K2) der zwischen dieser Fläche (S2, S3) und der Winkelmesseinrichtung (22) liegenden Flächen (S1, S2) und die zuvor gemessenen Abstände zwischen den Flächen (S1, S2, S3) rechnerisch berücksichtigt. Auf diese Weise wird eine besonders hohe Messgenauigkeit erzielt, weil nicht auf Soll-abstände zurückgegriffen werden muss.
摘要:
Bei einem Verfahren zur Messung von Abständen zwischen optischen Flächen (S1, S2, S3) eines optischen Systems (38) wird der Zentrierzustands des optischen Systems (38) erfasst, indem ein Prüflichtstrahl (50), der sich entlang der Bezugsachse (34) ausbreitet, auf das optische System (38) gerichtet wird. Dieser trifft, nachdem er das optische System (38) vollständig durchtreten hat, auf einen ortsauflösenden optischen Sensor (22) auf, wodurch alle optischen Flächen (S1, S2, S3) des optischen Systems (38) bei der Erfassung des Zentrierzustands berücksichtigt werden. Das optische System wird dann unter Berücksichtigung des zuvor erfassten Zentrierzustands justiert. Anschließend wird das optische System mit einem Messlichtstrahl (50) durchleuchtet, der sich entlang einer Bezugsachse (34) ausbreitet. Anteile des Messlichtstrahls (60), die von den optischen Flächen (S1, S2, S3) reflektiert wurden, werden mit einem Referenzlichtstrahl (52) in einem Interferometer (24) überlagert. Durch Erfassen und Auswerten von Interferenzerscheinungen zwischen den reflektierten Anteilen (60) und dem Referenzlichtstrahl (52) werden die Abstände zwischen den optischen Flächen (S1, S2, S3) entlang der Bezugsachse (34) bestimmt.