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    Charged-particle beam orbital correction machine and charged-particle beam apparatus
    13.
    发明专利
    Charged-particle beam orbital correction machine and charged-particle beam apparatus 有权
    充电颗粒光束修正机和充电粒子光束装置

    公开(公告)号：JP2009164054A

    公开(公告)日：2009-07-23

    申请号：JP2008002489

    申请日：2008-01-09

    Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

    Inventor： ITO HIROYUKI ,  SASAKI HIROKO ,  ISHII RYOICHI ,  DOI TAKASHI

    IPC: H01J37/153 ,  H01J37/145 ,  H01J37/28

    CPC classification number: H01J37/153 ,  H01J37/145 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/1534

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem on a conventional aberration correction in association with an orbital correcting method in a charged-particle beam, and to provide a convergent optical system for a charged-particle beam at low cost and with high accuracy and high resolution. SOLUTION: A distribution is constituted to concentrate the electromagnetic field in the central direction of its beam orbital axis, and the beam orbit is formed in an obliquely incident manner to constitute a curved orbit by means of a lenticular function. Resultantly, a large nonlinear operation in the outside is negated in such a typically exemplified case as a spherical aberration. More specifically, an electric field is easily concentrated when voltage is applied to an electrode on the axis. Further, a beam incident axis and an imaging position can be achieved by operating a normal lens and a deflector. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题：为了解决与带电粒子束中的轨道校正方法相关联的常规像差校正的问题，并且以低成本和高成本提供用于带电粒子束的会聚光学系统 精度高，分辨率高。 解决方案：构成了将电磁场集中在其光束轨道轴的中心方向上的分布，并且通过透镜功能以倾斜入射的方式形成光束轨道以构成弯曲的轨道。 结果，在像球面像差这样的典型例子中，外部的大的非线性运算被否定。 更具体地，当电压施加到轴上的电极时，电场容易集中。 此外，可以通过操作普通透镜和偏转器来实现光束入射轴和成像位置。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

    Electrooptic lens system
    14.
    发明专利
    Electrooptic lens system 审中-公开
    电光镜系统

    公开(公告)号：JP2007280966A

    公开(公告)日：2007-10-25

    申请号：JP2007187439

    申请日：2007-07-18

    Applicant: Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh ,  ツェーエーオーエス コレクテッド エレクトロン オプチカル システムズ ゲーエムベーハー

    Inventor： SPEHR RAINER DR

    IPC: H01J37/12 ,  G02B21/00 ,  H01J37/14 ,  H01J37/145

    CPC classification number: H01J37/145

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lens system with an aperture for an electron beam in an arbitrary length dimension, and forming aplanatic images.
    SOLUTION: A cylindrical lens is combined with a magnetic lens with which a quadrupole field can be produced. The lenses are arranged with little or no distance between them and their optical axes run parallel to one another. The quadrupole lens has a slot-shaped aperture which is oriented parallel to an opening of the cylindrical lens. The focusing plane of the quadrupole lens, which surrounds the optical axis, is oriented parallel to the longitudinal axes of the aperture and its defocusing plane perpendicular to the longitudinal axes. The refractive power of the cylindrical lens can be set at twice that of the quadrupole lens.
    COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种具有任意长度尺寸的电子束孔径的透镜系统，并形成平面图像。 解决方案：一个柱面透镜与可以产生四极场的磁性透镜组合。 这些透镜被布置成它们之间很少或没有距离，并且它们的光轴彼此平行地延伸。 四极透镜具有平行于柱面透镜的开口定向的槽形孔。 围绕光轴的四极透镜的聚焦平面平行于孔的纵向轴线及其垂直于纵向轴线的散焦平面定向。 柱面透镜的屈光度可以设定为四极透镜的屈光度的两倍。 版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

    Scanning electron beam device
    15.
    发明专利
    Scanning electron beam device 审中-公开
    扫描电子束装置

