摘要:
Verfahren und Vorrichtung zur berührungslosen Messung von Winkeln oder Winkeländerungen mit hoher Ortsauflösung an spiegelnd reflektierenden Gegenständen, realisierend die Verfahrensschritte : - Erzeugung kohärenter Laserlichtstrahlung mittels einer Laserlichtquelle (10), - Fokussierung des Laserlichtstrahls auf engen Strahldurchmesser am Ort einer entfernten reflektierenden Fläche (20), die der zu messenden Winkeländerung unterworfen ist, mit Hilfe eines optischen Systems zur Strahlformung (18), - Abbilden des reflektierten Laserlichtes auf der Sensorfläche (16) durch ein optisches System (14), - Erfassen des Laserlichtflecks auf der Sensorfläche (16), - Ermitteln der Lage des Laserlichtflecks relativ zu einer Bezugslage, - Bestimmung des Meßwertes der Winkeländerung α anhand der Lageveränderung des Lichtflecks relativ zur Bezugslage.
摘要:
Bei einem Verfahren zur Bestimmung der Lage einer Symmetrieachse (20) einer asphärischen Linsenfläche (16) relativ zu einer Bezugsachse (30, 22) wird die Lage des Krümmungsmittelpunktes (21) des sphärischen Anteils der Linsenfläche (16) gemessen, Ferner wird eine Taumelbewegung gemessen, welche die Linsenfläche (16) während einer Drehung um eine Drehachse (30) beschreibt. Aus den auf diese Weise erhaltenen Meßwerten wird die Lage der Symmetrieachse (20) der asphärischen Linsenfläche (16) relativ zu der Drehachse (30) bestimmt Meßwerten. Eine zur Durchführung des Verfahrens geeignete Vorrichtung weist einen Autokollimator (36a; 136a) zur Messung des sphärischen Anteils der Linsenfläche (16) auf. Die Taumelbewegung wird mit einem zweiten Autokollimator (36b) oder einem Abstandssensor (136b) gemessen.
摘要:
Bei einem Verfahren zur Messung der Positionen von Krümmungsmittelpunkten optischer Flächen (S1, S2, S3) eines ein- oder mehrlinsigen optischen Systems (P) wird eine Abbildungsoptik (44, 62) bereitgestellt, die mindestens eine Objektebene (39; 39a, 39b) in mindestens eine erste und eine davon verschiedene, aber sich im gleichen Strahlengang befindende zweite Bildebene (47a, 47b, 47c) abbildet. Das optische System (P) wird derart angeordnet, dass sich, unter Berücksichtigung der brechenden Wirkung einer gegebenenfalls im Strahlengang vorgelagerten optischen Fläche (S1, S2) des optischen Systems, eine vermutete Position eines ersten Krümmungsmittelpunkts (K1) in der ersten Bildebene (47a) und eine vermutete Position eines zweiten Krümmungsmittelpunkts (K2) in der zweiten Bildebene (47b) der Abbildungsoptik befindet. Dann wird ein in der Objektebene angeordnetes Objekt (40; 40a, 40b) gleichzeitig oder sequentiell auf die erste und die zweite Bildebene mit Hilfe von Messlicht (41) abgebildet. Mit Hilfe eines ortsauflösenden Lichtsensors (50) werden Reflexe des Messlichts (41) an optischen Flächen (S1, S2, S3) des optischen Systems (P) erfasst. Aus den erfassten Reflexen werden die tatsächlichen Positionen des ersten und des zweiten Krümmungsmittelpunktes berechnet.
摘要:
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (2) zum Erfassen einer Abbildungsqualität eines optischen Systems (4) mit zumindest einer Linse (6) oder Linsengruppe. Die Vorrichtung (2) umfasst eine MTF-Messvorrichtung (10) zum Messen einer Modulationstransferfunktion an mehreren Feldpunkten im Bildfeld des optischen Systems (4) und eine Zentriermessvorrichtung (18) zum Messen eines Zentrierzustands des optischen Systems (4). Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Erfassen einer Abbildungsqualität eines optischen Systems (4) mit einer solchen Vorrichtung (2).
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Messung der Positionen von Krümmungsmittelpunkten (K1, K2, K3) optischer Flächen (S1, S2, S3) eines mehrlinsigen optischen Systems (62). Zunächst werden die Abstände zwischen den Flächen (S1, S2, S3) entlang einer Bezugsachse (34) unter Verwendung eines Interferometers (24) gemessen. Anschließend werden die Krümmungsmittelpunkte (K1, K2, K3) der Flächen (S1, S2, S3) unter Verwendung einer optischen Winkelmesseinrichtung (22) gemessen. Bei der Messung der Position des Krümmungsmittelpunkts einer innerhalb des optischen Systems (62) liegenden Fläche (S2, S3) werden die gemessenen Positionen der Krümmungsmittelpunkte (K1, K2) der zwischen dieser Fläche (S2, S3) und der Winkelmesseinrichtung (22) liegenden Flächen (S1, S2) und die zuvor gemessenen Abstände zwischen den Flächen (S1, S2, S3) rechnerisch berücksichtigt. Auf diese Weise wird eine besonders hohe Messgenauigkeit erzielt, weil nicht auf Soll-abstände zurückgegriffen werden muss.
摘要:
Bei einem Verfahren zur Messung von Abständen zwischen optischen Flächen (S1, S2, S3) eines optischen Systems (38) wird der Zentrierzustands des optischen Systems (38) erfasst, indem ein Prüflichtstrahl (50), der sich entlang der Bezugsachse (34) ausbreitet, auf das optische System (38) gerichtet wird. Dieser trifft, nachdem er das optische System (38) vollständig durchtreten hat, auf einen ortsauflösenden optischen Sensor (22) auf, wodurch alle optischen Flächen (S1, S2, S3) des optischen Systems (38) bei der Erfassung des Zentrierzustands berücksichtigt werden. Das optische System wird dann unter Berücksichtigung des zuvor erfassten Zentrierzustands justiert. Anschließend wird das optische System mit einem Messlichtstrahl (50) durchleuchtet, der sich entlang einer Bezugsachse (34) ausbreitet. Anteile des Messlichtstrahls (60), die von den optischen Flächen (S1, S2, S3) reflektiert wurden, werden mit einem Referenzlichtstrahl (52) in einem Interferometer (24) überlagert. Durch Erfassen und Auswerten von Interferenzerscheinungen zwischen den reflektierten Anteilen (60) und dem Referenzlichtstrahl (52) werden die Abstände zwischen den optischen Flächen (S1, S2, S3) entlang der Bezugsachse (34) bestimmt.