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公开(公告)号：JP5926330B2
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：JP2014145038
申请日：2014-07-15
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公开(公告)号：JP5863767B2
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：JP2013503863
申请日：2011-04-06
CPC分类号： C11D3/392 , C11D1/02 , C11D1/66 , C11D1/83 , C11D17/042 , C11D17/043 , C11D17/045
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公开(公告)号：JP2016503833A
公开(公告)日：2016-02-08
申请号：JP2015553825
申请日：2014-01-16
摘要： 約5重量%〜約20重量%の界面活性剤系を含む液体洗剤であって、上記界面活性剤系が0.20〜1.75のアルコキシル化度を有するアニオン性界面活性剤を含み、前記洗剤は20℃で約2500mPa・s〜約6000mPa・sの注入粘度を有し、中剪断粘度の高剪断粘度に対する比が約2〜約1である、液体洗剤。
摘要翻译： 约5重量％至约20重量％的包含表面活性剂系统，其包含阴离子表面活性剂表面活性剂体系的液体洗涤剂的具有一定程度的0.20至1.75的烷氧基化，该洗涤剂是20℃ 在2500毫帕·秒至约6000毫帕·秒大约一个喷射粘度，对于中剪切粘度的高剪切粘度的比率为约2至约1，液体洗涤剂。
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公开(公告)号：JP2015165025A
公开(公告)日：2015-09-17
申请号：JP2015063551
申请日：2015-03-26
申请人： メラルーカ インコーポレイテッド
发明人： ティペッツ ディネット エム. , カーツ ジェームズ エル. , ブロック アール デイビッド
IPC分类号： C11D1/66 , C11D1/02 , C11D1/04 , C11D1/68 , C11D1/70 , C11D1/74 , C11D1/75 , C11D1/72 , C11D1/52 , C11D1/22 , C11D1/29 , C11D1/12 , C11D1/14 , C11D1/18 , C11D1/28 , C11D3/37 , C11D3/20 , C11D3/43 , C11D3/04 , C11D3/386 , C11D3/40 , C11D3/50 , C11D3/395 , D06F35/00 , C11D17/08
CPC分类号： C11D1/83 , C11D3/046 , C11D3/2041 , C11D3/2068 , C11D3/43 , C11D1/143 , C11D1/146 , C11D1/22 , C11D1/29 , C11D1/662 , C11D1/667 , C11D1/72 , C11D1/74
摘要： 【課題】低温(例えば、約14℃〜約19℃)において優れた水分散性を有する超濃縮液体洗濯洗剤(1回の洗濯量あたり約1液量オンスまたはそれ未満の用量)の提供 【解決手段】(a)約25〜約60重量%の非イオン性界面活性剤、(b)約5〜約30重量%のアニオン性界面活性剤、(c)約0.5〜約18重量%の冷水分散助剤(例えば、可溶性のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、ポリエチレングリコール、一価アルコール、多価アルコール、グリコールエーテル、ハイドロトロープ、ベンジルアルコールなど)、および(d)約0〜約60重量%の水を含む、超濃縮液体洗濯洗剤組成物 【選択図】なし
摘要翻译： 要解决的问题：提供在低温（例如约14℃至约19℃）下具有优异的水分散性的超浓缩液体衣物洗涤剂，其剂量为每洗涤量约1流体盎司或更少。解决方案： 超浓缩液体衣物洗涤剂组合物包含：（a）约25至约60重量％的非离子表面活性剂; （b）约5至约30重量％的阴离子表面活性剂; （c）约0.5至约18重量％的冷水分散助剂（例如可溶性碱金属盐，碱土金属盐，聚乙二醇，一元醇，多元醇，二醇醚，水溶助长剂，苯甲醇等） ; 和（d）约0至约60重量％的水。
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公开(公告)号：JP2014534279A
公开(公告)日：2014-12-18
申请号：JP2014531942
申请日：2012-09-20
发明人： ジェフリー、ジョン、シャイベル , ロバート、エドワード、シューメイト , ジャネット、ビラロボス、リンゴーズ , ステファニー、アン、アービン , ランダル、トーマス、ライルマン , ケネス、ネイサン、プライス
