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    Verfahren zur Aufarbeitung von Rückständen einer Chlorsilandestillation mit Wasserdampf
    1.
    发明公开
    Verfahren zur Aufarbeitung von Rückständen einer Chlorsilandestillation mit Wasserdampf 失效
    Verfahren zur Aufarbeitung vonRückständeneiner Chlorsilandestillation mit Wasserdampf。

    公开(公告)号：EP0532857A1

    公开(公告)日：1993-03-24

    申请号：EP92112163.8

    申请日：1992-07-16

    申请人： HÜLS AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Ruff, Klaus

    IPC分类号： C01B33/107 ,  A62D3/00

    CPC分类号： A62D3/35 ,  A62D2101/22 ,  C01B33/10715 ,  C01B33/10742

    摘要： Es wird ein Verfahren zur kontinuierlichen Aufarbeitung von Rückständen einer Chlorsilandestillation durch Hydrolyse mit Wasserdampf beschrieben. Die Hydrolyse erfolgt im Fall der kontinuierlichen Durchführung bei einer Anfangstemperatur von höchstens 160 °C und einer Endtemperatur von mindestens 170 °C.
    Im Fall der batchweisen Durchführung werden im Hydrolysereaktor bestimmte Wasserdampfmengen und Temperaturen eingestellt.

    摘要翻译： 描述了通过用蒸汽水解连续处理氯硅烷蒸馏残余物的方法。 在连续过程的情况下，水解在最高温度为160℃，最终温度为至少170℃下进行。在分批处理的情况下，一定量 的蒸汽和温度设置在水解反应器中。

    METHOD AND APPARATUS FOR SILICON REFINEMENT
    2.
    发明公开
    METHOD AND APPARATUS FOR SILICON REFINEMENT 审中-公开
    方法和装置精炼硅的

    公开(公告)号：EP2376380A2

    公开(公告)日：2011-10-19

    申请号：EP09837242.8

    申请日：2009-12-23

    申请人： Arise Technologies Corporation

    发明人： DODD, Peter ,  BALKOS, Athanasios, Tom ,  DAWKINS, Jeffrey

    IPC分类号： C01B33/039 ,  C01B33/037

    CPC分类号： C01B33/035 ,  C01B33/107 ,  C01B33/1071 ,  C01B33/10715 ,  C01B33/10721 ,  C01B33/10742 ,  C01B33/10747 ,  C01B33/10757 ,  C01B33/10773

    摘要： A method and respect material for the production of chlorosilanes (primarily: trichlorosilane) and the deposition of high purity poly-silicon from these chlorosilanes. The source for the chlorosilane production consists of eutectic or hypo-eutectic copper-silicon, the concentration range of said copper-silicon is between 10 and 16 wt% silicon. The eutectic or hypo-eutectic copper-silicon is cast in a shape suitable for a chlorination reactor, where it is exposed to a process gas, which consists, at least partially, of HCI. The gas reacts at the surface of the eutectic or hypo-eutectic copper-silicon and extracts silicon in the form of volatile chlorosilane. The depleted eutectic or hypo-eutectic material might be afterwards recycled in such a way that the amount of extracted silicon is replenished and the material is re-cast into the material shape desired.

    Verfahren zur Gewinnung von chloridarmer Ofenasche bei der Umsetzung von Rohsilicium zu Chlorsilanen
    3.
    发明公开
    Verfahren zur Gewinnung von chloridarmer Ofenasche bei der Umsetzung von Rohsilicium zu Chlorsilanen 失效
    Verfahren zur Gewinnung von chloridarmer Ofenasche bei der Umsetzung von Rohsilicium zu Chlorsilanen。

    公开(公告)号：EP0482312A1

    公开(公告)日：1992-04-29

    申请号：EP91113882.4

    申请日：1991-08-20

    申请人： HÜLS AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Ruff, Klaus

    IPC分类号： C01B33/107

    CPC分类号： C01B33/10742 ,  C01B33/10715

    摘要： Beim Verfahren zur Gewinnung chloridarmer Ofenasche als Reaktionsrückstand bei der Umsetzung von Rohsilicium mit Chlorwasserstoff und/oder Chlor wird der Chloridgehalt der Asche dadurch herabgesetzt, daß man die Ofenasche dem weiteren Kontakt mit dem Chlorierungsmittel entzieht.

    摘要翻译： 在原料硅与氯化氢和/或氯反应中作为反应残余物获得低氯化物炉灰的方法中，通过除去炉灰与氯化剂进一步接触，减少灰分中的氯含量。

    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SILICIUMTETRACHLORID DURCH CARBOCHLORIERUNG
    7.
    发明公开
    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SILICIUMTETRACHLORID DURCH CARBOCHLORIERUNG 审中-公开
    通过汽化生产硅橡胶的方法

    公开(公告)号：EP3309126A1

    公开(公告)日：2018-04-18

    申请号：EP16193249.6

    申请日：2016-10-11

    申请人： Evonik Degussa GmbH

    发明人： Uehlenbruck, Goswin ,  Zoch, Heinz ,  Rauleder, Hartwig ,  Elsner, Jens

    IPC分类号： C01B33/107 ,  C07F7/04 ,  C01B7/04

    CPC分类号： C01B33/10715 ,  C01B7/04 ,  C07F7/04

    摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Siliciumtetrachlorid in einem Anlagenverbund indem man
    - in der Einheit (A) SiO 2 und Kohlenstoff mit Cl 2 bei einer Temperatur im Bereich von 700 bis 1600 °C umsetzt und das Umsetzungsprodukt fraktioniert kondensiert und SiCl 4 gewinnt,
    - in der Einheit (B) das Chlorsilane-Gemisch mit einem Alkohol, vorzugsweise Methanol oder Ethanol, umsetzt (verestert), und dabei freigesetztes HCl(g) zumindest anteilig in Einheit (A) zurückführt,
    - in Einheit (C) Chlorsilane-Gemisch mindestens unter Zusatz von Sauerstoff und/oder Luft verbrennt und Chlor-haltiges Gas in Einheit (A) zurückführt,
    - in Einheit (D) die in den Einheiten (A), (B) und (C) anfallenden HCl-haltigen Gas- bzw. Abgasströme in Gegenwart eines Oxidationskatalysators unter Zusatz von Sauerstoff und/oder Luft einem Oxidationsschritt unterzieht, dabei Cl 2 gewinnt und das gewonnene Cl 2 zumindest anteilig in die Einheit (A) zurückführt.

    摘要翻译： 本发明涉及一种方法，用于在系统网络生产四氯化硅通过 - 在单元（A）的SiO 2和碳与Cl 2在700至1600℃范围内的温度和反应以分级冷凝，将反应产物和四氯化硅获胜， - 在 所述单元（B），与醇的氯硅烷混合物，优选甲醇或乙醇，进行反应（酯化），从而释放出的HCl（g）的单元，至少部分地（一个）返回时， - 在单元（C）氯硅烷混合物至少在包含 在单位单元（d）（A），（B）和（C）得到的含有HCl的气体或废气流 - 添加氧和/或空气灼伤和含氯气体的单元（A）返回时， 使在氧化催化剂的存在下通过加入氧气和/或空气的到氧化步骤，从而获得Cl2和至少获得的氯气中的一部分在单元（a）的回报。