公开(公告)号：EP4457378A1

公开(公告)日：2024-11-06

申请号：EP22859484.2

申请日：2022-12-27

申请人： Gelest, Inc.

发明人： PAN, Youlin ,  ARKLES, Barry, C. ,  LIBERATORE, Richard, J.

IPC分类号： C23C16/00 ,  G03F7/00 ,  H01L21/00 ,  C07F7/22

公开(公告)号：EP4455152A1

公开(公告)日：2024-10-30

申请号：EP22925103.8

申请日：2022-12-01

申请人： POSTECH Research and Business Development Foundation

发明人： NOH, Yong-Young ,  LIU, Ao

IPC分类号： C07F7/22 ,  C07F1/00 ,  C01G30/00 ,  H01L29/786 ,  H01L29/66 ,  H10K10/00 ,  H01L29/24

摘要： A perovskite composite comprising antimony trifluoride, an electronic element comprising same, and a preparation method therefor are disclosed. The perovskite composite comprises tin (Sn)-based perovskite and antimony trifluoride (SbF 3 ) so that lead (Pb) is not added thereto, and has a low hole concentration (≤ 10 14 cm -1 ), and thus can be used for an optoelectronic device.

公开(公告)号：EP4430053A1

公开(公告)日：2024-09-18

申请号：EP22890869.5

申请日：2022-11-07

申请人： Inpria Corporation

发明人： JIANG, Kai ,  TELECKY, Alan J. ,  MEYERS, Stephen T.

IPC分类号： C07F7/22 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0043 ,  G03F7/0042 ,  C07F7/2224

公开(公告)号：EP4394508A1

公开(公告)日：2024-07-03

申请号：EP23179243.3

申请日：2023-06-14

申请人： Samsung Electronics Co., Ltd.

发明人： KOH, Haengdeog ,  KWAK, Yoonhyun ,  KIM, Mijeong ,  NAM, Youngmin ,  AHN, Chanjae ,  LEE, Changheon ,  IM, Kyuhyun ,  CHOI, Sungwon ,  HAN, Sunghyun

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07F7/22

CPC分类号： G03F7/0042 ,  C07F7/2224

摘要： Provided are a resist composition and a pattern forming method using the same. The resist composition may include an organometallic compound represented by Formula 1 below and a polymer repeating unit represented by Formula 2 below.

              M11(R11)n(OR12)(4-n)



In Formulas 1 and 2, descriptions of M11, R11, R12, n, A21, L21 to L24, a21 to a24, R21, R22, b22, p, and X21 refer to the specification.

公开(公告)号：EP3377441B1

公开(公告)日：2024-03-27

申请号：EP16866854.9

申请日：2016-11-07

发明人： FARQUHAR, James J. ,  SEAH, Choon Ming

IPC分类号： B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C23C16/04 ,  B01D1/00 ,  B01L1/00 ,  C23C16/26 ,  C23C16/54 ,  C23C16/56 ,  C07F7/22

公开(公告)号：EP4204426A1

公开(公告)日：2023-07-05

申请号：EP21862548.1

申请日：2021-08-24

申请人： Inpria Corporation

发明人： EDSON, Joseph B. ,  CARDINEAU, Brian J. ,  HUIHUI-GIST, Kierra ,  LAMKIN, Thomas J. ,  JILEK, Robert E. ,  EARLEY, William

IPC分类号： C07F7/22 ,  C07F7/08 ,  C07F19/00

公开(公告)号：EP4089074A1

公开(公告)日：2022-11-16

申请号：EP22163541.0

申请日：2009-07-31

申请人： The Johns Hopkins University

发明人： Pomper, Martin Gilbert ,  Mease, Ronnie Charles ,  Chen, Ying

IPC分类号： C07D211/34 ,  A61K31/33 ,  A61K31/44 ,  A61P9/10 ,  A61P9/00 ,  A61P35/00 ,  C07D213/82 ,  C07C275/00 ,  A61K51/00 ,  A61K9/127 ,  C07D213/61 ,  C07D213/74 ,  A61K51/04 ,  C07C275/16 ,  C07C275/18 ,  C07F7/22

摘要： Prostate-specific membrane antigen (PSMA) binding compounds having radioisotope substituents are described, as well as chemical precursors thereof. Compounds include pyridine containing compounds, compounds having phenylhydrazine structures, and acylated lysine compounds. The compounds allow ready incorporation of radionuclides for single photon emission computed tomography (SPECT) and positron emission tomography (PET) for imaging, for example, prostate cancer cells and angiogenesis.

