公开(公告)号：JP6936915B2

公开(公告)日：2021-09-22

申请号：JP2020505186

申请日：2018-08-01

Applicant: ガタン インコーポレイテッド ,  GATAN,INC.

Inventor： ジェイムズ、エドワード マイケル ,  トウェステン、レイ ダッドリー

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/28

公开(公告)号：JPWO2020075241A1

公开(公告)日：2021-09-02

申请号：JP2018037738

申请日：2018-10-10

Applicant: 株式会社日立ハイテク

Inventor： 玉置 央和

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/22

Abstract: 荷電粒子線システムの制御システムは、荷電粒子線装置によって取得された像または信号の少なくとも一部に対して、ウェーブレット変換または離散ウェーブレット変換による多重解像度解析を行うことによって第1の係数を求める。制御システムは、第1の係数または第1の係数の絶対値の少なくとも一部に対して、最大値の計算、大きさに関する順序の中で指定された順位に対応する数値の計算、ヒストグラムに対するフィッティング、平均値の計算、または総和の計算のうちのいずれかを行うことで第2の係数を求める。

公开(公告)号：JPWO2020053967A1

公开(公告)日：2021-08-30

申请号：JP2018033669

申请日：2018-09-11

Applicant: 株式会社日立ハイテク

Inventor： 庄子 美南 ,  津野 夏規 ,  揚村 寿英

IPC: H01J37/28

Abstract: 試料の電子状態を反映したコントラストを高い感度で得ることが可能な電子線装置を提供する。電子線装置1は、電子線を試料に照射し、試料より放出された放出電子を検出する電子光学系と、試料に光パルスを照射する光パルス照射系と、電子光学系において、電子線の偏向信号と同期して、放出電子の検出サンプリングを行わせる同期処理部17と、電子光学系が検出した放出電子に基づき出力される検出信号より画像を形成する画像信号処理部18と、電子光学系の制御条件を設定する装置制御部19とを有し、装置制御部は、画像の1画素に相当する試料の領域を電子線が走査されるのに要する時間を単位画素時間t pixel とすると、放出電子の検出サンプリングを行うサンプリング周波数f pixel samp を、単位画素時間あたりの光パルスの照射数N shot を単位画素時間により割った値よりも大きくなるように設定する。

公开(公告)号：JP2021521595A

公开(公告)日：2021-08-26

申请号：JP2020556769

申请日：2019-04-23

Applicant: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： ヘンペニウス,ピーター,ポール ,  ホル,スヴェン,アントワン,ヨハン ,  クレマーズ,マールテン,フランス,ヤヌス ,  ヴァン デ グローズ,ヘンリカス,マルティヌス,ヨハネス ,  ボッシュ,ニールズ,ヨハネス,マリア ,  バッゲン,マーセル,コエンラード,マリエ

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01J37/28 ,  H01J37/20

Abstract: 電子ビーム装置が開示され、ツールは、電子ビームをオブジェクト上に投影するように構成された電子光学系システム(500)、オブジェクトを保持するためのオブジェクトテーブル、及び、電子光学系システムに関してオブジェクトテーブル(520)を移動させるように構成された位置決めデバイス(510)を備える。位置決めデバイスは、電子光学系システムに関してオブジェクトテーブルを移動させるように構成されたショートストロークステージ(512)、及び、電子光学系システムに関してショートストロークステージを移動させるように構成されたロングストロークステージ(511)を備える。電子ビーム装置は、位置決めデバイスによって生成される磁気外乱から電子光学系システムを遮蔽するための磁気シールド(540)を更に備える。磁気シールドは、位置決めデバイスと電子光学系システムとの間に配置することができる。 【選択図】 図5

公开(公告)号：JP6920545B2

公开(公告)日：2021-08-18

申请号：JP2020512850

申请日：2018-09-14

Applicant: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： ワン,ヨンジン ,  ライ,ルイ−リン ,  ドン,ゾンファ

IPC: H01J37/28 ,  H01L21/66 ,  G01T1/24 ,  H01J37/244

公开(公告)号：JP2021119565A

公开(公告)日：2021-08-12

申请号：JP2021068172

申请日：2021-04-14

Applicant: アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド ,  APPLIED MATERIALS,INCORPORATED

Inventor： ムエラー ベルンハルト ゲー ,  トラウナー ロベルト ,  シューレル ベルンハルト ,  スタファンソン ペーター ツェー ,  ビィルディ クルプリート シング ,  ダイケル フォルケル

IPC: G01B15/00 ,  H01J37/28 ,  H01J37/147 ,  H01J37/22

Abstract: 【課題】ディスプレイ製造用基板上での自動限界寸法測定方法を提供する。 【解決手段】自動限界寸法測定方法は、荷電粒子ビームを用いて第1サイズを有する第1視野590を走査して、ディスプレイ製造用基板の第1部分の第1解像度を有する第1画像を取得する工程と、第1画像内のパターンであって、第1位置を有するパターンを決定する工程と、荷電粒子ビームで第2視野190を走査して、基板の第2部分の第2画像を取得する工程であって、第2視野は、第1サイズよりも小さい第2サイズと、第1位置に対して相対的に設けられた第2位置を有し、第2画像は第1解像度よりも高い第2解像度を有している工程とを含む。 【選択図】図6A

公开(公告)号：JPWO2020021649A1

公开(公告)日：2021-08-05

申请号：JP2018027859

申请日：2018-07-25

Applicant: 株式会社日立ハイテク

Inventor： 小松崎 諒 ,  澤田 淳

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/28 ,  G06F3/0481 ,  H01J37/24

Abstract: 本発明は、ユーザにとって必要な機能をGUI上で簡単かつ迅速に呼び出すことができる荷電粒子線装置を提供することを目的とする。本発明に係る荷電粒子線装置は、前記荷電粒子線装置の動作履歴にしたがって、コンポーネントセット上に配置することを推奨する操作コンポーネントを提示する(図5参照)。

公开(公告)号：JP6914666B2

公开(公告)日：2021-08-04

申请号：JP2017021166

申请日：2017-02-08

Applicant: 日本電子株式会社

Inventor： 應本 和也

IPC: H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J37/295 ,  H01J37/05

公开(公告)号：JP6914438B2

公开(公告)日：2021-08-04

申请号：JP2020520909

申请日：2018-05-22

Applicant: 株式会社日立ハイテク

Inventor： 森下 英郎 ,  孝橋 照生 ,  揚村 寿英

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/18 ,  H01J37/05 ,  G01N23/225 ,  H01J37/244

公开(公告)号：JP6913344B2

公开(公告)日：2021-08-04

申请号：JP2017060905

申请日：2017-03-27

Applicant: 株式会社日立ハイテクサイエンス

Inventor： 岩堀 敏行

IPC: H01J37/28