公开(公告)号：JP2018530865A

公开(公告)日：2018-10-18

申请号：JP2018512278

申请日：2016-08-25

Applicant: ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド

Inventor： ジェイムズ エス バフ ,  ヴィクター ベンヴェニスト ,  フランク シンクレア

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/30

CPC classification number: H01J37/1475 ,  H01J37/14 ,  H01J37/1471 ,  H01J37/1478 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/1415 ,  H01J2237/152 ,  H01J2237/31701

Abstract: 方法は、イオン源から、最初の伝搬方向を有するイオンビームを生成する、ステップと、該イオンビームを、前記最初の伝搬方向に対して、最初の傾斜角で偏向する、ステップと、前記イオンビームを、磁気アセンブリのアパーチャーから通す、ステップと、前記イオンビームの前記最初の伝搬方向に垂直な第1の方向に沿って伸びる四重極磁界、並びに、前記第1の方向及び前記最初の伝搬方向に垂直な第2の方向に沿って伸びる双極子磁界を、前記アパーチャーにおいて、生成する、ステップと、を含んでもよい。

公开(公告)号：JP2017162606A

公开(公告)日：2017-09-14

申请号：JP2016044563

申请日：2016-03-08

Applicant: 日本電子株式会社

Inventor： 清水 有子 ,  安原 聡 ,  山崎 和也 ,  細川 史生

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/153 ,  H01J37/04

CPC classification number: H01J37/1478 ,  H01J37/1471 ,  H01J37/20 ,  H01J37/222 ,  H01J37/265 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/1506 ,  H01J2237/221 ,  H01J2237/223 ,  H01J2237/2802

Abstract: 【課題】容易にコマフリー軸合わせを行うことができる軸合わせ方法を提供する。 【解決手段】本発明に係る軸合わせ方法は、電子顕微鏡において、電子線の入射方向をコマフリー軸に合わせるための軸合わせ方法であって、電子線を基準軸に対して第1方向に傾斜させて第1TEM像を取得する工程と、電子線を基準軸に対して第1方向と反対方向の第2方向に傾斜させて第2TEM像を取得する工程と、第1TEM像のパワースペクトルと第2TEM像のパワースペクトルの差分画像の輝度が小さくなるように基準軸を変更する工程と、を含む。 【選択図】図8

公开(公告)号：JP6138454B2

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：JP2012237802

申请日：2012-10-29

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 福田 宗行 ,  鈴木 直正 ,  池上 明 ,  土肥 英登 ,  圓山 百代 ,  猩々 智康

IPC: H01J37/153 ,  H01J37/28 ,  H01J37/141

CPC classification number: H01J37/1478 ,  H01J37/141 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/141 ,  H01J2237/1415 ,  H01J2237/1506 ,  H01J2237/2801

公开(公告)号：JP5819054B2

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：JP2010250911

申请日：2010-11-09

Applicant: カール ツァイス マイクロスコーピー ゲーエムベーハー ,  Carl Zeiss Microscopy GmbH

Inventor： ディルク プライクスツァス

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/147

CPC classification number: H01J37/1478 ,  H01J37/2955 ,  H01J2237/1506 ,  H01J2237/1534

公开(公告)号：JP2014022297A

公开(公告)日：2014-02-03

申请号：JP2012162258

申请日：2012-07-23

Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： DOI HIDETO ,  IKEGAMI AKIRA ,  KAZUMI HIDEYUKI

IPC: H01J37/153 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J3/26 ,  H01J3/14 ,  H01J37/1478 ,  H01J37/153 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/1501 ,  H01J2237/1508

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam device which, in a relatively simple configuration, corrects off-axis chromatic aberration and deflection coma aberration at the same time.SOLUTION: The present invention is a charged particle beam device provided with a tilting purpose deflector 08 disposed between a charged particle source 01 and an objective lens 09 and used to tilt a charged particle beam, the charged particle beam device having a first optical element 07 including an electromagnetic quadrupole which generates dispersion to suppress the dispersion caused by deflection by the tilting purpose deflector 08 and provided with a second optical element comprising the deflector 06 for deflecting the charged particle beam incident upon the first optical element 07 or an electromagnetic quadrupole which causes dispersion different from the dispersion generated by the first optical element to occur in the charged particle beam.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种带电粒子束装置，其以相对简单的构造同时校正离轴色差和偏转彗形像差。解决方案：本发明是一种带电粒子束装置，其具有倾斜 设置在带电粒子源01和物镜09之间并用于倾斜带电粒子束的目的偏转器08，带电粒子束装置具有包括电磁四极杆的第一光学元件07，其产生色散以抑制由偏转引起的色散 倾斜目的偏转器08并且设置有第二光学元件，该第二光学元件包括用于偏转入射在第一光学元件07上的带电粒子束的偏转器06或电磁四极杆，其导致与由第一光学元件产生的色散不同的色散发生在 带电粒子束。

公开(公告)号：JP5068928B2

公开(公告)日：2012-11-07

申请号：JP2004347511

申请日：2004-11-30

Applicant: 株式会社Sen

Inventor： 光国 月原 ,  光昭 椛澤

IPC: H01J37/317 ,  C23C14/48 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J27/024 ,  H01J37/023 ,  H01J37/05 ,  H01J37/1474 ,  H01J37/1478 ,  H01J37/15 ,  H01J37/3007 ,  H01J2237/0213 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/0458 ,  H01J2237/047 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/061 ,  H01J2237/0835 ,  H01J2237/1536 ,  H01J2237/24405 ,  H01J2237/24507 ,  H01J2237/30477 ,  H01J2237/31705

