公开(公告)号：EP3363590B1

公开(公告)日：2022-09-07

申请号：EP18157079.7

申请日：2018-02-16

发明人： Cormier, Alexandre ,  Kleinagel, Simon ,  Keiner, Daniel

IPC分类号： B24B13/005 ,  B24B9/14 ,  B24B13/01

公开(公告)号：EP3009230B1

公开(公告)日：2021-01-13

申请号：EP14189085.5

申请日：2014-10-15

发明人： Savoie, Marc ,  Cormier, Alexandre ,  Siegert, Detlef

IPC分类号： B24B13/005

公开(公告)号：EP2011604B2

公开(公告)日：2020-12-09

申请号：EP07013158.6

申请日：2007-07-05

申请人： Satisloh AG

发明人： Savoie, Marc

IPC分类号： B24B13/005 ,  B29D11/00 ,  C08F290/08 ,  C09D175/16 ,  C09J151/00

公开(公告)号：EP3479956A1

公开(公告)日：2019-05-08

申请号：EP17200367.5

申请日：2017-11-07

申请人： Satisloh AG

发明人： Peter, Marc ,  Flemming, Marcel

IPC分类号： B24B13/005

摘要： The invention relates to a method for manufacturing an optical element according to a prescription comprising the following steps :
- providing (S1) a combination (CB) of a block piece (B) and a lens blank (SFB) having a first face (cx) and a second face (cc) opposite to the first face (cx), the lens blank (SFB) being blocked with the first face (cx) on the block piece (B),
- surfacing and polishing (S2) the second face of the lens blank,
- cleaning (S3-W/-R-S6) the lens blank,
- hard coating (S7) the second face of said lens blank,
- degassing (S8) the lens blank,
- applying (S9) an AR-coating in a vacuum box coater,
- deblocking (S10) the processed lens blank from said block piece,
wherein said cleaning step comprises
- a pre-cleaning step (S3-S4) including a finishing drying step allowing the lens blank to be put on hold,
- a deep cleaning step (S5-W/-D-S6) prior to the hard coating step.

公开(公告)号：EP3479955A1

公开(公告)日：2019-05-08

申请号：EP18204449.5

申请日：2018-11-05

申请人： Satisloh AG

发明人： CLAAR, Johannes ,  CLARKE, Lawrence Michael ,  KREIS, Michael

IPC分类号： B24B13/00 ,  B24B13/06 ,  B24B27/00 ,  B24B51/00 ,  B24B49/12 ,  B24B9/14

摘要： The invention relates to a surfacing station (302) for processing of surfaces of optical elements as workpieces comprising:
- a processing unit (10, 10', 10") for processing surfaces of optical elements,
- a controller unit (200) configured to communicate with a database (202) containing processing protocols which can be carried out by the surfacing station (302), and controlling the operation of the processing unit (10, 10', 10") in accordance to the processing protocols,
wherein the surfacing station (302) further comprises an identification tag base (204) configured to communicate with the controller unit (200) and configured to determine identification tags (206) of consumable items (208) used by the surfacing station (302), the controller unit (200) being configured to enable a surfacing protocol for processing of optical elements as workpieces in function of the identified consumable item (208).

公开(公告)号：EP2308644B1

公开(公告)日：2019-01-23

申请号：EP10010013.0

申请日：2010-09-21

申请人： Satisloh AG

发明人： Fiedler, Udo, Dr. ,  Schäfer, Holger ,  Wallendorf, Steffen

IPC分类号： B24B13/00 ,  B24B41/00 ,  B23Q7/04 ,  B23Q3/155 ,  B24B27/00

公开(公告)号：EP3048884B1

公开(公告)日：2019-01-02

申请号：EP14781831.4

申请日：2014-09-23

申请人： Satisloh AG

发明人： CADET, Mamonjy

IPC分类号： A01N25/34 ,  A01N25/30 ,  A01N31/14 ,  C09D5/14 ,  C09D171/02 ,  C11D3/00 ,  C11D17/04 ,  A01P1/00 ,  C11D1/00 ,  A61L2/18 ,  G02B27/00

公开(公告)号：EP3366804A1

公开(公告)日：2018-08-29

申请号：EP17000280.2

申请日：2017-02-22

申请人： Satisloh AG

发明人： DI PAOLA, Giuseppe ,  MORENI, Franco ,  COREA, Antonio ,  VISCOMI, Giuseppe ,  BREME, Frank

IPC分类号： C23C14/52 ,  C23C14/56

CPC分类号： C23C14/564 ,  C23C14/0635 ,  C23C14/24 ,  C23C14/52

摘要： A box coating apparatus (10) for vacuum coating of substrates comprises a vacuum chamber (12) which contains an evaporation source (14). A substrate holder (16) is disposed vis-à-vis to the evaporation source so that evaporated coating material can impinge on substrates held by the substrate holder. Besides the evaporation source and the substrate holder, at least one further functional component (20) is provided, to which a shield arrangement (52) is assigned to prevent evaporated coating material from impinging on the functional component. The shield arrangement has a shutter portion (56) which can be transferred from a closed shielding position in which it covers a passage way (60) leading through the shield arrangement and serves to shield the functional component, to an open pumping position in which the shutter portion substantially clears the passage way to allow essentially free passage for gases and vapor, and vice versa.

