マルチ荷電粒子ビーム照射装置及びマルチ荷電粒子ビーム検査装置

    公开(公告)号:JP2021168286A

    公开(公告)日:2021-10-21

    申请号:JP2020071726

    申请日:2020-04-13

    Abstract: 【目的】マルチビームに作用するクーロン効果を低減することが可能な照射装置を提供する。 【構成】本発明の一態様のマルチ電子ビーム照射装置は、マルチ荷電粒子ビームを形成する成形アパーチャアレイ基板203と、マルチ荷電粒子ビームの各ビームの中心軸軌道がマルチ荷電粒子ビームの軌道中心軸方向に直交する同一面内で集束しないように、軌道中心軸方向に直交する同一面内で集束しないように、マルチ電子ビームの各ビームを個別に偏向する多極子偏向器アレイ220と、マルチ電子ビームが集束されないままの状態で、マルチ電子ビームで基板を照射する1次電子光学系151と、を備えたことを特徴とする。 【選択図】図1

    マルチ電子ビーム検査装置及びマルチ電子ビーム検査方法

    公开(公告)号:JP2021165661A

    公开(公告)日:2021-10-14

    申请号:JP2020068595

    申请日:2020-04-06

    Abstract: 【目的】ビーム毎のセンサに他のビームの2次電子が混入する、いわゆるクロストークが発生する場合でも高精度に検査可能な検査装置を提供する。 【構成】本発明の一態様の検査装置100は、パターンが形成された試料にマルチ1次電子ビームを照射して、マルチ1次電子ビームが前記試料に照射されたことに起因して放出されるマルチ2次電子ビームを検出し、クロストーク成分が含まれた2次電子画像を取得する2次電子画像取得機構150と、2次電子画像からクロストーク成分を除去するための予め設定されたゲイン情報を用いて、2次電子画像から前記クロストーク成分を除去した補正2次電子画像を生成する補正回路132と、補正2次電子画像と所定の画像とを比較する比較回路108と、を備えたことを特徴とする。 【選択図】図1

    デュアルビーム二焦点荷電粒子顕微鏡

    公开(公告)号:JP2021163754A

    公开(公告)日:2021-10-11

    申请号:JP2021054616

    申请日:2021-03-29

    Abstract: 【課題】調査能力を向上させるデュアルビーム二焦点荷電粒子顕微鏡をを提供する。 【解決手段】デュアルビーム二焦点荷電粒子顕微鏡102を使用してサンプル104を調査するためのシステム100は、サンプル104に向けて複数の荷電粒子134を放出することと、複数の荷電粒子134を第1の荷電粒子ビーム114および第2の荷電粒子ビーム116に形成することと、第1の荷電粒子ビーム114および第2の荷電粒子ビーム116のうちの少なくとも一方の焦点特性を修正することと、を含む。第1の荷電粒子ビーム114と第2の荷電粒子ビーム116との対応する焦点面が異なるように、第1の荷電粒子ビーム114および第2の荷電粒子ビーム116のうちの少なくとも一方の焦点特性が、修正される。 【選択図】図1

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