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公开(公告)号：JP2021081192A
公开(公告)日：2021-05-27
申请号：JP2019206004
申请日：2019-11-14
Applicant: 大塚電子株式会社
Abstract: 【課題】CMOSリニアイメージセンサを用いた光学測定装置のリニアリティ補正を高精度に行うこと。 【解決手段】強度一定の基準光を、露光時間を変化させてCMOSリニアイメージセンサの注目受光素子に順次入射させる露光ステップと、前記注目受光素子の測定値を順次取得する測定値取得ステップと、前記測定値に対応する前記露光時間に基づいて得られる線形値と、該測定値との差を示す実リニアリティエラーを順次算出する実リニアリティエラー算出ステップと、前記各実リニアリティエラーに対して、第1リニアリティエラーを示す第1関数のフィッティングを実行するフィッティングステップと、を含む、CMOSリニアイメージセンサを備える光学測定装置のリニアリティ補正方法が提供される。 【選択図】図9
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公开(公告)号：JP2020038226A
公开(公告)日：2020-03-12
申请号：JP2019217885
申请日：2019-12-02
Applicant: 大塚電子株式会社
Abstract: 【課題】比較的短い時間でセットアップでき、かつ、検出感度をより高めることのできる光学特性測定システムを提供する。 【解決手段】第1の測定装置100は、筐体102内に配置された第1の検出素子108と、第1の検出素子に少なくとも部分的に接合し、検出素子を冷却する第1の冷却手段110、111、112、114と、筐体内の検出素子の周囲に生じる温度変化を抑制する抑制手段130、132、136、120とを含む。 【選択図】図4
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2019158892A
公开(公告)日：2019-09-19
申请号：JP2019096215
申请日：2019-05-22
Applicant: 大塚電子株式会社
Abstract: 【課題】比較的短い時間でセットアップでき、かつ、検出感度をより高めることのできる光学特性測定システムが提供される。第1の測定装置と、第1の測定装置より検出感度が低くなるように構成されている第2の測定装置とを含む光学特性測定システムの校正方法が提供される。 【解決手段】ある実施の形態に従えば、第1の測定装置を備える光学特性測定システムが提供される。第1の測定装置は、筐体内に配置された第1の検出素子と、第1の検出素子に少なくとも部分的に接合し、検出素子を冷却する第1の冷却手段と、筐体内の検出素子の周囲に生じる温度変化を抑制する抑制手段とを含む。 【選択図】図4
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公开(公告)号：JP2017020792A
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：JP2015136036
申请日：2015-07-07
Applicant: 大塚電子株式会社
CPC classification number: G01N21/64 , G01N2201/0826 , G01N2201/0833 , G01N2201/1211
Abstract: 【課題】比較的短い時間でセットアップでき、かつ、検出感度をより高めることのできる光学特性測定システムが提供される。第1の測定装置と、第1の測定装置より検出感度が低くなるように構成されている第2の測定装置とを含む光学特性測定システムの校正方法が提供される。 【解決手段】ある実施の形態に従えば、第1の測定装置を備える光学特性測定システムが提供される。第1の測定装置は、筐体内に配置された第1の検出素子と、第1の検出素子に少なくとも部分的に接合し、検出素子を冷却する第1の冷却手段と、筐体内の検出素子の周囲に生じる温度変化を抑制する抑制手段とを含む。 【選択図】図4
Abstract translation: 甲它可以在相对短的时间内建立，并且提供一种能够提高检测灵敏度的光学特性测量系统。 比所述第一测量装置的光学特性测量系统的灵敏度和第二测量装置的第一测量装置，校准方法被配置为低处。 根据一个实施方式，提供了包括第一测量装置的光学特性测量系统。 第一测量装置包括设置在所述壳体中的第一检测元件，至少部分地结合到所述第一检测元件，第一冷却装置，用于冷却所述检测器元件，所述检测装置的壳体 的以及抑制装置，用于抑制在周围发生的温度变化。 点域4
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