IPC分类号： C11D1/02 , C11D1/38 , C11D1/62 , C11D1/66 , C11D1/88 , C11D3/386 , C11D3/395 , C11D3/50 , C11D17/00 , D06L1/12
CPC分类号： C11D1/00 , C11D1/02 , C11D1/146 , C11D1/29 , C11D1/37 , C11D1/62 , C11D1/66 , C11D1/662 , C11D1/72 , C11D1/75 , C11D1/83 , C11D1/86 , C11D1/90 , C11D1/92 , C11D1/94
摘要： 本発明は、画定された比の選択されたイソプレノイド系界面活性剤のブレンドを含有する洗剤組成物、並びに、その作製及び使用方法に関する。更に、1種以上のポリアルキルイソプレノイド系界面活性剤のブレンドを0.01%〜25%含むカチオン性界面活性剤系を含む洗剤組成物が開示される。
摘要翻译： 本发明是含有定义的所选基于类异戊二烯的表面活性剂的混合比率的洗涤剂组合物，以及制备和使用它们的方法。 此外，包含阳离子表面活性剂系统，其包含聚烷基的一个或多个的混合物的洗涤剂组合物的类异戊二烯系表面活性剂0.01％至25％中被公开。
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公开(公告)号：JP2014531498A
公开(公告)日：2014-11-27
申请号：JP2014531956
申请日：2012-09-20
发明人： アダム ダブリュ． ジャーメイン , アダム ダブリュ． ジャーメイン , カロジェロ エイ． ディステファノ , カロジェロ エイ． ディステファノ , クワンリン サン , クワンリン サン , チャールズ クローフォード , チャールズ クローフォード , イーゴリ アニスモブ , イーゴリ アニスモブ , ロバート エム． ドリス , ロバート エム． ドリス
CPC分类号： C11D1/83 , A61K8/40 , A61K8/466 , A61Q5/02 , A61Q19/10 , C11D1/12 , C11D1/123 , C11D1/28 , C11D1/75 , C11D3/30 , C11D3/34 , C11D11/0011 , C11D11/0017 , C11D11/0023 , C11D17/043
摘要： 本発明は、冷水および硬水洗濯用途において有用な液体洗浄組成物、ならびにそのような組成物を作製および使用するための方法を提供する。本発明の組成物は、低温において、通常よりも高い濃度において、および/または硬水中において増加した溶解性/安定性を有するα-スルホ脂肪酸エステルまたはそれらの混合物などの界面活性剤または界面活性剤ブレンドを(任意で1種または複数種の追加の成分と共に)使用し、本組成物は透明液体のままである。ある態様において、本発明の組成物は、単位用量の形態で、例えば、水溶性パックまたはポーチ中に提供され得る。使用において、本発明の組成物は、洗浄力を高め、同時に、機械中に、洗濯済みの衣類上に、または洗浄済みの食器もしくは硬表面上に、およびパーソナルケア状況での身体上に残る残留物の量を減らし、特に、より低温で保管または使用した場合に、より長い保存寿命を示す。
摘要翻译： 本发明提供了在冷水和硬水洗衣应用有用的液体清洁组合物，以及用于制备和使用此类组合物的方法。 本发明的/组合物中，中冷器，在比通常高的浓度，和/或在硬水中的溶解度增加的具有稳定性α-磺基脂肪酸酯或表面活性剂或表面活性剂，如它们的混合物 所使用的共混物（任选地与一种或多种另外的成分），该组合物仍然是清澈的液体。 在一些实施方案中，本发明的组合物，以单位剂量的形式，例如，可在水溶性包装或小袋提供。 残留在使用中，本发明的组合物中，以提高去污力，同时，在一台机器，在清洗已经服装，或在洗涤碗碟或硬表面，和残留在个人护理情况身体 降低产品的量，特别是，在多个存储或使用在低温，示出了一个较长的保质期的情况。
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公开(公告)号：JPWO2012144438A1
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：JP2013510977
申请日：2012-04-13
申请人： ライオン株式会社
CPC分类号： C11D1/83 , C11D1/28 , C11D1/722 , C11D1/74 , C11D3/2068
摘要： 本発明は、特定の脂肪酸アルキルエステルスルホネート(A)と、特定の脂肪酸アルキルエステルアルコキシレート(B)と、炭素数2〜4のアルコール及び一般式(c−1)で表される化合物より選択される少なくとも一種の有機溶剤(C)とを含有し、(A)成分と(B)成分との合計が40質量%以上であり、(A)成分/(B)成分(質量比)=5/95〜60/40であり、[(A)成分+(B)成分]/(C)成分で表される質量比が23以下である液体洗浄剤に関する。式(c−1)中、R6は炭素数1〜6のアルキル基又はフェニル基であり、R7は炭素数2〜4のアルキレン基である。nはOR7の平均繰返し数を示し、1〜5の数である。本発明によれば、液流動性と液安定性が良好で、種々の汚れに対して高い洗浄力を有し、特に、臭い除去性と被洗物に直接塗布して汚れを除去するのに必要な塗布洗浄力とに優れた液体洗浄剤を提供できる。[化1]