    公开(公告)号：JP2003068241A

    公开(公告)日：2003-03-07

    申请号：JP2001313665

    申请日：2001-10-11

    Applicant: Seiko Instruments Inc ,  セイコーインスツルメンツ株式会社

    Inventor： YONEZAWA AKIRA

    IPC: G01Q30/02 ,  H01J37/28

    CPC classification number: H01J37/145 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/244 ,  H01J2237/281

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To effectively observe irregularity of the surface of a sample, by detecting secondary electrons from the sample mounted in a lens magnetic field with a plurality of secondary electron detectors.
    SOLUTION: An upper electrode 3a and a lower electrode 3b of a scanning electron beam device 10 are constructed in a single pole magnetic field type lens 4 so that a sample 5 is mounted in the lens magnetic field, where a negative voltage is applied to the sample 5 and the lower electrode 3b facing the sample 5, a zero or positive voltage is applied to the upper electrode, and this generates an electric field, to prevent the secondary electrons, which are emitted into an object lens magnetic field space on the side of an electron source 1 from the sample 5, from moving in a spiral. The secondary electrons are detected by split MCPs or a plurality of scintillator type secondary electron detectors which are mounted so as to pinch an optical axis line.
    COPYRIGHT: (C)2003,JPO

    Abstract translation: 要解决的问题：通过用多个二次电子检测器检测安装在透镜磁场中的样品的二次电子，有效地观察样品表面的不规则性。 解决方案：扫描电子束装置10的上电极3a和下电极3b被构造在单极磁场型透镜4中，使得样品5安装在透镜磁场中，其中负电压施加到 样品5和面向样品5的下电极3b，向上电极施加零电压或正电压，这产生电场，以防止发射到侧面上的物镜磁场空间中的二次电子 来自样品5的电子源1以螺旋方式移动。 二次电子由分开的MCP或多个闪烁体型二次电子检测器检测，其被安装成夹住光轴线。

    多極子レンズ、収差補正装置、および電子顕微鏡
    19.
    发明专利
    多極子レンズ、収差補正装置、および電子顕微鏡 有权
    多镜头，ABERRATION校正装置和电子显微镜

    公开(公告)号：JP2015207351A

    公开(公告)日：2015-11-19

    申请号：JP2014085407

    申请日：2014-04-17

    Applicant: 日本電子株式会社

    Inventor： 沢田 英敬

    IPC: H01J37/145 ,  H01J37/153 ,  H01J37/18 ,  H01J37/12 ,  H01J37/141

    CPC classification number: H01J37/141 ,  H01J37/06 ,  H01J37/12 ,  H01J37/145 ,  H01J37/153 ,  H01J37/18 ,  H01J37/26 ,  H01J2237/063 ,  H01J2237/1415

    Abstract: 【課題】電子線の進行方向に関して強度の異なる静磁場を発生させることができる多極子レンズを提供する。 【解決手段】多極子レンズ100は、ヨーク14a,14b,14cと、ヨーク14a,14b,14cに磁気的に接続された基部13a,13b,13c、および基部13a,13b,13cに磁気的に接続された先端部11a,11b,11cを有する極子12a,12b,12cと、を備えた構造体10a,10b,10cを含み、構造体10a,10b,10cは複数積層され、構造体10a,10b,10cの積層方向に隣り合う先端部11a,11b,11cの間には、非磁性体からなる磁場分離部20,22が設けられている。 【選択図】図4

    Abstract translation: 要解决的问题：提供能够在电子束行进方向上产生不同强度的静磁场的多极镜。解决方案：多极镜头100包括包括轭14a，14b和14c的结构10a，10b和10c，基底 与轭铁14a，14b，14c磁极连接的部分13a，13b，13c以及与基部13a，13b，13c磁性连接的前端部11a，11b，11c的极12a，12b，12c。 在结构体10a，10b，10c的叠层方向相邻的前端部11a，11b，11c之间层叠多个结构体10a，10b，10c，由非磁性物质形成的磁场分离部20,22 提供。

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