公开(公告)号：EP3177753B1

公开(公告)日：2022-08-10

申请号：EP15828966.0

申请日：2015-07-08

发明人： QI, Yabing ,  ONO, Luis Katsuya ,  WANG, Shenghao

IPC分类号： C23C16/44 ,  H01L51/44 ,  H01L51/48 ,  C07F7/24 ,  C23C14/24 ,  C23C14/06 ,  C23C14/12 ,  C23C14/50 ,  C23C14/54 ,  H01L51/00 ,  H01L51/42 ,  C07F7/22

公开(公告)号：EP3889159A3

公开(公告)日：2021-11-10

申请号：EP21174196.2

申请日：2015-10-22

申请人： Inpria Corporation

发明人： MEYERS, Stephen, T. ,  ANDERSON, Jeremy ,  EDSON, Joseph, Burton ,  JIANG, Kai ,  KESZLER, Douglas, A. ,  KOCSIS, Michael, K. ,  TELECKY, Alan, J. ,  CARDINEAU, Brian

IPC分类号： C07F7/22 ,  G03F7/004 ,  H05K3/02 ,  G03F7/32

摘要： Organometallic radiation resist compositions are described based on tin ions with alkyl ligands. Some of the compositions have branched alkyl ligands to provide for improved patterning contrast while maintaining a high degree of solution stability. Blends of compounds with distinct alkyl ligands can provide further improvement in the patterning. High resolution patterning with a half-pitch of no more than 25 nm can be achieved with a line width roughness of no more than about 4.5 nm. Synthesis techniques have been developed that allow for the formation of alkyl tin oxide hydroxide compositions with very low metal contamination.

公开(公告)号：EP3868767A1

公开(公告)日：2021-08-25

申请号：EP20020082.2

申请日：2020-02-21

申请人： Ivoclar Vivadent AG

发明人： Moszner, Norbert ,  Catel, Yohann ,  Fässler, Pascal ,  Haas, Michael ,  Radebner, Judith ,  Stüger, Harald

IPC分类号： C07F7/22 ,  C07F7/30 ,  A61K6/20 ,  A61K6/30 ,  A61K6/62 ,  A61K6/887 ,  C08F2/50 ,  C08F4/16 ,  C08F4/44 ,  C08F4/72 ,  C08L33/04 ,  C08L33/26

摘要： Verbindungen gemäß der allgemeinen Formel (I)

in der M Ge oder Sn ist, RAr

R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 unabhängig voneinander jeweils -H, -F, -Cl, -OR 6 , -SR 6 , -N(R 6 ) 2 , -CF 3 , -CN, -NO 2 , -COOR 6 , -CONHR 6 , ein verzweigter, cyclischer oder vorzugsweise linearer C 1-20 -Alkyl-, C 2-20 -Alkenyl-, C 1-20 -Alkyloxy- oder ein C 2-20 -Alkenoxy-Rest sind, der ein- oder mehrfach durch O, S, oder -NR 6 - unterbrochen und durch eine oder mehrere polymerisationsfähige Gruppen und/oder Reste R 6 substituiert sein kann, R 6 H, ein verzweigter, cyclischer oder vorzugsweise linearer C 1-20 -Alkyl- oder C 2-20 -Alkenyl-Rest ist, R 7 eine chemische Bindung, ein n-wertiger aromatischer Rest oder ein verzweigter, cyclischer oder vorzugsweise linearer C 1-20 -Alkylen-Rest ist, der ein- oder mehrfach durch O, S oder -NR 6 - unterbrochen und durch eine oder mehrere polymerisationsfähige Gruppen, =O und/oder Reste R 6 substituiert sein kann, n 2 oder 3 ist und m 0 oder 1 ist. Die Verbindungen eignen sich besonders als Photoinitiatoren für die radikalische Polymerisation und insbesondere zur Herstellung von Dentalwerkstoffen.