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    化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
    1.
    发明专利
    化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2021181443A

    公开(公告)日：2021-11-25

    申请号：JP2021117843

    申请日：2021-07-16

    申请人： 住友化学株式会社

    发明人： 増山 達郎 ,  向井 優一 ,  市川 幸司

    IPC分类号： C08F220/18 ,  C07C69/753 ,  C07C69/54 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  C07C69/75

    摘要： 【課題】良好なマスクエラーファクター(MEF)のレジストパターンを製造できる化合 物、樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物を提供することを目的とする。 【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する樹脂及びこの樹脂を含む レジスト組成物。 [式中、R 1 は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を 表す。R 2 及びR 3 は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。nは、1〜6の整数を表す 。Rは、アルキル基を有してもよい1−アダマンチル基又は*−CHR 4 R 5 を表す。* は結合位を表す。R 4 及びR 5 は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、脂環式炭化 水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、R 4 及びR 5 は互いに結合してそれらが結 合する炭素原子とともに2価の脂環式炭化水素基を形成する。] 【選択図】なし

    重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、位相差フィルム、楕円偏光板および有機EL表示装置
    2.
    发明专利
    重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、位相差フィルム、楕円偏光板および有機EL表示装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2021152147A

    公开(公告)日：2021-09-30

    申请号：JP2021032570

    申请日：2021-03-02

    申请人： 住友化学株式会社

    发明人： 中田 啓貴 ,  宮崎 勝旭

    IPC分类号： G02B5/30 ,  H05B33/02 ,  H01L27/32 ,  H01L51/50 ,  G09F9/00 ,  C07C69/75 ,  C08F20/10

    摘要： 【課題】単独で溶剤に対する高い溶解性を示すとともに、光学フィルムを構成し得る他の重合性液晶化合物の溶剤に対する溶解性を向上させることが可能な重合性液晶化合物を提供する。 【解決手段】式(I)で表される重合性液晶化合物。 [Mは2価の脂環式炭化水素基を表し、B 1 およびB 2 は−R a 3 COOR a4 −、−R a5 OCOR a6 −等を表し、A 1 およびA 2 は2価の脂環式炭化水素基または芳香族基を表し、L 1 およびL 2 は−O−、−COO−または−OCO−を表し、E a およびE b は炭素数1〜12のアルカンジイル基を表し、Pはアクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であり、E a により表される基における炭素原子数の合計とE b により表される基における炭素原子数の合計のうち少ない方をN1、多い方をN2とした場合、N1は2〜6であり、N2は6〜12であり、1
    【選択図】なし

    シクロヘキサンジカルボン酸モノエステルの製造方法
    3.
    发明专利
    シクロヘキサンジカルボン酸モノエステルの製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2021123558A

    公开(公告)日：2021-08-30

    申请号：JP2020018022

    申请日：2020-02-05

    申请人： 日本ゼオン株式会社

    发明人： 青木 強 ,  坂本 圭

    IPC分类号： C07C69/75 ,  C07C67/52 ,  C07C67/14

    摘要： 【課題】光学フィルムを得るための重合性化合物の製造中間体として有用なシクロヘキサンジカルボン酸モノエステル化合物を、低コストで収率よく高純度で工業的に有利に製造する方法を提供する。 【解決手段】下記一般式(1)で表される1,4−シクロヘキサンジカルボン酸またはその誘導体と下記一般式(2)で表されるヒドロキシ化合物とを有機溶媒中で反応させる工程(A)と、工程(A)で得られた反応混合物中の水分を低減する工程(B)と、工程(B)で得られた反応混合物に種晶を懸濁した貧溶媒を添加して結晶化を行う工程(C)を含む、下記一般式(3)で表されるシクロヘキサンジカルボン酸モノエステルの製造方法〔式中、R 1 、R 2 、及びR 3 は、明細書に記載のとおりである。〕。 【化1】 【選択図】なし