公开(公告)号：JP2008058091A

公开(公告)日：2008-03-13

申请号：JP2006234057

申请日：2006-08-30

Applicant: Otsuka Denshi Co Ltd ,  大塚電子株式会社

Inventor： NAKAMURA KENJI ,  SHIRAIWA HISASHI

IPC: G01M11/00 ,  G02B5/00 ,  G02B5/20 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B21/086 ,  G01N21/25 ,  G02B5/201

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To allow the size of a lighting spot U to be changed without rearranging an aperture unit. SOLUTION: The variable-aperture inspection optical system comprises: a variable-aperture unit 13 having a polygonal transmission part; and light collecting optical systems 12a, 12b for forming the lighting spot of light passed through the variable-aperture unit 13 at the position of a sample S. The variable-aperture unit 13 changes the shape and size of its polygon. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：允许改变照明点U的大小而不重新安排光圈单元。 解决方案：可变光圈检查光学系统包括：具有多边形透射部分的可变孔径单元13; 以及用于形成在样品S的位置处通过可变孔径单元13的光的点光的聚光光学系统12a，12b。可变孔径单元13改变其多边形的形状和尺寸。 版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4035250B2

公开(公告)日：2008-01-16

申请号：JP1595899

申请日：1999-01-25

Applicant: 大塚電子株式会社

Inventor： 康博 佐藤 ,  恵子 北岸

IPC: G01N21/59 ,  G01N27/447 ,  G01J1/04 ,  G01N21/01

公开(公告)号：JP3980457B2

公开(公告)日：2007-09-26

申请号：JP2002273845

申请日：2002-09-19

Applicant: 大塚電子株式会社

Inventor： 且廣 森沢 ,  和典 筒井 ,  尚司 藤本 ,  篤 豊島 ,  三直 関和

IPC: G01N15/00 ,  G01N21/49

公开(公告)号：JP2005333564A

公开(公告)日：2005-12-02

申请号：JP2004152077

申请日：2004-05-21

Applicant: Otsuka Denshi Co Ltd ,  大塚電子株式会社

Inventor： OKA KOICHI

IPC: H04N17/04 ,  G09G5/00 ,  H04N17/00 ,  H04N17/02

CPC classification number: H04N17/04 ,  G09G3/006 ,  G09G5/00

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To evaluate motion picture quality of a display by using a motion picture evaluation index easy to be intuitively understood.
SOLUTION: Measuring patterns are moved on the display to allow a visual field of an image sensor to follow the measuring patterns, thereby taking an image of the measuring patterns. Based upon the image taken, a motion picture response curve is determined. Next, the motion picture response curve obtained is converted into a MTF (Modulation Transfer Function). A specified space frequency value N_Sf (a%) is obtained which begins to lower from the brightest part of the MTF at a given rate. By using the specified space frequency value N_Sf (a%), the motion picture quality of the display is evaluated.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Abstract translation: 要解决的问题：通过使用容易直观地理解的电影评估指标来评估显示器的运动画面质量。

解决方案：测量图案在显示屏上移动，以允许图像传感器的视野跟随测量图案，从而获取测量图案的图像。 基于所拍摄的图像，确定运动图像响应曲线。 接下来，将获得的动态图像响应曲线转换为MTF（调制传递函数）。 获得指定的空间频率值N_Sf（a％），其以给定速率从MTF的最亮部分开始降低。 通过使用指定的空间频率值N_Sf（a％），评估显示的动态画面质量。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：JPWO2002065053A1

公开(公告)日：2004-06-17

申请号：JP2002564326

申请日：2001-02-09

Applicant: 大塚電子株式会社

Inventor： 知広 銅田 ,  知広 銅田 ,  雅也 瀧沢 ,  雅也 瀧沢

IPC: G01B11/06 ,  G01B11/14 ,  G02F1/13

CPC classification number: G02F1/1309 ,  G01B11/065 ,  G01B11/14

Abstract: 本発明は、偏光子14の偏光角θ1を設定し、液晶セル15のクロスニコル状態での反射強度S1と、リファレンス反射強度Ref1を測定し、異なる偏光角θ2を設定し、液晶セルのクロスニコル状態での反射強度S2と、リファレンス反射強度Ref2を測定し、測定強度の比S1/Ref1、S2/Ref2を求め、それらの比S1・Ref2/S2・Ref1をとることにより、リファレンスの反射強度Ref1,Ref2に入っているバックグランド成分をうち消すようにした。これにより、セルギャップの値を精度よく求めることができる(図1)。