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29.发明专利Semiconductor device cleaning liquid and method for cleaning semiconductor device substrate 有权半导体器件清洗液和清洁半导体器件基片的方法
公开(公告)号：JP2013229570A
公开(公告)日：2013-11-07
申请号：JP2013026858
申请日：2013-02-14
发明人： HARADA KEN , ITO ATSUSHI , SUZUKI TOSHIYUKI
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D1/22 , C11D1/75 , C11D1/83 , C11D1/831 , C11D3/02 , C11D3/044 , H01L21/02074
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning liquid and cleaning method, used in a cleaning process after a CMP process for a semiconductor device substrate, specifically a semiconductor device substrate having metal wiring on a surface thereof, and capable of removing fine particles derived from the CMP process and suppressing readhesion of the fine particles on a substrate surface, without causing corrosion of metal such as Cu.SOLUTION: A cleaning liquid for a semiconductor device contains the following components (1)-(5): (1) inorganic alkali; (2) a chelating agent; (3) an anionic surfactant selected from sulfonic acid type and sulfuric acid type; (4) an amine oxide-type surfactant; and (5) water.
摘要翻译： 要解决的问题：提供一种用于半导体器件基板的CMP工艺之后的清洁工艺中的清洗液和清洁方法，具体地说，在其表面上具有金属布线的半导体器件基板，并且能够除去由 CMP处理，抑制细小颗粒在基片表面上的再粘附，而不会引起金属如Cu的腐蚀。溶解：半导体器件用清洗液含有以下组分（1） - （5）：（1）无机碱 ; （2）螯合剂; （3）选自磺酸型和硫酸型的阴离子表面活性剂; （4）氧化胺型表面活性剂; 和（5）水。
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公开(公告)号：JP2013537580A
公开(公告)日：2013-10-03
申请号：JP2013524862
申请日：2011-08-02
发明人： ジスラン ブレックマン カール , クロルズ ロウル , フィリップ ベッティオル ジャン−リュック
摘要： The need for a liquid hand dishwashing detergent composition, having excellent low temperature stability and delivering good cleaning and long-lasting suds, is met by incorporating a branched, alkoxylated nonionic surfactant, in combination with ethoxylated anionic surfactants having little or no branching, into the composition. Surprisingly, such a combination also provides an excellent sudsing profile during direct application dishwashing methods.
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