公开(公告)号：EP2733731A1

公开(公告)日：2014-05-21

申请号：EP13005078.4

申请日：2013-10-24

申请人： VON ARDENNE GmbH

发明人： Hentschel, Michael ,  von der Waydbrink, Hubertus

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  F16F15/023

CPC分类号： H01L21/67115 ,  H01L21/67706

摘要： Die Erfindung betrifft den Unterbau und insbesondere die Lagerung für eine Apparatur zur Substratbehandlung. Die Apparatur ist aufgrund derer Wirkungsweise insofern stoßempfindlich, dass sich bei Schwingungen oder Stößen die substratbehandelnde Wirkung verzerrt, verfälscht oder zumindest unpräzise am Substrat niederschlägt. Derartige Probleme treten beispielsweise dort auf und lassen sich durch die Erfindung beheben, wo die Substratbehandlung mit fokussiertem Licht erfolgt.
Es ist das Ziel der Erfindung, kritische Schwingungen, die ursächlich von der Standfläche einer Apparatur herrühren, weitestgehend so zu unterdrücken, dass in der Apparatur die Lichtquelle für hochfokussiertes Linienlicht sowie das Substrat lagestabil gegenüber störenden Schwingungen behandelbar ist, sowie Aufgabe eine Apparatur mit einer verbesserter Lagerung zu schaffen.
Es kennzeichnet die Erfindung, dass zwischen Aufstellfläche (6) und Förderer (7) mehrfach und/oder dass zwischen Förderer (7) und Halter (5) mindestens zweifach ein schwingungsdämpfendes Lager (9, 10) derart vorgesehen ist, dass von der Aufstellfläche (6) ausgehende kritische Schwingungen gedämpft werden, wobei das Lager (9, 10) eine vorgebbare Lagerschwingung ausführend ausgebildet ist und wobei die Lager über Leitungsverbindungen mit mindestens einem pneumatischen Schwingungsgenerator verbunden sind; Fig. 1 .

摘要翻译： 用于高度聚焦的轻行程的基板处理的装置（1）包括光源（4）和光源的保持器（5），距离基板（2）一定距离，以及输送机（7） 提供了连续的基底输送。 基板可以通过输送机在输送方向上相对于轻冲程移动。 输送机相对于支撑表面垂直地支撑，并且保持器相对于输送机支撑。 用于高度聚焦的轻行程的基板处理的装置（1）包括光源（4）和光源的保持器（5），距离基板（2）一定距离，以及输送机（7） 提供了连续的基底输送。 基板可以通过输送机在输送方向上相对于轻冲程移动。 输送机相对于支撑表面垂直地支撑，并且保持器相对于输送机支撑。 （a）至少一个光源用于在衬底的一个外表面上产生轻行程，（b）光源和衬底之间的距离，以及（c）来自 装置的支撑表面。 在支撑面和输送机之间多次和/或在输送机和支架之间设有双重减振轴承。 轴承具有预定的轴承振动。 还包括用于安装冲击敏感设备的独立权利要求。