公开(公告)号：JPWO2020174547A1

公开(公告)日：2021-12-23

申请号：JP2019007128

申请日：2019-02-25

Applicant: 大塚電子株式会社

Inventor： 梶原 新平 ,  菊地 史人

IPC: A61N5/06

Abstract: 限られた個数の光検出器により発光素子の光量を正しく検出できるコンパクトな光線力学治療装置を実現する。本開示の光線力学治療装置は、複数のグループのいずれかにそれぞれ属する複数の光源(110)を備える発光部(112,112)と、1以上の前記光源(110)からの光の受光量に応じた電気信号を出力する光検出器(120X,120Y)と、前記複数の光源(110)を前記グループ毎に順次発光させる発光制御部(160)と、前記各グループに属する1以上の前記光源(110)と前記光検出器(120X,120Y)との距離に関する距離係数と、該グループに属する1以上の前記光源からの光に応じて前記光検出器(120X,120Y)により出力される前記電気信号の値と、に基づいて、前記各グループに属する1以上の前記光源の光量に関するグループ光量値を算出する演算部(151)と、を含む。

公开(公告)号：JP2021171665A

公开(公告)日：2021-11-01

申请号：JP2020074357

申请日：2020-04-17

Applicant: 大塚電子株式会社

Inventor： 大久保 和明

IPC: C02F1/32 ,  A61L9/20 ,  A61L2/10 ,  B01J19/12

Abstract: 【課題】紫外線による殺菌処理において、より効率的に紫外線を利用する。 【解決手段】紫外線照射装置は、紫外線によって対象物を殺菌する紫外線照射装置であって、前記対象物を収容可能な収容部と、前記収容部に取り付けられ、前記収容部の内部に向けて紫外線を照射可能な複数のLEDと、前記収容部の内面に設けられた拡散反射コーティングとを備える。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP2021113799A

公开(公告)日：2021-08-05

申请号：JP2020168239

申请日：2020-10-05

Applicant: 大塚電子株式会社

Inventor： 田口 都一 ,  入江 優

IPC: G01B11/06

Abstract: 【課題】より正確に測定対象物の透過率または反射率を測定する。 【解決手段】光学測定装置は、複数波長を含む照射光を測定対象物へ照射する照射光学系と、前記測定対象物への前記照射光の照射により前記測定対象物から生じる透過光または反射光である測定光を受光する受光光学系と、偏光板とを備え、前記偏光板が、前記照射光学系および前記受光光学系のいずれか一方に位置することが可能なように構成される。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6887751B2

公开(公告)日：2021-06-16

申请号：JP2015253670

申请日：2015-12-25

Applicant: 大塚電子株式会社

Inventor： 岡本 宗大 ,  佐野 弘幸

IPC: G02B21/00 ,  G01N21/27

公开(公告)号：JP2021081192A

公开(公告)日：2021-05-27

申请号：JP2019206004

申请日：2019-11-14

Applicant: 大塚電子株式会社

Inventor： 中嶋 一八 ,  野口 宗裕

IPC: G01J3/36 ,  G01J3/02

Abstract: 【課題】CMOSリニアイメージセンサを用いた光学測定装置のリニアリティ補正を高精度に行うこと。 【解決手段】強度一定の基準光を、露光時間を変化させてCMOSリニアイメージセンサの注目受光素子に順次入射させる露光ステップと、前記注目受光素子の測定値を順次取得する測定値取得ステップと、前記測定値に対応する前記露光時間に基づいて得られる線形値と、該測定値との差を示す実リニアリティエラーを順次算出する実リニアリティエラー算出ステップと、前記各実リニアリティエラーに対して、第1リニアリティエラーを示す第1関数のフィッティングを実行するフィッティングステップと、を含む、CMOSリニアイメージセンサを備える光学測定装置のリニアリティ補正方法が提供される。 【選択図】図9