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公开(公告)号:JP2020161451A
公开(公告)日:2020-10-01
申请号:JP2019062915
申请日:2019-03-28
Applicant: 株式会社日立ハイテク
Abstract: 【課題】負イオンがシンチレータに直接衝突することを回避可能で、シンチレータの劣化防止、シンチレータの長寿命化、省メンテナンス化、正負両イオンの高感度検出が可能なイオン検出装置を実現する。 【解決手段】正イオン用CD52の中心点63と対向電極54の中心点64を結ぶ基準線65対し負イオン用CD53の中心点66がシンチレータ56の中心点67のある側の領域とは逆側の領域に配置する。イオン進入口62から入射した正イオンは偏向力を受け正イオン用CD52に衝突し発生した二次電子はシンチレータ56に衝突し光が発生しライトガイド59を経て光電子増倍管58で検出される。基準線65に沿って負電位ポテンシャル障壁が生成され、イオン進入口62から入った負イオンは負イオン用CD53に引き寄せられ衝突し生成された正イオンは正イオン用CD52に衝突し発生した二次電子はシンチレータ56に衝突し光電子増倍管58で検出される。 【選択図】図1
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公开(公告)号:JP6739207B2
公开(公告)日:2020-08-12
申请号:JP2016069943
申请日:2016-03-31
Applicant: 株式会社日立ハイテク
Inventor: 關口 好文 , 今村 伸 , 川野 源 , ホック シャヘドゥル
IPC: H01J37/244
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