公开(公告)号：EP2666589A3

公开(公告)日：2018-04-18

申请号：EP13002206.4

申请日：2013-04-26

申请人： Satisloh AG

发明人： Diehl, Joachim ,  Moos, Steffen ,  Schmidt, Achim

IPC分类号： B24B9/14 ,  B24B41/04 ,  B24B41/06 ,  B24B47/14 ,  B24B55/02 ,  B23Q1/44

CPC分类号： B24B55/02 ,  B23Q1/445 ,  B23Q3/062 ,  B24B9/146 ,  B24B13/0055 ,  B24B41/04 ,  B24B41/042 ,  B24B41/061 ,  B24B47/14 ,  G02B27/62

摘要： Eine Zentriermaschine für insbesondere optische Linsen (L) umfasst zwei Zentrierspindeln, deren drehend antreibbare Zentrierspindelwellen (24, 34) bezüglich einer Zentrierachse (C) axial fluchten und endseitig zur Aufnahme von Spannglocken (36, 38) ausgebildet sind, eine Hubeinrichtung (44), mittels der eine Zentrierspindelwelle bezüglich der anderen Zentrierspindelwelle zum Ausrichten der Linse zwischen den Spannglocken entlang der Zentrierachse axial zustellbar ist, eine Spanneinrichtung (50) zum Aufbringen einer die ausgerichtete Linse spannenden Spannkraft an einer Zentrierspindelwelle, und wenigstens eine relativ zur Zentrierachse bewegbare Bearbeitungseinheit mit einem Werkzeug für eine Randbearbeitung der gespannten Linse. Um einen optimierten Glockenspannprozess zu ermöglichen, sind die Hubeinrichtung und die Spanneinrichtung und/oder ein Drehantrieb (48) für die axial zustellbare Zentrierspindelwelle koaxial bezüglich der Zentrierachse angeordnet.

摘要翻译： 定心机，特别是用于光学镜片（L）包括两个定心主轴，其在轴向对齐并结束驱动旋转Zentrierspindelwellen（24，34）相对于中心轴线（C），以接收夹紧杯（36，38）形成，一提升装置（44）， 通过的Zentrierspindelwelle相对于另一个Zentrierspindelwelle沿定心轴夹紧杯之间的透镜对准装置是轴向无法投递，用于在Zentrierspindelwelle施加对准透镜大的夹紧力的夹紧装置（50），以及具有工具的至少一个可相对于定心轴加工部 用于修边张紧的镜片。 为了允许优化的钟夹紧过程中，提升装置和所述夹紧装置和/或旋转驱动器（48），用于轴向可前进Zentrierspindelwelle同轴相对于定心轴被布置。

公开(公告)号：EP3296423A1

公开(公告)日：2018-03-21

申请号：EP16002019.4

申请日：2016-09-16

申请人： Satisloh AG

发明人： MORENI, Franco ,  COREA, Antonio ,  VISCOMI, Giuseppe

IPC分类号： C23C14/50 ,  C23C14/04

CPC分类号： C23C14/505 ,  C23C14/044

摘要： A box coating apparatus (10) for vacuum coating of substrates comprises a vacuum chamber (12) containing an evaporation source (14) and a substrate holder (16) formed as a dome vis-à-vis to the evaporation source and rotatable about an axis (R). A masking arrangement (20) is located in between for partially shadowing the substrates on the substrate holder relative to the evaporation source. The masking arrangement comprises a fixed masking portion (22) stationary in the vacuum chamber, and a plurality of gradient sector portions (24, 26, 28) carrying gradient shields assigned to the substrates on the substrate holder, for forming a gradient mask. The gradient sector portions can be rotated about said axis between a gradient mask open position where they are stored behind the fixed masking portion, and a gradient mask closed position where they are spread like a fan between the evaporation source and the substrate holder.

摘要翻译： 一种用于基片真空涂布的盒式涂布装置（10），包括一个真空室（12），该真空室包含一个蒸发源（14）和一个形成为与蒸发源相对的圆顶的基片支架（16） 轴（R）。 掩模装置（20）位于其间以相对于蒸发源部分地遮蔽衬底支架上的衬底。 该掩蔽装置包括固定在真空室中的固定掩蔽部分（22）和多个梯度扇形部分（24,26,28），该梯度扇形部分承载分配给衬底支架上的衬底的梯度屏蔽以形成梯度掩模。 梯度扇形部分可以围绕所述轴线在它们被存储在固定掩蔽部分后面的梯度掩模打开位置和梯度掩模闭合位置之间旋转，在梯度掩模闭合位置它们像蒸发源和衬底支架之间的风扇一样被展开。