公开(公告)号：JP2007531864A

公开(公告)日：2007-11-08

申请号：JP2006520256

申请日：2004-07-12

Applicant: アプライド マテリアルズ イスラエル リミテッド

Inventor： アヴィラム タム， ,  オヴァディャ メナデヴァ， ,  ズヴィカ ローゼンベルグ，

IPC: G01N23/225 ,  G01B15/04 ,  G01R31/305 ,  G01R31/307 ,  H01J37/28 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01J37/1478 ,  G01B15/04 ,  G01N23/2251 ,  G01R31/307 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/24578 ,  H01J2237/2487 ,  H01J2237/2611 ,  H01J2237/2814 ,  H01J2237/2816 ,  H01J2237/2817

Abstract: 第１横断区分と第２横断区分との間に置かれた中間区分により画成されるサブミクロン断面を有する被測定構造素子の断面特徴を決定するためのシステム及び方法。 この方法は、基準構造素子の第１部分と、上記被測定構造素子の少なくとも第１横断区分とを第１の傾斜状態で走査して、上記基準構造素子と上記第１横断区分との間の第１関係を決定する第１ステップで開始する。 この第１ステップの後に、基準構造素子の第２部分と、上記被測定構造素子の少なくとも第２横断区分とを第２の傾斜状態で走査して、上記基準構造素子と上記第２横断区分との間の第２関係を決定する第２ステップが続く。 この方法は、上記第１関係及び第２関係に応答して上記被測定構造素子の断面特徴を決定する第３ステップで終了となる。
【選択図】 図４

公开(公告)号：JP3916464B2

公开(公告)日：2007-05-16

申请号：JP2001545339

申请日：1999-12-14

Applicant: アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated

Inventor： パフェル アダメック， ,  アレックス ゴールデンシュタイン， ,  ヤロン， アイ． ゴールド， ,  ナダヴ ハース， ,  アッシャー パール， ,  イゴール ペトロヴ， ,  ラデル ベン−アヴ，

IPC: G01B15/00 ,  H01L21/66 ,  G01B15/04 ,  G01N23/225 ,  H01J37/145 ,  H01J37/147 ,  H01J37/153 ,  H01J37/28

CPC classification number: G01B15/04 ,  H01J37/1478 ,  H01J37/28

公开(公告)号：JP2006054074A

公开(公告)日：2006-02-23

申请号：JP2004233286

申请日：2004-08-10

Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： KAWASAKI TAKESHI ,  YOSHIDA TAKAO ,  NAKANO TOMONORI

IPC: H01J37/153 ,  H01J37/09

CPC classification number: H01J37/153 ,  H01J37/1478 ,  H01J2237/0458 ,  H01J2237/1534 ,  H01J2237/2611 ,  H01J2237/2809 ,  H01J2237/2817

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam column not generating image shift or deterioration of image resolution when slanting the beams in large angles.
SOLUTION: On the charged particle beam column comprising an aberration correction device 10, a convergent charged particle beam is formed, slanted against a sample 18 face in large angles by controlling an incident direction of the beams incident on a second condenser lens 7 without moving an object point of the condenser lens by using a deflection device 51, and also without moving an object point of an objective lens 17 located on a beam axis. At this time, the image shift or deterioration of image resolution due to the slanting of the beams is prevented by the aberration correction device 10.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种在大角度倾斜光束时不产生图像偏移或图像分辨率劣化的带电粒子束列。 解决方案：在包括像差校正装置10的带电粒子束柱上，通过控制入射在第二聚光透镜7上的光束的入射方向，形成会聚的带电粒子束，以大角度倾斜到样品18的表面 而不通过使用偏转装置51移动聚光透镜的物体点，并且也不移动位于光束轴上的物镜17的物体点。 此时，通过像差校正装置10防止由于光束的倾斜导致的图像偏移或图像分辨率的劣化。（C）2006年，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：JP2018520495A

公开(公告)日：2018-07-26

申请号：JP2018503180

申请日：2016-07-21

Applicant: エルメス マイクロビジョン,インコーポレーテッド ,  HERMES MICROVISION INC.

Inventor： レン、ウェイミン ,  リュウ、シュエドン ,  シュエラン、フ ,  チェン、ゾンウェイ

IPC: H01J37/29 ,  H01J37/05 ,  H01J37/09 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/1474 ,  H01J37/06 ,  H01J37/10 ,  H01J37/1477 ,  H01J37/1478 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/0453 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/103 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/1516 ,  H01J2237/1534 ,  H01J2237/1536

Abstract: 【課題】試料を高解像度および高スループットで観察するためのマルチビーム装置を提案する。 【解決手段】本装置においては、ソース変換ユニットが、ひとつの単一電子ソースの複数の平行な像を、そこからの平行な一次電子ビームの複数のビームレットを偏向することによって形成し、ひとつの対物レンズが、複数の偏向されたビームレットを試料表面上に収束させて複数のプローブスポットを形成する。可動コンデンサレンズが、一次電子ビームを平行化し、複数のプローブスポットの電流を変化させるために使用され、プレビームレット形成手段が一次電子ビームのクーロン効果を弱め、ソース変換ユニットが対物レンズとコンデンサレンズの軸外収差を最小化し補償することによって複数のプローブスポットのサイズを最小化する。 【選択図】図2